因素的混杂设计及其加倍试验法

本文提出了因素混杂设计的理沦,通过加倍试验法,对各因素进行效应分析,并给出了当k≤m/2时的数据分析公式。     

磁性纳米颗粒膜的微磁学模拟

用微磁学方法对磁性纳米颗粒膜的磁特性进行了模拟，采用的模型是由122个磁性纳米颗粒组成的面心立方(fcc)结构体系.结果表明：在该体系中，偶极相互作用对体系的静态磁结构的影响显著，而交换相互作用的影响表现不明显.在此基础上，本文还采用有效媒质理论计算分析了磁性合金颗粒不同体积比时颗粒膜的磁谱和表征电磁参量发生显著变化的逾渗现象和逾渗阈值.并完成了对高磁损耗磁性纳米颗粒膜的材料设计. 关键词： 微磁学 纳米颗粒膜 逾渗阈值 磁导率 材料设计     

美国军队信息化顶层设计的主要内容

从美国防部、参联会颁发的“构想”类、“4年防务审查”类和“军事转型”类文件中可以看出，美军信息化建设顶层设计主要有5项内容。     

均匀设计及其应用（二）

均匀设计及其应用（二）方开泰第二章均匀设计的应用由于均匀设计要求的试验数较少，我们无法直接估计出各因素的主效应和交互效应，只能通过回归模型来建立试验指标（Ｙ）和各因素之间的关系，利用这种关系来寻求最优工艺条件或最优配方．试验设计的目的通常主要有二个，...     

超大规模集成电路光学光刻技术的现状与展望

光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术,这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展,主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状,并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、     

利用有限几何构作3-PBIB（2）设计和3-设计

The concept of t-PBIB design was introduced by Wei Wandi and Yang Benfu as a generalization of G-design and PBIB design. In this paper, a number of 3-associntion schemes and 3-PBIB(2) designs are constructed on the bases of the finite vector space over Fq and the finite unitary geometry over Fq2. Then a number of 3-designs are constructed on the bases of the finite orthogonal geometries over Fq. The parameters of all these designs are computed.     

关于设计性物理实验的几个问题

对设计性物理实验的教育功能进行了探讨，并以“用电位差计校正毫安表”为例，介绍了如何对学生的动手能力进行评价．     

电感储能功率调节装置小型化设计

介绍了电感储能功率调节装置的小型化结构设计，以及装置在高电压大电流条件下绝缘性能的优化设计。在以电容器（2μF、充电电压62kV)为初始能源条件下，在80Ω电阻负载上获得电压大于700kV、脉宽大于100ns、前沿小于50ns的脉冲输出，性能稳定可靠。     

2-（υ，5，1）设计的非可解区传递自同构群

研究了2-(υ，κ，1)设计的区传递自同构群．特别讨论了2-(υ，5，1)设计的非可解区传递自同构群．得到定理：设G是一个2-(υ，5，1)设计Q的区传递．点本原但非旗传递的自同构群．若G是非可解群．则G的基柱Soc(G)不是典型群PSUn(q)，这里q为奇数，n≥3。