首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   7763篇
  免费   1509篇
  国内免费   3970篇
化学   8919篇
晶体学   193篇
力学   111篇
综合类   186篇
数学   21篇
物理学   3812篇
  2024年   71篇
  2023年   212篇
  2022年   245篇
  2021年   269篇
  2020年   228篇
  2019年   296篇
  2018年   185篇
  2017年   278篇
  2016年   327篇
  2015年   340篇
  2014年   597篇
  2013年   536篇
  2012年   593篇
  2011年   575篇
  2010年   555篇
  2009年   629篇
  2008年   696篇
  2007年   606篇
  2006年   662篇
  2005年   530篇
  2004年   547篇
  2003年   464篇
  2002年   441篇
  2001年   379篇
  2000年   290篇
  1999年   327篇
  1998年   257篇
  1997年   251篇
  1996年   246篇
  1995年   280篇
  1994年   216篇
  1993年   204篇
  1992年   218篇
  1991年   174篇
  1990年   180篇
  1989年   161篇
  1988年   62篇
  1987年   29篇
  1986年   31篇
  1985年   16篇
  1984年   14篇
  1983年   19篇
  1982年   3篇
  1980年   1篇
  1959年   2篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
121.
122.
123.
124.
彭德全  白新德  潘峰  孙辉 《物理学报》2005,54(12):5914-5919
用金属蒸汽真空弧源,以40kV加速电压对纯锆样品分别进行了1016—1017/cm2的钇、镧离子注入,注入温度约为130℃.然后对注入样品进行表面分析.x射线光电子能谱分析表明,注入的钇以Y2O3形式存在,镧以La2O3形式存在.俄歇电子能谱表明,纯锆基体表面的氧化膜厚度随着离子注入剂量的增加而增加,当离子注入剂量达到1017/cm2时,氧化膜的厚度达到了最大值.卢瑟福背散射显示镧层的厚度约为30nm,同时直接观察到当离子注入剂量为(La+Y)1017/cm2时,纯锆样品表面发生了严重的溅射. 关键词: 纯锆 钇和镧离子共注入 卢瑟福背散射 x射线光电子能谱  相似文献   
125.
126.
以自制的4,4',4',4''-四特丁基酞菁钴(II)为原料合成二氯4,4',4',4''-四特丁基酞菁钴(III)。以此为载体制备PVC膜电极。该电极的电位选择性次序明显不同于Hofmeister次序, 其最佳 响应斜率为-52mV/pNO2^-, 线性范围为3×10^-^5~1×10^-^1mol.dm^-^3NaNO2。通过改变配合物轴向的配位阴离子, 用紫外-可见光谱法对电极的响应机理作了初步探讨。  相似文献   
127.
对Ce3+ ∶Eu3+ ∶Cr3+ ∶Sm3+ ∶YAG处延层中的荧光敏化现象进行了报道和分析 ,在较高浓度的Ce3+ 离子掺杂时 ,外延层在蓝色、绿色波段出现了新的荧光谱线 ,可解释为在Ce3+ 离子敏化作用下 ,Eu3+ 离子产生了由高位激发态能级5Di(i=1,2 ,3)直接到基态能级7Fj(j =0 ,1,2 ,3)的辐射跃迁过程 ,并且这种Ce3+ ∶Eu3+ ∶Cr3+ ∶Sm3+ ∶YAG外延层还是一种新颖的白色单晶荧光材料。  相似文献   
128.
张宪忠  周忠源 《计算物理》1996,13(2):213-216
采用Coulomb-Bron交换近似,在Z标度类氢模型下计处了“水窗”波段Mn^22+离子精细结构能级的电子碰撞激发截面和速率系数。为了更有效地考虑碰撞过程中电子的关联和相对论效应,在计算中对有效核电荷的计算作了修改。  相似文献   
129.
本文提出了一种离子选择性分析方法,即等电位差-标准加入法。本文法已用于氟的测定。本文法的影响因素少,准确度好,操作及计算简便。  相似文献   
130.
当离子蒸气冷凝形成团簇时,其结构表现出特定的规律。文中对不同大小不同形状的氯化钠团簇结构与结合能进行了计算,以求揭示离子蒸气冷凝形成团簇的一些规律,并与实验结果进行对照。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号