Chemical analysis of acidic silicon etch solutions: I. Titrimetric determination of HNO3, HF, and H2SiF6

The chemical etching of silicon using HF-HNO₃ mixtures is a widely used process in the processing of silicon wafers for microelectronic or photovoltaic applications. The control of the etch bath composition is the necessary condition for an effective bath utilization, for the replenishment of the consumed acids, and to maintain a certain etch rate. The present paper describes two methods for the total analysis of the individual etch bath constituents HF, HNO₃, and H₂SiF₆. Both methods start with an aqueous acid-base titration determining the total acid concentration and the concentration of H₂SiF₆. The first method is an acid-base titration using a 0.1 mol L⁻¹ methanolic solution of cyclohexylamine (CHA) as non-aqueous titrant to determine the content of nitric acid. Then, the amount of hydrofluoric acid is calculated from the difference between the total acid and nitric acid content. The second method is based on the determination of the total fluoride concentration using a fluoride ion-selective electrode (F-ISE). The content of hydrofluoric acid is obtained from the difference between the total fluoride content and the amount of fluoride bound as H₂SiF₆. The amount of nitric acid results finally calculated as difference to the total acid content.     

用ATRP法构筑核壳型梯度极性的多羟基多臂星状超支化聚合物及聚合物刷——双层聚合物刷的合成与表征

设计并通过原子转移自由基聚合方法 (ATRP)合成了核壳型多羟基多臂星状超支化聚合物刷 .以 2 溴异丁基酰溴封端的超支化聚 (3 乙基 3 羟甲基氧杂环丁烷 ) (HP Br)作为大分子引发剂 ,采用Cu(I)Br和N ,N ,N′ ,N′ ,N″ 五甲基二乙基三胺 (PMDETA)催化体系 ,在丁酮与丙醇的混和溶液中 ,通过甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)的ATRP溶液聚合 ,得到了一系列含有大量羟基的多臂星状超支化聚合物刷 (HP g PHEMA) ,并考察了其羟基的活性 ,发现羟基还可以与苯甲酰氯发生反应 .产物的结构和热性能用1 H NMR、FTIR、GPC、TGA、DSC等进行了表征和测试 .     

三线性直接分解法分析高维灰色体系

对于由多个两维测量数据组成的三维阵，本文提出一种新三线性直接分解方法。采用高维ＰＣＡ分解，从三维阵中直接提取抽象光谱和抽象浓度，再结合ＱＺ算法，唯一地确定混合物中各组分光谱的浓度。该方法可以排除其它未知组分的干扰，适用于高维灰色体系定性定量分析和多点校准。用模拟数据讨论了光谱分离度对该方法的影响，应用于混合维生素Ｂ１、Ｂ２和Ｂ６的荧光分析，求得的光谱和浓度与实验值吻合很好。     

12,14-二羟基紫韧革烯的分离和结构测定

由紫韧革菌(Stereum purpureum)代谢产物中分离出一个新的三环倍半萜烯醇(sterpurenol), 12,14-二羟基紫韧革烯。用二维核磁共振确定了它具有紫韧革烯(sterpurene,1)的骨架及它的整个分子结构。     

La2O3对氧化铝透明陶瓷显微结构和透光性能的影响

采用传统无压烧结工艺在氢气氛下制备Al2O3透明陶瓷。实验结果表明：MgO和La2O3复合添加时，随着La2O3掺杂量的增加体积密度总体上保持上升的趋势。随着保温时间的延长，陶瓷的致密化程度增大，残余气孔逐步排出，晶粒进一步长大。采用La2O3和MgO复合添加比单独掺入MgO陶瓷样品透过率更高，掺杂效果更好。在烧结温度为1750℃，保温时问为1h条件下，在波艮为300～800nm测试范围内，陶瓷样品的全透过率大于82％，最大值为86％。     

气相色谱法分析生产过程中的邻甲基苯胺

气相色谱法测定工业生产过程中邻甲基苯胺及其杂质邻硝基甲苯、间甲基苯胺、对甲基苯胺的含量。4种物质的浓度与色谱峰面积呈良好的线性关系,测定结果与标准值基本一致。邻甲基苯胺、邻硝基甲苯、间甲基苯胺、对甲基苯胺的RSD分别为0.0025%、1.4081%、0.9929%、1.1365%,检出限分别为0.065、0.044、0.062、0.056mg/L。     

1，2—二氯丙烷裂解反应光窗结焦机理的研究

有机化合物在光窗上的结焦严重地影响激光引发化学反应及光学原位实时探测。本文报道在1，2－二氯丙烷反应系统中，光窗结焦现象同时存在于激光引发反应及热反应过程中，对光窗在300℃条件 下的结焦机理研究表明，少量氧气在光窗结焦过程中起关键作用。结焦前驱体的红外光谱研究表明，前驱体的可能结构为1－丙炔－1，3－二醇的缩聚体。该化合物极易通过缩聚反应形成更大的分子，最终导致光 窗结焦。对系统及反应物进行彻底除氧，光窗结焦现象大为改善。     

CO氢化催化剂表面活性位的动态法研究

用程序升温表面反应(TPSR)和程序升温还原(TPR)以及过渡应答(TR)等动态手段研究Ni/Al_2O_3催化剂表面上CO氢化反应的活性位状况。结果表明, 催化剂表面存在两种类型的活性位。其中A位来自表面上的聚晶体Ni, B位来自Ni与载体Al_2O_3强相互作用形成的Ni-Al化合物。实验结果还表明, CO在两个活性位都有吸附, 但在有H_2参与的条件下, 会影响二个活性位上的CO吸附量。     

细胞色素C的电化学行为研究

本文评述了细胞色素Ｃ电化学研究的发展概况，重点介绍了细胞色素Ｃ在促进剂作用下的电化学行为，促进剂种类，影响促进作用的因素及促进机理。     

Synthesis on the basis of electrogenerated carbenes

A series ofS _N2 reactions with halomethanes as substrates and the corresponding anions as nucleophiles were studied by the semiempirical MNDO and AM1 methods, taking into account solvent effects. Analysis of the kinetics, structures of reagents, intermediates and products, and charge distribution in them allows one to draw the conclusion that the retardation ofS _N2 reactions is stronger in solvents than in the gas phase, and the rates of reactions involving anions with a lower number of halogen atoms are higher.For Part 8 see Ref. 1.Translated fromIzvestiya Akademii Nauk. Seriya Khimicheskaya, No. 11, pp. 2148–2154, November, 1995.This work was partially financially supported by the International Science Foundation (Grant No. MHYOO).