全文获取类型
收费全文 | 160篇 |
免费 | 77篇 |
国内免费 | 17篇 |
专业分类
化学 | 17篇 |
晶体学 | 27篇 |
力学 | 7篇 |
综合类 | 1篇 |
物理学 | 202篇 |
出版年
2023年 | 4篇 |
2022年 | 9篇 |
2021年 | 2篇 |
2020年 | 2篇 |
2019年 | 11篇 |
2018年 | 5篇 |
2017年 | 3篇 |
2016年 | 5篇 |
2015年 | 17篇 |
2014年 | 15篇 |
2013年 | 20篇 |
2012年 | 12篇 |
2011年 | 15篇 |
2010年 | 14篇 |
2009年 | 21篇 |
2008年 | 13篇 |
2007年 | 5篇 |
2006年 | 10篇 |
2005年 | 8篇 |
2004年 | 11篇 |
2003年 | 5篇 |
2002年 | 6篇 |
2001年 | 8篇 |
2000年 | 6篇 |
1999年 | 4篇 |
1998年 | 1篇 |
1997年 | 1篇 |
1996年 | 4篇 |
1995年 | 6篇 |
1994年 | 1篇 |
1992年 | 4篇 |
1991年 | 1篇 |
1990年 | 2篇 |
1989年 | 1篇 |
1986年 | 1篇 |
1985年 | 1篇 |
排序方式: 共有254条查询结果,搜索用时 31 毫秒
21.
K9玻璃是常用的光学和微系统材料。随着光学和微系统技术的迅速发展,由于具有较低廉的价格、良好的微加工性能,在K9玻璃上制作微米、纳米尺度的微结构和微器件的技术,已应用于光电子、微波技术、衍射光学元件等众多领域。但是,由于光学和微波等器件的表面粗糙可引起光散射和信号损失,从而降低器件性能。因此材料表面的超光滑处理对提高光学和微波等器件的性能具有十分重要的意义。 相似文献
22.
工具定位精度和工艺合理性规划是影响自由曲面表面高质量制造的主要因素。研究了立足计算机控制的确定性制造概念。借助于多自由度机构平台,采取点对点的材料去除方式,针对具有非平缓变化曲率或陡度的自由曲面表面,设计工具结构、规划抛光路径,实施快速均匀抛光,为构建自由曲面计算机控制制造专家系统提供了支撑。 相似文献
23.
用合成的S iO2-CeO2复合氧化物对单晶硅片进行抛光,测定其抛光速率与制备条件及浆料配制条件之间的关系。结果表明:经800℃煅烧后制得的硅铈摩尔比nS iO2∶nCeO2为2∶1的复合氧化物对硅片具有最大的抛蚀速率。与此同时,选用三乙醇胺和六偏磷酸钠分别作为浆料的pH调节剂和分散剂可以获得理想的浆料分散性和悬浮稳定性。确定了抛光浆料的最佳pH值和固含量分别为11和4%。 相似文献
24.
光学玻璃加工破坏层研究及粗磨、精磨、抛光工序加工余量的合理匹配 总被引:5,自引:1,他引:4
本文通过用五种散粒磨料(碳化硅)、五种固着磨料(金刚石)对八大类常用光学玻璃进行加工,用扫瞄电子显微镜观察其表面形貌,用抛测法测出其破坏层深度,得出一系列破坏层的深度数值,从而找出破坏层与磨料之问的函数关系。以破坏层的绝对深度为依据,得出光学加工中精磨、抛光工序的加工余量的合理匹配值。 相似文献
25.
为了适应Z箍缩物理实验的发展,研究了超细钨丝和钼丝的制备工艺、钨丝表面镀金工艺、氘代聚合物纤维制备工艺和表面纳米涂层银工艺,初步进行了导电聚合物的研究,调研了研制丝阵负载自动绕丝设备的可行性,研究了各种丝阵负载的结构及靶场安装调试工艺,完成了3轮Z箍缩物理试验用负载的制备任务。 相似文献
26.
27.
研究了针对600mm口径方形轻质碳化硅元件的数控抛光工艺过程,采用国产OP1000数控研磨抛光机床对一块600mm×480mm的方形碳化硅元件进行数控抛光加工。在经过两周的加工时间,碳化硅光学元件的通光口径均方根(RMS)值收敛到了35nm(大约为λ/18,λ=632.8nm)。在加工过程中针对大口径椭圆形碳化硅反射镜采用了合适的加工参数优化,例如在加工过程中的不同阶段选择了不同颗粒度的金刚石微粉作为特定阶段的抛光辅料以保证光学元件的表面粗糙度。对计算机控制数控加工技术的快速收敛过程也进行了阐释。 相似文献
28.
29.
气囊数控抛光是近年来一种新兴的先进光学制造技术,采用柔性的气囊作为抛光工具并以进动的方式进行加工。首先简要阐述了气囊抛光的抛光原理,然后针对平面和曲面光学零件,在自行研制的气囊抛光实验样机上进行了抛光实验。被抛光光学元件的材料去除是在抛光区内实现的。研究了进动角、气囊压缩量、气囊内部压力、气囊转速、抛光时间以及工件的曲率半径几种重要的工艺参数对平面工件和球面工件抛光接触区大小和形状影响情况的异同。在此基础上,总结了气囊抛光材料去除的影响规律。给出了几种重要工艺参数在平面工件和球面工件上取值范围。 相似文献
30.
高准确度玻璃光学元件的CMP技术研究 总被引:1,自引:0,他引:1
依据化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)加工玻璃光学元件的原理,通过对抛光运动机理的理论分析,提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响,并设计了新的工艺流程.通过工艺试验,完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工,获得了表面质量N<0.2,Rq<0.3 nm的玻璃光学元件. 相似文献