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Nanosecond (ns) laser ablation can provide a competitive solution for silicon micromachining in many applications. However, most of the previous studies focus on ns lasers at visible or ultraviolet (UV) wavelengths. The research is very limited for ns lasers at infrared (e.g., 1064 nm) wavelengths (which often have the advantage of much lower cost per unit average output power), and the research is even less if the ns laser also has a long pulse duration on the order of ∼100 ns. In this paper, time-resolved observation using an ICCD (intensified charge-coupled device) camera has been performed to understand the physical mechanism of silicon ablation by 200-ns and 1064-nm laser pulses. This kind of work has been rarely reported in the literature. The research shows that for the studied conditions, material removal in laser silicon ablation is realized through surface vaporization followed by liquid ejection that occurs at a delay time of around 200-300 ns. The propagation speed is on the order of ∼1000 m/s for laser-induced plasma (ionized vapor) front, while it is on the order of ∼100 m/s or smaller for the front of ejected liquid. It has also been found that the liquid ejection is very unlikely due to phase explosion, and its exact underlying physical mechanism requires further investigations. 相似文献
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跨音轴流压气机转子叶尖喷气扩稳机理分析 总被引:3,自引:0,他引:3
对跨音压气机Rotor35进行了多通道全三维定常/非定常叶顶喷气数值模拟。数值计算所获得实壁机匣总性能与试验结果符合良好。计算表明使用3.6%转子堵塞流量的叶顶喷气量可以获得21.4%的扩稳效果。定常计算结果显示叶顶喷气重点影响0.9叶展以上区域,使得该区域进气攻角和扩散因子减小,从而降低叶顶载荷,减小了由激波和泄漏涡相互作用形成的通道堵塞。非定常计算结果显示,叶尖喷气的扩稳效果来自两方面:一是对某一叶片叶顶的卸载作用;二是对激波/泄漏涡干扰形成的低能区重新注入轴向动量。后者对通道流通的改善作用大于前者。非常高的喷射频率使得叶顶喷气能够抑制每个通道中低速区的进一步增长,从而实现了对压气机的扩稳。 相似文献
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1000.