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42.
有机硅耐磨透明涂层的固化分析 总被引:13,自引:0,他引:13
FTIR、TG、TBA等对有机硅耐磨涂料(有机硅溶胶)的热固化过程研究表明有机硅胶体中缔合羟基间的脱水缩合速率很高;羟基脱水程度与固化温度有关,温度越高,达平衡时羟基的浓度越低,在105~130℃间羟基的浓度变化最大,加入适当的固化剂,对羟基的脱水交联有促进作用,在较高的固化温度下,反应体系中出现了环氧环异构化产生的酮羰基的吸收峰 相似文献
43.
以石墨炉原子吸收(GFAAS)为检测手段,研究了纳米二氧化钛(TiO2,锐钛型)对金属Cd(Ⅱ)的吸附性能,考察了吸附和解吸的主要影响因素.结果表明,在较宽的pH范围内,纳米TiO2对Cd(Ⅱ)具有良好的吸附性能,3.0 mol/L HCl能将所吸附的Cd(Ⅱ)完全洗脱.在优化的实验条件下,具有吸附容量大、吸附速度快的特点.本法的检出限(3σ)为10.6 ng/L;相对标准偏差(RSD)为1.5%,(n=7,C=2.0 μg/L),富集50倍.本法测定标准样品的测定值与参考值吻合.用于土壤类样品中Cd(Ⅱ)的测定,结果令人满意. 相似文献
44.
羧基化碳纳米管嵌入石墨修饰电极对多巴胺和抗坏血酸的电催化 总被引:24,自引:0,他引:24
采用涂层和嵌入修饰法 ,将羧基化多层碳纳米管制成两种修饰电极。以多巴胺 (DA)和抗坏血酸(AA)为模型化合物 ,研究了两种修饰电极对DA和AA共存时的电催化作用。结果表明 :嵌入的方式比涂层的方式显示了更多的优点。嵌入修饰电极不仅使峰电流增加 ,并且使两者共存时的氧化峰位分离达 16 0mV ,同时 ,该电极对DA的响应灵敏于AA ,这有利于在大量的AA存在下实现对DA的测定。在 1× 10 - 3 mol/L的AA的存在下 ,还原电流的一阶导数与DA浓度在 5× 10 - 7~ 1× 10 - 4 mol/L范围内呈良好的线性关系 ;检测下限达 1× 10 - 7mol L。 相似文献
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JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究 总被引:2,自引:0,他引:2
JD光学树脂表面刻蚀过程的XPS研究表明,引进树脂遥COH,C=O,C-SO3H,COOH等基因随刻蚀温度的提高或时间的延长而增加,对其相对含量进行了计算,固化后的耐磨涂层具有SiO2结构,JD板材的最佳刻蚀条件为20℃,20min。 相似文献