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一般说 ,水分分析 ,特别是微量和痕量水的分析是一项比较困难的课题。水分的定性检出法有钴盐法、铁盐法、四乙酸铅法、碳化钙法和乙醇铝法。比浊法用乙醇铝测有机溶剂水分已非常灵敏 ,但制备乙醇铝步骤多 ,且乙醇铝还需配制溶液。本文介绍制备一种试剂 ,应用于比浊法测试微水。本法制作简单 ,使用方便 ,测试灵敏。1 制备方法采用氨法制备锆醇盐 :ZrCl4 +4ROH +4NH3 Zr(RO) 4+4NH4 Cl↓将氯化锆放到容器中 ,注入异丙醇 ,密封容器。加热并通入氨气 ,搅拌混合 ,反应结束后 ,过滤除去沉淀物氯化铵 ,得到锆醇盐溶液 (由于锆醇… 相似文献
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从防垢剂对碳酸钙晶形分布影响的角度研究防垢机理 总被引:2,自引:0,他引:2
为研究防垢剂的作用机理, 收集了不同防垢剂加入前后出现的碳酸钙垢. SEM分析表 明, 加入防垢剂前, 碳酸钙垢的SEM表现为方解石的六方柱和菱面体; 加入防垢剂后, 碳酸钙垢的形态发生变化, 且防垢剂的效果越好, 垢的形态改变程度越大. 进一步通过FT-IR, XRD对碳酸钙垢进行了定性、定量分析, 发现加入防垢剂后, 垢中除方解石外, 出现了六方方解石和文石, 且防垢率越大, 垢中六方方解石的含量越高. 上述结果说明, 加入防垢剂后垢形态改变的本质原因是垢中碳酸钙晶型分布发生了变化. 结垢过程主要包括不稳定相的生成和消失、介稳相的生成和消失、稳定相的生长三个阶段. 不出现防垢剂时, 介稳相可以转变为稳定相, 碳酸钙垢的主要成分为方解石; 加入防垢剂后, 防垢剂阻止了介稳相的生成和转化, 导致碳酸钙垢中出现了六方方解石和文石. 防垢率越大, 碳酸钙垢中六方方解石含量越高, 说明防垢剂主要通过将结垢过程控制在第二阶段或第一阶段而起到防垢作用. 相似文献
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氧鎓盐类化合物因具有较强的亲电性,在有机合成[1]及电照相体系[2]中存在着广泛的应用前景.由于它们还表现出较强的荧光发射能力[3],因而在作为激光工作材料[4,5]方面也受到重视.正因如此,这类化合物的光物理和光谱特性引起了许多化学家的兴趣.氧钠盐化合物溶液的荧 相似文献
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经非对映异构盐拆分外消旋体的经典拆分方法,仍是提供对映纯化合物的有效方法之一。然而对许多外消旋体来讲,获得需要的异构体远小于50%。如何通过经典拆分使需要的异构体获得最大产率?本文阐述了一种外消旋体拆分的实用方法,通过非对映异构盐的形成可得到所需的异构体最大产率。运用该实用策略,在拆分外消旋哌啶甲酸乙酯、Corey内酯和石杉碱甲中间体上都成功实现。该策略的实践基础是著名的Marckwald 原理。 相似文献
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新型感可见光的光引发体系乙基曙红碘Weng盐的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
合成并研究了新型感可见光的光引发体系乙基曙红碘Weng盐,结果表明,该引发剂的物理化学性质和光敏引发效率受其结构,介质性质和浓度等诸多因素影响。在可见光照射下,发生由乙基曙红阴离子向二苯基碘Weng阳离子的电子转移反应,产且具有引发活性的苯自由基和非活性的乙基曙红自由基。 相似文献