高纯氧化钬的电感耦合等离子体原子发射光谱分析及光谱干扰的校正

本文提出了以PGS-2型平面光栅摄谱仪与Plasma Therm ICP-5000D射频发生器联用,乙醇溶液预去溶进样方法,直接同时测定高纯氧化钬中5个稀土杂质元素的方法,并讨论了基体浓度对分析方法检出限的影响和光谱干扰及其校正。当样品溶液中稀土总浓度为5mg/ml时,测定下限分别为铽0.003％,镝、铒和铥0.002％,钇0.0003％。其相对标准偏差为2.8％～7.4％。     

高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的ICP光谱测定

本文提出了用ICP－AES直接同时测定高纯金属钕中镧、铈、镨、钐和钇的新方法。描述了在钕样品溶液中加入乙醇后对测定灵敏度的影响，乙醇量的影响以及ICP的几个主要工作参数的选择等。当样品溶液中衡土元素的总浓度为5毫克／毫升，乙醇浓度为70％（V／V）时，测定下限分别为镧0.0020%，铈0.0030%，镨0.010%，钐0.0050%和钇0.0010%其相对标准偏差为2.9-5.7%。     

氧化钇(粗产品)中稀土杂质的光谱测定

本文是配合混合稀土分离工艺流程的研究而建立的分析方法,分析的对象是流程中的粗产品,不追求高的灵敏度,只要求方法可靠。为了降低电弧的漂移,选择了氯化钡做载体,起到了稳定弧焰的作用,提高了分析方法的精密度。流程产品中八个稀土杂质元素的测定范围是(以氧化物计):镧、钬、镝和铒为0.050—3.2％,钇、铥、镱和镥为0.020—1.28％;相对标准偏差为2.3—6.1％。 1.标准样品的制备和待分析样品的前处理:称取定量的经850℃灼烧2小时后的纯稀土氧化物,以纯氧化钇为基体,依次稀释法配制成一套标准样品,每个样品都用2倍缓冲剂(5％纯BaCl_2+95％纯碳     

高纯氧化钪中痕量稀土元素的电感耦合等离子体原子发射光谱分析和稀土元素间的光谱干扰及其校正

本文提出了用 ICP-AES 直接同时测定高纯氧化钪中15个痕量稀士元素的新方法。用PGS-2光栅光谱仪,Plasma Therm ICP-5000D 光源系统,乙醇预去溶进样方式,直接同时测定纯度为99.995%的高纯氧化钪中15个痕量稀土杂质元素,并讨论了稀土元素间的干扰及某些元素的光谱干扰的校正。当样品溶液中稀土总浓度为5mg/ml:时,测定下限为镧、钆、钬和铥0.0002%,镨、钕、铽和镥0.0004%,铕、镝、铒和钇0.0001%、镱0.00004%,铈和钐0.001%。其相对标准偏差为1.7～8.2%。     

HEH[EHP]萃取色层分离-原子发射光谱测定超高纯氧化钬、氧化铒中痕量稀土杂质

本文研究了２－乙基己基膦酸单２－乙基己酯萃取色层分离－原子发射光谱测定超高纯Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３中良量稀土杂质,可用于９９．９９９９％Ｈｏ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３的纯度分析。