Si（Li）谱仪测定X射线荧光谱中CrKβ谱线化学位移的探索

采用放射源＾２４１Ａｍ５９．６ｋｅＶγ射线分别激发金属Ｃｒ、Ｃｒ２Ｏ３和Ｋ２ＣｒＯ４，用Ｓｉ（Ｌｉ）谱仪比较测量其Ｋｘ射线的能量。实验表明Ｋ２ＣｒＯ４和ＣｒＫβ能峰相对于金属Ｃｒ有２．１２±０．２７ｅＶ的位移。     

Si(Li)谱仪测量X射线荧光谱中CrK_β谱线化学位移的探索

采用放射源２４１Ａｍ５９．６ｋｅＶγ射线分别激发金属Ｃｒ、Ｃｒ２Ｏ３和Ｋ２ＣｒＯ４，用Ｓｉ（Ｌｉ）谱仪比较测量其Ｋｘ射线的能量。实验表明Ｋ２ＣｒＯ４中ＣｒＫβ能峰相对于金属Ｃｒ有２．１２±０．２７ｅＶ的位移。     

SCF—Xα—SW程序和LMTO程序的改进及其在固体体系中的应用

在ＹＨ－１／ＹＨ－２计算机上将多重散射Ｘα自洽场方法（ＳＣＦ－Ｘα－ＳＷ）程序和线性Ｍｕｆｆｉｎ－ｔｉｎ轨道方法（ＬＭＴＯ）程序做了改进，实现了向量化和并行化。研究了Ｃ６０的能级；计算了苯分子从１ｅ１ｇ，２ｅ２ｇ和１ａ２ｕ开始激发的１０８个Ｒｙｄｂｅｒｇ态单电子轨道激发能，即１ｅ１ｇ，２ｅ２ｇ，１ａ２ｕ→ｋａ１ｇ（ｋ＝３－１１），ｋｅ２ｇ（ｋ＝２－７），ｋｅ１ｕ（ｋ＝３－８），ｋｅ１ｇ（ｋ＝３－５     

抗等离子体辐照的防氚渗透材料的研究

本文研究了氚在经能量为１ｋｅＶ和２８ｋｅＶＨ＋离子辐照的３１６Ｌ不锈钢中，及其ＴｉＣ和ＴｉＮ＋ＴｉＣ表面镀层材料中的扩散渗透行为。结果表明，３１６Ｌ不锈钢表面经１ｋｅＶＨ＋离子辐照后，在３５２ｏＣ下氚在其中的渗透率比在有天然氧化膜的３１６Ｌ不锈钢中的渗透率高２４７倍，但只为表面镀钯的３１６Ｌ不锈钢中的渗透率的１／１．６５。３１６Ｌ不锈钢表面镀２—５μｍＴｉＣ，并经化学热处理在ＴｉＣ中生成防氚渗透阻挡层后，在下游面用１ｋｅＶ能量的Ｈ＋离子辐照，在３５９ｏＣ下氚在镀膜中的渗透率比没受辐照的样品的低５５．７％。在３１６Ｌ不锈钢表面镀有ＴｉＮ＋ＴｉＣ的材料中，其涂层的下游面用能量为２８ｋｅＶ的Ｈ＋离子辐照后，在３２６ｏＣ下氚在其中的渗透率比没受辐照的高了２倍。     

金刚石（Ⅱa）光导X射线探测器

介绍一种新的软Ｘ射线探测器一天然金刚石（Ⅱａ型）光导探测器。金刚石光导探测器具有好的稳定性、对０．１～２．ＯｋｅＶＸ射线光谱具有平坦响应、暗流小（０．１ｎＡ）、对波长大于０；２２ｕｍ散射激光不灵敏等特点。应用这种探测器在“神光”装置打靶实验中测量Ｘ射线时，粗估灵敏度为３×１０￣（－４）Ｃ／Ｊ（偏压为１００Ｖ）．     

