关于C.Fefferman定理与全纯映射的边界扩充

C．Fefferman定理证明了光滑有界强拟凸域之间的双全纯映射可以光滑延拓到边界，这个结果已经被推广到各种情形．其中Bell和Catlin以及Diederich和Fornaess独立地将其推广到拟凸域的逆紧全纯映射．本文较全面地综述了C．Fefferman定理的推广情况以及Bergman投射的边界正则性问题，同时对如何去掉Bell和Catlin以及Diederich和Fornaess定理条件中的拟凸性给出一个新观察，提出一个解决方向并且说明在具体情况下这个新观察确实是可以提供答案的．     

更高分辨率的晶体成像技术

最近发明了一个新的成像技术，能在0．1nm尺度以下观察材料，这个技术也许能使研究人员看到晶格中的单个杂质原子．现有的透射电子显微镜(TEM)不能分辨0．15nm以下的物体，比如晶格中的一个原子队列．Peter D．Nellist和其同事改造了一个TEM，得到了晶体硅的一个直接成像，能分辨出距离为0．078nm的硅原子对．文章作者写道，“这样高的分辨率应该能带来对材料性质的原子尺度的了解，可能会应用于材料、化学和纳米科学”．     

(C)-半环范畴

建立了C—半环范畴的概念，讨论了C—半环范畴的一些基本性质，并且给出自由C—半环的一种构造方法，进而，给出了任意一族C—半环的积与上积的存在唯一性定理。     

光学成像在疾病诊断中的应用

当前，医生们利用各种成像技术与疾病进行斗争，其中光学成像技术是获得高分辨率图像的新方法，其原理是每种生物介质具有各自特有的光谱特性，可赖以区分病变组织和正常组织，或对潜在问题准确定位。而光学相干层析则是最精确的光学成像技术，可提供１０～２０μｍ量级的高分辨率及比迄今为止任何其他技术都高的灵敏度。本文着重讨论光学相干层析术的基本原理及目前发展状况     

共焦扫描显微成象系统的点扩散函数再商讨

针对共焦扫描显微成象中物体相对于被扫描点的位置矢量是反向移动的特性,探讨了物体移动后的物函数在此基础上,根据成象的理论进行了计算,得到新的系统点扩散函数表达式,最后根据计算结果分析成象的性质,得出了系统成象的相干性.     

Tan-Charm粒子工厂

 所谓“Tau-Charm（t-C）粒子工厂”,是在低背景条件下极大量地产生t轻子和C（粲）粒子的加速器以及相关实验装置的总称。具体说,它包括一个工作能区3-5GeV、峰值亮度¹0³³cm（-2）s^-1的双环e⁺e^-对撞机和相应的高性能实验谱仪。t-C粒子工厂主要用来研究我们至今知之不多的三个费米子t、V_t轻子与C夸克的物理学。     

布基管和布基洋葱的结构及生长机理的研究

利用扫描电子显微镜(SEM)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和扫描隧道显微镜(STM),对布基管和布基洋葱的形貌、结构、生长机理进行了研究。结果表明采用垂直下落武装置制备布基管具有较大的产率,TEM的观察得到了布基管各种部位的横截面TEM象,报道了几种特殊结构的布基管和布基洋葱,分析了造成布基管形貌变化的原因,提出了布基管和布基洋葱生长过程的模板作用,提出在无定形石墨和布基管之间存在过渡态结构的观点,STM的研究结构获得了椅式布基管表面的原子象。     

(C,α,ρ,d)-凸极大极小分式规划的最优性条件

定义了一类存在性更为广泛的广义凸性，（C，α，ρ，d）-广义凸；获得了在非光滑情形下极大极小广义分式规划的最优性必要条件；利用（C，α，ρ，d）-广义凸性我们得到了极大极小广义分式规划的最优充分性条件。     

自动曝光相机与物理教学

本文通过对自动曝光相机的原理分析，介绍了光度学，光学仪器原理，ＲＣ电路，光敏元件等在照相机领域的应用。阐明了普通物理与科技产品的联系。     

BP神经网络电子束扫描均匀度校正系统

 电子束的扫描均匀度是工业辐照电子直线加速器的重要技术指标，该校正系统利用人工神经网络中的误差反向传播法可以对扫描电流波形进行校正，以克服扫描磁场引起的电子束形状变化、位置改变等造成的电子束分布的不均匀性，从而使扫描曲线的归一化均方偏差达到1.8%。