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相似文献
 共查询到18条相似文献,搜索用时 109 毫秒
1.
极紫外多层膜制备工艺研究   总被引:6,自引:1,他引:5  
王占山  马月英 《光学技术》2001,27(6):532-534
介绍了用平面磁控溅射方法制备极紫外多层膜的研究工作。围绕极紫外多层膜技术 ,重点探讨了多层膜膜厚定标和工艺过程对多层膜结构和内部成分的影响。为深入研究多层膜制备工艺指明了方向。  相似文献   

2.
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%。  相似文献   

3.
4.48 nm正入射软X射线激光用Cr/C多层膜高反射镜的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对4.48nm类镍钽软X射线激光及其应用实验,设计制备了工作于这一波长的近正入射多层膜高反射镜。选择Cr/C为制备4.48nm高反射多层膜的材料对,通过优化设计,确定了多层膜的周期、周期数以及两种材料的厚度比。模拟了多层膜非理想界面对高反射多层膜性能的影响。采用直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上实现了200周期Cr/C多层膜高反射镜的制备。利用X射线衍射仪测量了多层膜结构,在德国BessyⅡ同步辐射上测量了在工作波长处多层膜反射率,测量的峰值反射率达7.5%。对衍射仪测量的掠入射反射曲线和同步辐射测量的反射率曲线分别进行拟合,得到的粗糙度和厚度比的结果相近。测试结果表明,所制备的Cr/C多层膜样品结构良好,在指定工作波长处有较高的反射峰,达到了设计要求。  相似文献   

4.
水窗波段反射式偏振光学元件的设计和制作   总被引:1,自引:0,他引:1  
水窗波段是软X射线进行生物活细胞显微成像的最佳波段,因此对于水窗波段偏振光学元件的研究有着非常重要的意义。用菲涅耳公式计算出在水窗波段内不同材料组合对应不同波长的最大反射率,模拟分析了多层膜周期和表界面粗糙度对多层膜偏振光学元件性能的影响。用超高真空磁控溅射镀膜设备,制作出2.40nm、3.00nm和4.30nm波长处W/B4C多层膜偏振元件,并用X射线衍射仪对元件的周期厚度进行了测量,得到的测量结果与设计值偏差很小,可以进行实际应用。为水窗波段反射式偏振光学元件的研究提供了理论依据,同时也为相应偏振光学元件的制备确定了合适的工艺参量。  相似文献   

5.
采用直流磁控溅射技术制备了厚度约100 nm的W,WSi2,Si单层膜和周期约为20 nm,Si膜层厚度与周期的比值为0.5的W/Si,WSi2/Si周期多层膜.利用台阶仪对镀膜前后基底表面的面形进行了测试,计算并比较了不同膜系的应力值.结果表明:W单层膜表现出较大的压应力,而W/Si周期膜则表现为张应力.WSi2单层...  相似文献   

6.
利用多靶磁控溅射方法分别镀制了W/C和Mo/Si两种周期性结构多层膜。通过对其相关参数周期数、厚度比以及周期厚度的调整,使薄膜的布拉格衍射峰出现在布儒斯特角附近,两种多层膜的应用能量范围分别落于C的近K边处和Si的L边前。在北京同步辐射装置3W1B光束线的软X射线光学实验站上进行了反射率的测量,得到W/C膜的反射率在214eV时达到4.18%;Mo/Si周期性多层膜的反射率在89eV处达到32.3%。根据测量结果,分析了在同步辐射装置作为偏振元件的可行性  相似文献   

7.
采用磁控溅射方法制备了周期数分别为10,30,50和75的Ni/Ti多层膜,利用X射线掠入射反射测量了多层膜表面和界面的状态,并用原子力显微镜测量了多层膜的表面粗糙度,研究了不同周期数的Ni/Ti多层膜表面粗糙度的变化规律。结果表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度随着膜层数增加而增加,当Ni/Ti多层膜的周期数从10变化到75时,其表面粗糙度由0.80 nm增大到1.69 nm。实验数据拟合表明:Ni/Ti多层膜表面粗糙度与周期数成3次方关系;但在周期数较小时,粗糙度与周期数成线性关系。  相似文献   