Hn^＋（n≤7）团簇）在Au—Si面垒探测器死层中的能损

利用Ａｕ－Ｓｉ面垒探测器是灵敏区前的死层作为靶物质,研究了Ｈｎ＾＋（ｎ≤７,２５０ｋｅＶ／ｐ－４５０ｋｅＶ／ｐ）团簇的其中的能损,得到能损比Ｒｎ〉１,且随团簇大小ｎ和平均每核子能量增加而增大。     

金刚石（Ⅱa）光导X射线探测器

介绍一种新的软Ｘ射线探测器一天然金刚石（Ⅱａ型）光导探测器。金刚石光导探测器具有好的稳定性、对０．１～２．ＯｋｅＶＸ射线光谱具有平坦响应、暗流小（０．１ｎＡ）、对波长大于０；２２ｕｍ散射激光不灵敏等特点。应用这种探测器在“神光”装置打靶实验中测量Ｘ射线时，粗估灵敏度为３×１０￣（－４）Ｃ／Ｊ（偏压为１００Ｖ）．     

低杂波电流驱动下硬X射线轫致辐射的测量与研究

用新研制的碘化汞（ＨｇＩ２）半导体探测器，测量来自等离子体芯部，其能量范围在１５—１５０ｋｅＶ之间的Ｘ射线轫致辐射。当用２００—３００ｋＷ、２．４５ＧＨｚ、９０ｏ相位角和Ｎ‖＝２．７的低杂波进行电流驱动时，硬Ｘ射线辐射强度在垂直于磁轴的方向上是减少的；但在磁轴切线方向上，孔栏的轫致辐射［用碘化钠（ＮａＩ）探测器测量］是增加的。Ｘ射线能谱测量表明，在低杂波电流驱动（ＬＨＣＤ）情形下，出现非麦克斯韦分布的高能尾部电子，其垂直能量最高可达１５０ｋｅＶ，尾部电子温度（垂直）在１５—３０ｋｅＶ之间。     

HIRFL—CSR电子冷却系统

建议中的兰州重离子加速器冷却贮存环（ＨＩＲＦＬ－ＣＳＲ）拟采用电子冷却方法将重离子束冷却到３００ＭｅＶ／ｕ。最高电子能量为１６５ｋｅＶ，最大电子电流密度主０．２４４Ａ／ｃｍ＾２，叙述了ＣＳＲ电子冷却装置的初步方案。     

Cs3Cu2I5晶体薄膜吸收谱的研究

本文测定了Ｃｓ３Ｃｕ２ Ｉ５ 晶体薄膜在室温及液氮温度下的吸收谱,并依此计算出该材料的激子参数,即激子束缚能ΔＥ（１）ｅｘ ＝ （０．５３±０．０７）ｅＶ,激子半径ａｅｘ ＝ ０．３２６ ｎｍ ,禁带宽度Ｅｇ ＝ （５．００±０．０７）ｅＶ。在谱分析的基础上,论证了Ｃｓ３Ｃｕ２Ｉ５ 的电子和激子激发定域在该晶体的ＣｕＩ亚晶格之中,同时,揭示了在低温下Ｃｓｘ Ｃｕ１－ ｘ Ｉ系列化合物的第一激子峰位置随其摩尔组分变化的规律。     

X光分幅相机-平面镜配接方法研究

利用X光谱仪用平面镜备件以及实验室常用五维调节架,设计了X光平面镜与X光分幅相机配接的探索方案,并对系统调节中各元件调节误差带来的影响进行了一定的分析,详细描述了系统的瞄准调节方法和过程.利用激光打靶实验,对X光平面镜与X光分幅相机的配接方法进行了检验.实验过程和结果表明,该方法系统结构和实施都较为简单,可以比较容易地在分幅相机微带上获得经平面镜反射的靶目标针孔像,实现～50 ps的时间分辨、10～20 μm的空间分辨及几十倍的能量分辨.     

