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42.
对Cl/HN3/I2产生NCl(a)/I激光的过程进行了化学动力学计算,主要考察了Cl,HN3和I2的初始粒子数密度及其配比对小信号增益系数的影响。结果发现,当温度为400K, 初始Cl粒子数密度为1×1015,1×1016和1×1017cm-3时,小信号增益系数分别达到1.6×10-4,1.1×10-3和1.1×10-2cm-1,获得最佳小信号增益系数的HN3和I2的初始粒子数密度分别为初始Cl粒子数密度的1~2倍和2%~4%。同时,对Cl,HN3和I2配比对小信号增益系数和增益持续时间的影响进行了讨论。 相似文献
43.
5,6-Dihydro-OSW-1 (1) was synthesized following our previous procedure for the total synthesis of OSW-1. This compound demonstrated slightly stronger potency than that of OSW-1 against the growth of cancer cells. 相似文献
44.
JiangMinCHEN LuLingWU XianHUANG 《中国化学快报》2004,15(2):143-144
2,5-Disubstituted oxazoles were prepared conveniently by treatment of aromatic α-methyl ketones and nitriles with poly[styrene(iodosodiacetate)] in one-pot process. 相似文献
45.
微模塑法制备PMMA/SiO2二氧化硅杂化材料微结构 总被引:1,自引:0,他引:1
以摩尔比为 1∶1的甲基丙烯酸甲酯 (MMA)、甲基丙烯酸 (3 三乙氧基硅烷基 )丙酯 (ESMA)单体、0 .2 %(单体总量的质量分数 )的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃 (THF)溶剂 ,及 2 0 % (总质量分数 )的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2 有机 无机杂化的杂化溶胶 .将溶胶在洗净的普通光学玻璃基片表面甩膜 .利用软刻蚀中的微模塑法 ,把有机硅弹性印章复制有精细图纹一面轻放在杂化溶胶膜上进行微模塑 ,外加 1N压力于12 0℃下处理 2h使溶胶凝胶化 .印章剥离后在基片表面就形成了PMMA/SiO2 有机 无机杂化材料的微图纹结构 .从微图纹的光学显微镜照片可以看出微模塑方法制备杂化材料复制的图纹精细度高 ,操作简单易行 ,是一类比较理想的微细图纹结构加工的方法 . 相似文献
46.
该文利用算子半群的方法给出了取值于具有左不变度量的完备可分群的齐次Levy过程是复合Poisson过程的弱极限这一结论. 相似文献
47.
A Fixed Point Theorem for Multi-valued Composite Increasing OperatorsLiFengyou(李凤友)(DepartmentofMathematics,Tianjin'NormalUni... 相似文献
48.
在乙醇-水混合溶液中,1-苯基-3-甲基-4-苯甲酰基吡唑酮-5与Nd(Ⅲ),Eu(Ⅲ),Ho(Ⅲ)等及乙醇形成了萃合物,使萃取分配比明显提高。利用斜率法研究了萃取机理。借助红外(IR)、元素分析、热分析(TG-DTA)等手段对萃合物进行了表征。 相似文献
49.
横向放大率法确定复合光学系统的基点 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了应用测量横向放大率确定两薄透镜组成的复合光学系统基点的方法。由于采用线阵光电耦合器件(CCD)测量物经光学系统成像的横向放大率,提高了测量精度。 相似文献
50.