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通过射频磁控溅射法制备了Fe_Si_B_Nb_Cu薄膜,采用x射线衍射与Mssb auer谱相结合分析了薄膜的微结构形态,研究了不同溅射功率对薄膜微结构的影响.其结果 表明:在较低溅射功率密度下,薄膜为无定型结构;随着溅射功率密度升高,沉积薄膜无需 热处理,便呈现出晶态和非晶态的混合相结构,晶态为纳米级的α_Fe(Si)和α_Fe(B)固溶 体;α_Fe(Si)相和α_Fe(B)相的体积分数、微结构组态、磁矩取向及宏观磁性能均随着溅 射功率的变化而变化.
关键词:
溅射功率
Fe_Si_B_Nb_Cu合金
薄膜微结构
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