8.
提出了一种基于量子遗传算法的宽带极紫外多层膜的离散化设计方法,解决了在膜系设计中普遍采用的遗传算法存在求解精度低的问题.同时在基于量子遗传算法的膜系设计方法中对膜系进行了离散化设计,解决了在仅由时间控制膜厚且沉积速率较大的镀膜系统中的膜厚高精度控制的问题.依据量子遗传算法的膜系设计结果采用磁控溅射镀膜系统镀制宽带极紫外多层膜.测试结果表明,宽角度极紫外多层膜的入射角为0°~15°,反射率达45%以上;宽光谱极紫外多层膜的入射波长为13~15nm,反射率达20%以上.相关研究工作为宽带极紫外多层膜的研发提供了另一种可供选择的且较优的搜索优化算法,同时该算法结合实验,实现膜厚的离散化设计,使镀制出的多层膜具有较好的光谱性能.  相似文献   

9.
ZrO2/SiO2多层膜由相同沉积条件下的电子束蒸发方法制备而成,通过改变多层膜中高(ZrO2)、低(SiO2)折射率材料膜厚组合周期数的方法,研究了沉积在熔石英和BK7玻璃基底上多层膜中残余应力的变化.用ZYGO光学干涉仪测量了基底镀膜前后曲率半径的变化,并确定了薄膜中的残余应力.结果发现,该多层膜中的残余应力为压应力,随着薄膜中膜厚组合周期数的增加,压应力值逐渐减小.而且在相同条件下,石英基底上所沉积多层膜中的压应力值要小于BK7玻璃基底上所沉积多层膜中的压应力值.用x射线衍射技术测量分析了膜厚组合周期数不同的ZrO2/SiO2多层膜微结构,发现随着周期数增加,多层膜的结晶程度增强.同时多层膜的微结构应变表现出了与所测应力不一致的变化趋势,这主要是由多层膜中,膜层界面之间复杂的相互作用引起的.  相似文献   

10.
吕超  易葵  邵建达 《光子学报》2007,36(11):2049-2052
讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0 nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的拟合结果与设计值吻合很好.  相似文献   

11.
ZnO-Cu-ZnO multilayers were prepared by simultaneous RF magnetron sputtering of ZnO and DC magnetron sputtering of Cu. Cu films with different thickness were used as the intermediate metal layer. The optical and electrical properties of the multilayers studied by UV-vis spectrophotometer and four point probe method, respectively, shows that transmittance increases with decrease of copper thickness up to an optimum thickness of 5 nm and sheet resistance decreases with increase of thickness. Low resistivity and high transmission were obtained when the film structure has a thickness of ZnO/Cu/ZnO: 50/5/50 nm. The performance of the multilayers as transparent conducting material was better than the single layer ZnO of equal thickness.  相似文献   

12.
溅射气压对X射线多层膜反射率的影响   总被引:2,自引:2,他引:0  
本文在不同的溅射气压的情况下制备了具有相同结构参量的Mo/Si多层膜,测出了其对应的小角度X衍射曲线,在北京同步辐射实验室测量了多层膜的软X射线反射率.小角X射线衍射谱表明:随着溅射气压升高,多层膜的小角X射线衍射曲线的高次峰的峰高急剧变小,半峰宽变大.反射率测量结果也表明:多层膜的X射线反射率随溅射气压的升高而急剧降低.  相似文献   