X光透镜及其应用

着重介绍了Ｘ光透镜的原理，制作方法，及其在Ｘ光产业中的应用和发展前景。     

X射线粉晶衍射仪的今天和明天

超能探测器(X’Celerator)的研制成功给X射线衍射仪的制造技术带来了革命性发展，录谱速度提高了100倍．而预校准光路模块化技术，使得各种测试功能可以在数分钟内准确地更换，无须重新调整光路，从而使长期以来一机多功能的期望得以实现．各种新型光学模块使得X射线衍射仪的利用率成倍提高，可以在短时间内获得高质量的衍射数据．新软件的推出，可以快速、准确、全面地给出相关衍射数据．     

5—25keV刻度用X射线发生器

利用轫致辐射激发原子产生X射线荧光,经吸收边过滤,研制成单色低中能X射线发生器。实验给出5—25keV能区的4个单能点的强度、纯度以及相应的剂量率,可供刻度使用。     

New directions in X-ray microscopy

The development of high brightness X-ray sources and high resolution X-ray optics has led to rapid advances in X-ray microscopy. Scanning microscopes and full-field instruments are in operation at synchrotron light sources worldwide, and provide spatial resolution routinely in the 25–50 nm range using zone plate focusing elements. X-ray microscopes can provide elemental maps and/or chemical sensitivity in samples that are too thick for electron microscopy. Lensless techniques, such as diffraction microscopy, holography and ptychography are also being developed. In high resolution imaging of radiation-sensitive material the effects of radiation damage needs to be carefully considered. This article is designed to provide an introduction to the current state and future prospects of X-ray microscopy for the non-expert.     

一种高温等离子体X射线参数诊断方法

 介绍了高温等离子体中用滤波荧光法测量X射线能谱、用散射法测量X射线总剂量的原理,建立了X射线能谱、总剂量的数据处理方法,成功获得了实验结果,测点处总的辐照剂量不确定度为± 23％。     

0.5—10nm软X射线标定光源的研制

本文描述一个用于标定弯晶谱仪的软X射线(0.5—10nm)光源系统。当阳极靶材料为铁、碳和硼时,相应的分别采用KAP、OHM和LS晶体可以得到铁L.(1.76nm)、碳K.(4.47nm)和硼K.(6.76nm)单色光,实验上测量了这三种单色光亮度随阴极发射电流的变化。     

X射线衍射进展简介

100年前,劳厄等证明X射线对硫酸铜晶体具有衍射能力,揭开了X射线衍射分析晶体结构的序幕.100年的发展,X射线衍射已经成为自然科学乃至医学、考古、历史学等众多学科发展的必备技术.文章介绍了X射线衍射现象的发现历史,X射线运动学和动力学理论的发展概况,并举例说明了X射线衍射在粉末多晶体、单晶体和人工功能晶体以及人工薄膜材料中的具体应用情况,最后简要展望了X射线衍射技术的发展前景.     

一种新型多元素X射线荧光分析仪的研制

新研制的一种用于建材的新型多元素Ｘ射线荧光分析仪与传统的技术方案不同，采用了小功率Ｘ光管激发，薄铍窗正比计数管探测，在低号元素Ａｌ、Ｓｉ的测量方面，具有特色。并简要介绍了仪器的工作原理、组成、技术指标及工业应用效果。     

线焦斑X射线源成像

为解决普通X射线源光通量和空间相干性的矛盾,本文提出一种焦斑为线状的新型X射线源.理论上,本文所提的射线焦斑为理想的线,沿线方向上提供高通量光子;垂直线方向光源为空间相干光,可为系统提供高分辨率图像.沿着线方向上,图像会损失细节,为补偿该方向上图像的损失,利用旋转叠加的方法,重构出高分辨率图像.在频率域,分析了旋转叠加空间频率传递函数值的分布特性,其结果表明:相对单个图像,频率传递函数在频域的各个方向,传递函数特性有大幅度提高,从而可以传递图像高空间频率成分.基于普通X射线管,实现了该种射线源,并利用实验验证了该方法的有效性.