首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到10条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
选用12种不同的工艺参数对J-55钢材进行激光表面改性,测试了各试样淬硬层中不同深度处的硬度值及其微观组织结构,同时对最佳工艺参数及改性机理进行了分析和研究  相似文献   

2.
经不同工艺和过程制备二氧化硅气凝胶,初步摸索出制备温度、溶剂、催化剂、反应时间最佳参数.在分析气凝胶干燥开裂的原因后,以三甲基氯硅烷(TMCS)为表面修饰剂,正己烷为干燥介质的表面改性工艺,一定程度控制了气凝胶的干燥收缩和开裂.在室温、常压下的通过不同的改性方案制备出四种不同气凝胶样品,揭示了改性条件、干燥温度对于气凝胶孔隙分布、微观结构的影响.  相似文献   

3.
从电磁场理论出发,建立了包覆改性吸收剂等效电磁参数模型,初步得到了磁性吸收剂经介电改性后外包覆层和内层材料相对体积分数对损耗性能和特性阻抗的影响规律;以此为基础,进行了包覆改性吸收剂的结构设计;采用溶胶-凝胶法制备了包覆改性吸收剂,实验测试了样品的电磁参数,同理论预测结果进行了比较,表明理论预测的电磁参数频谱特性同实际测试结果比较接近. 关键词: 包覆改性吸收剂 等效电磁参数  相似文献   

4.
表面改性碳化硅基底反射镜加工技术现状   总被引:4,自引:0,他引:4  
康健  宣斌  谢京江 《中国光学》2013,(6):824-833
针对表面改性SiC基底反射镜在空间光学系统中的应用,总结了该类反射镜在国内外的研究现状。概括了碳化硅基底反射镜的发展趋势。介绍了常用的碳化硅材料,分析了它们的性质。给出了几种常用的碳化硅镜坯制备工艺,包括成型、改性和不同的抛光技术。通过对国内现有加工工艺和改性技术的分析,总结出了适应我国的表面改性碳化硅反射镜加工的发展方向。  相似文献   

5.
石灰石闪蒸改性及脱硫性能的试验研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文对3种不同产地的石灰石进行了闪蒸改性处理,对改性石灰石颗粒的孔径分布进行了测定,研究了压力、温度等参数对石灰石闪蒸改性的影响。并在气流反应器上对闪蒸后的样品进行了硫化试验。结果表明,在一定的压力和温度下,闪蒸处理能够增大石灰石颗粒的微孔孔径,并使石灰石样品的脱硫性能得到较大提高。  相似文献   

6.
在有机玻璃上射频溅射ITO组合薄膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用射频磁控溅射技术在有机玻璃表面上一次完成表面活化、ITO膜制备、SiO2 减反射膜制备过程。利用低能等离子体对有机玻璃表面进行改性以提高ITO膜的附着力。研究了氧分压等工艺参数对ITO膜导电性能及光学性能的影响。  相似文献   

7.
康健  宣斌  谢京江 《应用光学》2013,34(6):933-937
 为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究。根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非对其产生磨削作用而产生的。试验表明:过高的抛光速度或过高的抛光压力会造成改性层表面缺陷的产生,调整抛光的相对速度及抛光压力等关键工艺参数,可在保持抛光效率的同时有效减少和避免表面缺陷问题的产生。经试验验证,当表面缺陷产生后,通过选择适当的相对速度和抛光压强,改性层去除0.7 μm~1 μm后,可有效修复缺陷,并且无新的表面缺陷产生。  相似文献   

8.
为研究局部改性弹体结构的破坏和质量损失规律,设计了不同改性特征的侵彻弹体,在380~500m/s速度范围内进行了侵彻装甲靶板的实验研究,并对弹体的破坏形式、质量损失等问题进行了探讨。结果表明:随着初始速度的增加,实验弹体的弹长侵蚀率及相对质量损失率相应增加,而弹径磨损率变化较小;穿靶后实验弹体以头部剪切断裂为主要破坏形式,但主体部分仍然保持稳定。改性工艺(1)和工艺(5)既与弹体强度有较好的匹配性,又可保持良好的破碎性能。  相似文献   

9.
PEG200改性SiO_2溶胶制备光学增透膜的研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用TEM、SDP 等分析手段对PEG200 改性的SiO2 溶胶制备参数与光学增透膜的性质进行了研究。结果表明:PEG200 改性后的SiO2 溶胶簇团粒度分布与交联状况发生显著变化,形成不同的网络结构特征,由此影响膜层的光学增透性能。  相似文献   

10.
应用同步辐射x射线小角散射技术研究了不同工艺制备的三氨基三硝基苯样品中的微孔状况 ,得到了样品材料有关微结构参数,包括微孔平均孔径及孔径分布、分形特征、Porod常数 及界面参数等,并分析了微孔结构参数的变化规律.结果表明,不同工艺制备的TATB样品材 料其微孔结构有较大差别,都有较显著的特征. 关键词: 小角x射线散射 TATB材料微孔分布  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号