首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   12篇
  免费   1篇
力学   1篇
综合类   1篇
数学   1篇
物理学   10篇
  2020年   4篇
  2019年   1篇
  2018年   1篇
  2017年   3篇
  2013年   1篇
  2005年   1篇
  2004年   2篇
排序方式: 共有13条查询结果,搜索用时 0 毫秒
11.
为研究A型钝感炸药冲击起爆反应演化过程,进行了火炮驱动蓝宝石飞片的一维平面冲击实验。实验中采用光子多普勒测速仪(Photonic Doppler velocimetry,PDV)技术测量冲击起爆后台阶型炸药的粒子速度。在炸药不同厚度台阶的后界面固定镀铝膜的楔形氟化锂(LiF)窗口,利用阻抗匹配将PDV测量的LiF窗口波后粒子速度转化为炸药样品波后粒子速度。比较组合式电磁粒子速度计和PDV两种测速技术,结果表明,相较于组合式电磁粒子速度计,PDV测量的粒子精度更高。简要分析了PDV测速探头角度、探头孔径、窗口折射率等影响,得到PDV测速的相对不确定度小于1%。  相似文献   
12.
We reported a passive Q-switched diode laser pumped Yb:YAG microchip laser with an ion-implanted semiinsulating GaAs wafer. The wafer was implanted with 400-kev As+ in the concentration of 1016 ions/cm2.To decrease the non-saturable loss, we annealed the ion-implanted GaAs at 500 ℃ for 5 minutes and coated both sides of the ion-implanted GaAs with antireflection (AR) and high reflection (HR) films,respectively. Using GaAs wafer as an absorber and an output coupler, we obtained 52-ns pulse duration of single pulse.  相似文献   
13.
We reported a passive Q-switched diode laser pumped Yb: YAG microchip laser with an ion-implanted semi-insulating GaAs wafer. The wafer was implanted with 400-keV As+ in the concentration of 1016 ions/cm2. To decrease the non-saturable loss, we annealed the ion-implanted GaAs at 500℃ for 5 minutes and coated both sides of the ion-implanted GaAs with antireflection (AR) and high reflection (HR) films, respectively. Using GaAs wafer as an absorber and an output coupler, we obtained 52-ns pulse duration of single pulse.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号