三苯甲基自由基及其二聚体稳定性的理论研究

采用量子化学AM1 MO方法优化了三苯甲基自由基及其两种二聚体的构型，并计算了反应物和二聚物的生成焓、活化能以及它们的电荷布居，计算结果表明，三苯甲基自由基是一种较稳定的自由基，在这个自由基中存在明显的共轭效应，分子中电子云呈平均化分布．它的二聚体1，4—环己二烯衍生物分子中的5个苯基排布在环己二烯环平面的两端，明显降低了苯基之间的空间排斥力，使二聚物—环己二烯衍生物分子的稳定性大大高于六苯乙烷．因此，三苯甲基自由基的二聚体是1，4—环己二烯衍生物而不是六苯基乙烷，得到了与实验事实一致的结果。     

4，4′—二偶氮苯重氮氨基偶氮苯与Ag（I）的显色反应及其应用

本文报道了4,4′ -二偶氮苯重氮氨基偶氮苯在Triton X-100存在下与Ag(Ⅰ)的显色反应.在pH10.0的硼砂-氢氧化钠缓冲溶液中,试剂与Ag(Ⅰ)形成1∶1的红色配合物,其最大吸收波长为540nm,表观摩尔吸光系数为7.55×104L*mol-1*cm-1,Ag(Ⅰ)的浓度在0-0.28mg/L范围内符合比耳定律.应用于显影废液和钮扣电池液中Ag的测定,结果令人满意.     

掺杂偶氮苯聚合物光致异构Z扫描测量及其理论解释

用He_Ne激光对掺有偶氮苯聚合物DR 13的PMMA薄膜样品进行Z扫描研究 ,发现其折射率改变量与光强的关系存在着饱和效应 ,且线偏振光引起的折射率改变明显大于圆偏振光引起的折射率改变 .对于这些现象 ,用光致异构的角烧孔机理进行解释     

Synthesis of 2-Acyl-2H-1,2,3-diazaphospholes and Their Diels-Alder Reaction with Cyclopentadiene

2H-1,2,3-Diazaphospholes 3a-3h were prepared from various ketone acylhydrazones and phosphorus trichloride in the presence of triethylamine. Compounds 3 underwent feasible hetero-Diels-Alder reactions with cyclopentadiene to afford the respective anellated [1,2,3]diazaphospholes 4a--4d as well as 4a‘--4d‘ in moderate yields. The endo rule in the reaction was observed under kinetic control conditions.     

New Approach to Synthesis of Tetrahydroisoquino[2,1-c] [1,3]benzodiazepine

A concise and efficient synthesis of the new compounds tetrahydroisoquino [2,1-c] [1,3]benzodiazepine 5 and 7 is reported.     

Regioselective Synthesis of Multi-substituted Phenylselenomethyl Isoxazolines

A mild, regioselective 1, 3-dipolar cycloaddition protocol for the preparation ofphenylselenomethyl isoxazolines through substituted allyl phenyl selenides and nitrile oxides wasreported.     

An Unusual Reductive Ring-opening Reaction of Phthalimide with Sodium Hydride in DMF

An unusual reductive ring-opening reaction of phthalimide with sodium hydride in anhydrous DMF was observed for the first time. The presumed mechanism was described in detail.     

微模塑法制备PMMA/SiO2二氧化硅杂化材料微结构

以摩尔比为 1∶1的甲基丙烯酸甲酯 (MMA)、甲基丙烯酸 (3 三乙氧基硅烷基 )丙酯 (ESMA)单体、0 .2 %(单体总量的质量分数 )的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃 (THF)溶剂 ,及 2 0 % (总质量分数 )的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2 有机 无机杂化的杂化溶胶 .将溶胶在洗净的普通光学玻璃基片表面甩膜 .利用软刻蚀中的微模塑法 ,把有机硅弹性印章复制有精细图纹一面轻放在杂化溶胶膜上进行微模塑 ,外加 1N压力于12 0℃下处理 2h使溶胶凝胶化 .印章剥离后在基片表面就形成了PMMA/SiO2 有机 无机杂化材料的微图纹结构 .从微图纹的光学显微镜照片可以看出微模塑方法制备杂化材料复制的图纹精细度高 ,操作简单易行 ,是一类比较理想的微细图纹结构加工的方法 .