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81.
提出了一种工作在C波段的新型平面结构异向介质,它除了带宽宽和损耗小外,还具有体积小、结构简单的优点,而且能够实现工作频段的平移,频率平移范围为4—20 GHz.基于电磁波由自由空间入射半无限大异向介质平板的传输和反射数据,计算出了电波在其中传播时的相速随频率的变化曲线,结果表明所讨论的异向介质确实在预想的频段上表现出后向波特性;同时利用相位观察法进一步验证了上述的后向波特性,从而肯定了异向介质的存在.
关键词:
异向介质
宽频带
小单元
后向波特性 相似文献
82.
本文研究了一个二阶微分方程的解及其振动性质,利用它获得了一般二阶自共轭方程的振动性判别准则,特别对其中一类二阶微分方程的振动性给出了定量的判别方法.推广了E.Hille的工作,使E.Hille的研究结论成为本文结果的极特殊的情形,同时对一类具有“积分小”系数或可化为具有“积分小”系数的二阶微分方程的振动性与非振动性给出了简便、精确的判别方法. 相似文献
83.
84.
在测量微安表内阻的众多方法中,替代法是最简单的方法。本文全面分析了影响测量结果不确定度的因素,求出了实验测量的最佳条件,计算了普通仪器组合下测量结果的相对不确定度。 相似文献
85.
WANG Jiang-yun GU Wen WANG Wen-zhen LIU Xin LIAO Dai-zheng 《高等学校化学研究》2006,22(3):283-286
Introduction Itiswell knownthatcyanogroupsincyanometa latessuchas[Ag(CN)2]-unitscanbeusedasbridg ingligandsandapolymericstructurecanbeformed throughsilver silver(argentophilic)interactions.This propertyhasbeenexploredintheconstructionofmany oligomericandp… 相似文献
86.
We have proposed a mechanism of nonideality, i.e., the temperature dependence of the ideality factor, in nearly ideal Au/n-Si Schottky barriers. Because of the nature of metal-induced gap states, positively ionized defects close to the interface are considered to cause local lowering of the Schottky barrier height (SBH) due to downward bending of the energy band. These positively charged defects become neutralized in equilibrium with the Fermi level due to the band bending, when they are very close to the interface. However, because the SBH lowering disappears by the neutralization of donor, the energy level of donor with a usual energy level scheme rises above the Fermi level after the neutralization. This contradiction to the equilibrium neutralization is resolved by Si self-interstitial with a large negative-U property, which is generated by the fabrication process. The energy level of the donor estimated from the SBH lowering is in good agreement with that of theoretical calculation of Si self-interstitial. Thus, the defect is concluded to be the Si self-interstitial, which is distributed to more than 10 Å depth from the interface. 相似文献
87.
利用溶胶凝胶法在SiO2Si衬底上沉积高取向的V2O5薄膜,在压强低于2Pa,温度高于400℃的条件下,对V2O5薄膜进行真空烘烤,获得了电阻率变化3个数量级以上、弛豫宽度为62℃的VO2多晶薄膜.以X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)图和电阻率转换特性等实验结果为依据,详细分析了溶胶凝胶薄膜在真空烘烤时从V2O5向VO2的转化,它经历了从VnO2n+1(n=2,3,4,6)到VO2的过程.实验证明,根据选择合适的成膜热处理条件和真空烘烤条件是实现溶胶凝胶V2O5结构向VO2结构成功转换的关键
关键词:
溶胶-凝胶法 氧化钒薄膜 VO2膜转换特性 相似文献
88.
厚胶光刻非线性畸变的校正 总被引:3,自引:0,他引:3
利用厚胶光刻技术制作大深度微结构元件是一种有效的途径,但厚胶光刻过程中的非线性畸变对光刻面形质量的严重影响限制了该技术的应用,基于此,提出了一种对掩模透射率函数进行校正的方法。分析空间像形成及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为2.63%。该方法在有效改善面形质量的同时,并没有引起掩模的设计、制作难度及费用增加,这对于设计、制作高质量的微结构元件有重要意义。 相似文献
89.
We prove that the coinvariant ring of the irreducible Coxeter group of type H4 has the strong Lefschetz property. 相似文献
90.