静止轨道高光谱海洋水色仪光学系统设计

设计了由超大口径前置望远系统和超大视场光谱仪组成的超大口径高光谱海洋水色仪.前置望远系统采用同轴三反光学系统结构,口径为4 m,视场为0.64°,焦距为21.6 m,波段范围为400~1 000nm.超大视场光谱仪采用改进的Offner结构,视场为240mm,光谱分辨率为10nm.探测器像元尺寸为15μm×15μm,4片探测器交错拼接实现400km幅宽.超大视场光谱仪在400~1 000nm的宽波段内,点列图半径的均方根值均小于3.9μm,静止轨道高光谱海洋水色仪全系统不同波长的MTF在33.3lp/mm处大于0.52,各项指标均满足应用要求.     

功能性有序微结构的制备及潜在应用

随着科技的发展进步,具有特殊功能的有序微结构日渐引起人们浓厚的研究兴趣,并被广泛应用于微电子器件、微反应器、生物化学传感器以及光学器件等领域.本文总结了我们课题组在微观表面图案化和有序微结构制备及应用方面的研究工作,重点介绍我们在该方向工作的最新进展,并对该领域的发展前景进行了展望.     

核壳乳液在电解质作用下的破乳过程

核壳乳液在电解质作用下的破乳过程;分光光度计;核壳乳液;电解质;乳液破乳     

利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层

微米和纳米尺度的图案化表面的制备在微电子、光学、生物、化学和材料科学等领域具有重要的科学意义和应用价值 [1～ 3 ] .由于需要复杂昂贵的设备和苛刻的工作环境 ,光刻技术难以广泛应用于微电子以外的领域 ,因此 ,发展简单、便宜、适用于普通实验室 (尤其是化学实验室 )的表面图案化技术已成为一个涉及众多学科领域的课题 .在近年来不断涌现出来的物理、化学和生物的表面图案化技术 [4～ 6]中 ,最具代表性的是由 Whitesides等 [7]发明的以表面具有微观图案的聚二甲基硅氧烷 (PDMS)弹性体作为模具或印章的软光刻技术 .结合溶胶 -凝胶、…     

荧光纳米晶制备及其与聚合物的复合组装

纳米尺寸无机晶体(纳米晶)具有特殊的光、电和磁等性能, 但这类材料通常以胶体溶液或固体粉末的状态存在, 稳定性和分散性较差. 实现这类材料的应用, 需要将其与一些惰性介质复合, 从而提高稳定性和加工性. 聚合物材料作为一种有机惰性介质, 具有良好的材料兼容性和可加工性, 是稳定纳米晶材料的首选介质. 此外, 很多聚合物材料本身也具备特殊的性能, 可以对纳米晶性能进行有益的补充和调节. 因此, 功能纳米晶材料与聚合物复合, 将成为开启材料性能宝库的钥匙. 我们研究组结合自己的相关研究, 系统总结了荧光纳米晶材料与聚合物的复合组装方法, 着重阐述不同方法的优势及意义, 希望对从事这一前沿领域研究的人们有所启发.     

结合表面引发的原子转移自由基聚合和气/固反应制备CdS纳米微粒/聚苯乙烯核壳微球

结合表面引发的原子转移自由基聚合和气/固反应制备CdS纳米微粒/聚苯乙烯核壳微球. 以表面富含环氧基团的聚苯乙烯微球为基底, 利用开环反应在水相中一步接枝表面引发剂, 然后在聚苯乙烯微球表面引发甲基丙烯酸镉的原子转移自由基聚合, 最后通入H2S气体原位生成CdS纳米微粒. 生成的CdS纳米微粒复合的核壳微球呈草莓状形貌, 且具有良好的光学性能.     

分子设计合成高折光指数的光学树脂（Ⅲ）：MMDMA的合成及？…

采用盐酸／硫脲法合成了２－巯基甲基－１，４－二硫杂环己烷，利用反滴碱液的低温相转移催化技术合成了２－甲基丙烯酰硫基甲基－１，４－二硫杂环己烷，讨论了ＭＭＤ合成过程中的结构变化，研究了ＭＭＤＭＡ的共聚性能，合成了折光指数高，色散能力低的新型光学树脂。     

高折光指数光学树脂的合成——相转移法合成不饱和硫醇酯单体的条件控制

采用正常的低温相转移催化（ＰＴＣ）和反滴碱溶液ＰＴＣ法分别合成了含硫双烯ＭＥＳＤＭＡ和单烯ＭＥＰＳＭＡ．１Ｈ ＮＭＲ分析证明ＭＥＳ中的杂质主要是由原料ＴＤＧ引入的．对含单个巯基的ＭＥＰＳ的正常ＰＴＣ酯化接枝双键，因存在巯基和不饱和双键的加成反应而导致失败．作者最终得到了折光指数在１６２５以上的ＭＥＳＤＭＡ／ＭＥＰＳＭＡ共聚物．     

可交联聚甲基丙烯酸甲酯的合成、表征及在阵列式波导光栅中的应用

合成了含环氧基团的可交联的甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸环氧丙酯的共聚物[Poly(MMA-co-GMA)],通过FTIR,NMR,GPC,DSC和AFM等技术对其进行了表征. 结果表明,所合成的聚合物材料具有较好的成膜性; 通过热固化使引入的环氧基团开环交联,该聚合物的玻璃化转变温度(Tg)比固化前提高了24 K,同时有效地降低了聚合物的双折射率. 用Poly(MMA-co-GMA)作为包层材料,双酚A型环氧化合物作为高折射率材料, 将其引入到包层材料中形成芯层材料的折射率在波长1.55 μm处可调,其范围是1.483~1.588. 采用旋涂、 铝掩膜和氧反应离子刻蚀的方法(RIE)制得了阵列式光波导. 测试结果表明,制作的波导在1.55 μm处实现了光的单模传输,光损小于3.0 dB/cm.