13.
用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜   总被引:1,自引:1,他引:1       下载免费PDF全文
 用磁控溅射法制备了周期厚度和周期数均相同的Mo/Si多层膜,用原子力显微镜和小角X射线衍射分别研究了Mo靶溅射功率不相同时,Mo/Si多层膜表面形貌和晶相的变化。随后在国家同步辐射实验室测量了Mo/Si多层膜的软X射线反射率。研究发现,随着Mo靶溅射功率的增大,Mo/Si多层膜的表面粗糙度增加,Mo的特征X射线衍射峰也增强,Mo/Si多层膜的软X射线峰值反射率先增大后减小。  相似文献   

14.
基于ANSYS的二维谐性磁场分析   总被引:8,自引:0,他引:8       下载免费PDF全文
非平衡磁控溅射镀膜机中的磁场分布对镀膜有着重要的影响。介绍一种利用有限元法求解非平衡磁控溅射镀膜机中带电线圈所产生的磁场的方法。根据电磁场理论,推导出求解带电线圈所产生的磁场的计算模型,利用基于有限元法的ANSYS软件对非平衡磁控溅射镀膜机中线圈所产生的磁场分布进行了数值模拟。通过与实测值进行比较,验证了计算模型和计算结果的可靠性。总结了非平衡磁控溅射镀膜机中的磁场分布情况,为优化镀制薄膜设计方案和提高薄膜质量提供了参考依据。  相似文献   

15.
磁控溅射制备氧化硅薄膜生长速率   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
氧化硅薄膜是半导体工业中常见的薄膜材料,通常采用化学气相沉积方法制备。但是这种制备方法存在缺欠。采用磁控溅射的方法首先在石英衬底上制备了氧化硅薄膜。研究了射频功率、氧气含量和溅射压强对氧化硅薄膜沉积速率的影响。发现沉积速率随着射频功率的增加而增加;随着氧气含量的增加,先减小后增大;当溅射压强在0.4~0.8 Pa之间变化时,沉积速率变化很小,当溅射压强超过0.8 Pa时沉积速率迅速下降。讨论了不同生长条件下造成氧化硅薄膜生长速率变化的原因。  相似文献   

16.
Ti N film was coated on the internal surface of a racetrack-type ceramic pipe by three different methods:radio-frequency sputtering, DC sputtering and DC magnetron sputtering. The deposition rates of Ti N film under different coating methods were compared. The highest deposition rate was 156 nm/h, which was obtained by magnetron sputtering coating. Based on AFM, SEM and XPS test results, the properties of Ti N film, such as film roughness and surface morphology, were analyzed. Furthermore, the deposition rates were studied with two different cathode types, Ti wires and Ti plate. According to the SEM test results, the deposition rate of Ti N/Ti film was about 800 nm/h with Ti plate cathode by DC magnetron sputtering. Using Ti plate cathode rather than Ti wire cathode can greatly improve the film deposition rate.  相似文献   

17.
用磁控溅射法制备了不同Mn含量的PtMn/Co多层膜,通过大,小角X射线衍射谱对该多层膜进行结构分析,研究了该多层膜的层状结构同磁光克尔效应的关系,通过测定该多层膜在不同杂质浓度下的克尔谱,椭偏率谱及克尔回线,发现克尔角随Mn含量增加的变化规律,并分析了它的产生机制。  相似文献   

18.
This article describes the results of a study of Cu/Ni multilayer coatings applied on a monocrystalline Si(100) silicon substrate by the deposition magnetron sputtering technique. Composed of 100 bilayers each, the multilayers were differentiated by the Ni sublayer thickness (1.2 to 3 nm), while maintaining the constant Cu sublayer thickness (2 nm). The multilayer coatings were characterized by assessing their surface topography using atomic force microscopy and their mechanical properties with nano-hardness measurements by the Berkovich method. The tests showed that the hardness of multilayers was substantially influenced by the thickness ratio of Cu and Ni sublayers and by surface roughness. The highest hardness and, at the same time, the lowest roughness was exhibited by a multilayer structure with a Cu-to-Ni sublayer thickness ratio of 2:1.5.  相似文献   

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