同步辐射单光子电离技术研究乙醚富燃火焰

本文利用同步辐射单光子电离和分子束质谱技术研究了乙醚在富燃条件下的低压预混火焰.通过测量光电离质谱和扫描光电离效率谱,我们鉴别了该火焰中大部分的燃烧中间体及产物.此外,通过改变燃烧炉的位置测量光电离质谱,得到了各燃烧中间体及产物的摩尔分数曲线.实验结果为深入研究乙醚燃烧动力学并揭示含氧有机化合物在火焰中的反应机理提供了依据.     

低压离子色谱法测定CeO2产品中微量氟的研究

采用氟碳铈矿为原料冶炼成的稀土氧化物产品中 ,氟含量的测定在检验稀土产品纯度中起着重要的作用。目前此类产品中氟含量的测定主要有二甲酚橙 锆退色法和氟试剂法[1 ] 。而采用低压离子色谱法分析稀土氧化物产品中氟含量还未见报道[2 ,3] 。本文研究用低压离子色谱 (ＬＰＩＣ)法测定稀土ＣｅＯ2 中氟含量。试验证明 ,样品预处理时 ,在ＨＣｌＯ4介质中加入ＡｇＣｌＯ4以消除阴离子干扰 ,并用水蒸气将氟蒸馏出 ,以ＫＯＨ溶液吸收。选择 1 .2ｍｍｏｌ/ＬＮａ2 ＣＯ3作淋洗液 ,ＬＰＩＣ测氟。与氟试剂法 (ＧＢ)作比较分析 ,两种方法测定结果一…     

利用同步辐射研究汽油及其混合物的火焰成分特征

本文利用同步辐射和分子束取样技术并结合飞行时间质谱仪,分别检测了加入MTBE前后的汽油在氧气中的燃烧产物.通过比较标准汽油与MTBE/汽油在火焰中的成分差异,以及几种典型燃烧产物的空间分布曲线,分析了MTBE对汽油的微观影响机理,为建立燃烧反应动力学模型提供了参考.     

中红外完全带隙Si反蛋白石光子晶体的制备与光学性能研究

通过溶剂蒸发对流自组装法制备SiO2胶体晶体,采用低压化学气相沉积法填充Si,制备得到Si反蛋白石(opal)三维光子晶体.采用扫描电子显微镜对Si反opal的显微形貌进行表征,采用平面波展开法理论模拟Si反opal的光子带隙,采用傅里叶变换红外光谱仪测试其光学性能.研究结果表明:Si在SiO2微球空隙内填充致密均匀,显微红外光谱测试的光子带隙反射峰位置及带宽与理论计算基本符合.变角度反射光谱测试表明,Si反opal沿不同角度入射时在中心波长3319nm处均存在明显的反射峰,证明其具有完全光子带隙,带隙位于中红外大气窗口区域.     

The mechanism of hydrogen plasma passivation for poly-crystalline silicon thin film

The mechanism of hydrogen plasma passivation for poly-crystalline silicon （poly-Si） thin films is investigated by optical emission spectroscopy （OES） combined with Hall mobility, Raman spectra, absorption coefficient spectra, and so on. It is found that different kinds of hydrogen plasma radicals are responsible for passivating different defects in polySi. The Ha with lower energy is mainly responsible for passivating the solid phase crystallization （SPC） poly-Si whose crystallization precursor is deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition （PECVD）. The H＊ with higher energy may passivate the defects related to teh Ni impurity around the grain boundaries more effectively. In addition, Hβ and H7 with the highest energy are required to passivate intra-grain defects in the poly-Si crystallized by SPC but whose precursor is deposited bv low pressure chemical vapor deposition（LPCVD）     

20G钢表面喷涂MoB/CoCr金属陶瓷涂层的组织性能研究

在20G钢换热管表面上利用低压等离子喷涂(UPS)制备MoB/CoCr金属陶瓷涂层.采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDAX)对涂层的物相组成、微观组织和成分进行了表征,并对涂层的结合强度和抗热震性能进行研究.研究表明:喷涂前后涂层的物相相差不大,涂层为层状结构;涂层与20G基体之间、表面涂层与过渡涂层之间结合良好,涂层致密;涂层具有良好的结合强度和抗热震性能,在熔融AI-12.07; Si中经过1080h腐蚀后,涂层基本保持完好,具有很好的抗熔融铝硅腐蚀性能.     

弱浮力下导线绝缘层着火先期特性的研究

本文在低压弱浮力环境中模拟了微重力过载电流时导线绝缘层的着火先期过程,研究了压力对绝缘层着火先期特性的影响。结果表明,2 A时,绝缘层的温升率和最终平衡温度随压力降低而不断增大,模拟出了微重力下绝缘层的温升特性;10 A时,随着压力降低,绝缘层存在三种破坏机制;在不同区域压力对着火延迟时间的影响不同。最后,提高环境氧气浓度修正了低压对化学反应速率的抑制。结果表明,当压力在一定范围内降低时,随着氧气浓度的提高,绝缘层的着火极限范围拓宽,着火延迟时间缩短,可以初步模拟微重力下绝缘层的着火先期过程。     

1.3μm无致冷AlGaInAs/InP应变补偿量子阱激光器设计与制作

基于半导体量子阱激光器的基本理论,设计了合理的1.3μm无致冷AlGaInAs/InP应变补偿量子阱激光器结构,通过低压金属有机化学气相外延(LP-MOVPE)工艺在国内首次生长出了高质量的AlGaInAs/InP应变补偿量子阱结构材料,用此材料制作的器件指标为激射波长:1280nm≤λ≤1320nm,阈值电流:I_th(25℃)≤15mA,I_th(85℃)≤30mA,量子效率变化:Δη_ex(25℃～85℃)≤1.0dB,线性功率:P₀≥10mW     

低压化学气相淀积工艺技术

低压化学气相淀积(LPCVD)设备主要为微电子机械系统(MEMS)在硅基片上淀积Si3N4、Poly-Si(多晶硅)、SiO2薄膜。承担形成微传感器和微执行器的抗蚀层、结构层和牺牲层的加工任务。是MEMS技术中的主要生产工序之一，也可以用于集成电路钝化膜制备。     

基于华铸CAE系统的铅铸件低压铸造工艺应用研究

一铅铸件采用“外层块状成形冷铁配内侧整体成形冷铁”的工艺，在确定工艺参数时，如果设计的浇注充型压力、充型速度不适当，金属液就易出现紊流，导致卷入气体而形成气孔、渣孔等铸造缺陷。因此，在进行实际浇注试验前，运用华铸CAE／InteCAST铸造模拟系统对设计的浇注工艺进行了充型及凝固过程的数值模拟，分析充型及凝固过程中流动场、温度场的变化情况，以确定适合的工艺参数值。