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111.
在半导体光催化剂中,TiO2具有光催化活性高、无毒和抗光腐蚀性好等优点,但纯TiO2光催化剂直接利用太阳光进行光催化氧化的效率较低,而利用贵金属元素和稀土元素等在TiO2中进行掺杂改性时,改性光催化反应必须在高压汞灯或紫外灯下进行,不符合节能原则。 相似文献
112.
用微分脉冲溶出伏安法研究了镍(11)与酸性铬兰K(ACBK)所生成的络合物在悬汞电极上的电化学特性及电化学反应机理,发现电极反应为镍与酸性铬兰K所生成的络合物吸附在电极表面后发生的不可逆还原。在HCl-硼砂介质中(pH8.67),络合物在-316mV处有一吸附还原峰,其峰电流与镍浓度在0.001~0.010μ/mL范围内呈现良好的线性关系,其最低检出浓度为0.0005μg/mL。 相似文献
113.
分子筛经活化后用复合薄膜包装袋封装存放一定时间后使用,由于水汽缓慢渗透和包装袋微量泄漏的存在,可能使分子筛吸湿,从而直接影响其使用效果和有效期,因此试验研究分子筛产品包装贮存前后吸附性能的变化,以验证理论计算结果,并为分子筛应用提供重要的试验依据。 相似文献
114.
碳氢(cH)及其掺杂材料常被用作ICF实验靶丸烧蚀层材料。制备CH薄膜及其掺杂材料的方法有很多,诸如:离子束辅助沉积、离子溅射沉积、低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)等。近年来,详细研究了LPPCVD法制备CH薄膜的制备方法与工艺,形成了比较成熟的技术路线与工艺路线,并为“神光”实验提供了一系列实验靶丸。 相似文献
115.
氧碘化学激光气固相化学反应体系热力学分析 总被引:1,自引:1,他引:0
许正 《工程物理研究院科技年报》2004,(1):297-297
氧碘化学激光器(COIL)的发展已经到了提高系统安全性和工作环境适应性、降低系统复杂性阶段,而改进O2(^1△g)的产生方式和方法正是这个阶段的重要工作内容之一。近期,美国空军研究实验室运用气-固相反应方式产生O2(^1△g)。采用碱金属过氧化物或碱土金属过氧化物与卤化氢反应,生成O2(^1△g)。通常气一固相反应有着反应速度慢,接触面积小,反应产物难以脱出固体表面的缺陷,使得产出率低,而不被广泛采用。但随着表面化学研究的突飞猛进,借助表面活化分子,特殊性质的表面构造,大表面的构造,都为气一固相反应的进行提供了可行途径。如果此方法能用在氧碘激光器上,将克服传统方法的诸多不足。 相似文献
116.
117.
氟离子选择电极法在测试中应注意的事项 总被引:7,自引:0,他引:7
氟是人体必需的微量元素 ,成年人平均每人每天氟安全和适宜的摄入量为 3.0~ 4 .5mg[1] ,过多过少都可能引起疾病。氟元素广泛地存在于地表、水体及大气中 ,为食品检验、饮料生产、环境监测、土壤、水质及医药卫生等各个领域的常测项目。其常用的测定方法有茜素酮比色法和氟离子选择电极法。前者是一般化验室常用方法 ,使用试剂较多 ,但结果准确 ;氟离子选择电极法具有电极结构简单牢固、元件灵巧、灵敏度高、响应速度快、便于携带、操作简单 ,能克服色泽干扰 ,以及精度高等优点而被广泛地应用。目前 ,氟离子选择电极法有着逐步取代比色法… 相似文献
118.
KANG Zihua WANG Mingwei QIAN Jiamei RAO Jun LI Xiujuan ZHENG Tieliu WANG Xuehua 《核工业西南物理研究院年报(英文版)》2004,(1):73-76
Lower hybrid wave (LHW), electro cyclotron (EC) and neutral beam injection (NBI) etc. are the important methods of auxiliary heating. They would be devoted to the HL-2A tokamak step by step. In order to satisfy the debug of each system and the need of the experiment, the system should be equipped with high voltage pulse power (HVPP) according to the requirement. 相似文献
119.
对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响. 实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的 主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本 一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.
关键词:
Fe/Si多层膜
层间耦合
界面扩散 相似文献
120.