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汪建军  方泽波  冀婷  朱燕艳  任维义  张志娇 《物理学报》2012,61(1):17702-017702
利用分子束外延系统在Si (001) 衬底上制备了单晶Tm2O3薄膜, 利用X射线光电子能谱研究了Tm2O3相对于Si的能带偏移. 得出Tm2O3相对于Si的价带和导带偏移分别为3.1 eV± 0.2 eV和1.9 eV± 0.3 eV, 并得出了Tm2O3的禁带宽度为6.1 eV± 0.2 eV. 研究结果表明Tm2O3是一种很有前途的高k栅介质候选材料. 关键词: 2O3')" href="#">Tm2O3 X射线光电子能谱 能带偏移  相似文献   
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