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Cr(Ⅵ)离子在TiO2表面的光催化还原机理研究 总被引:18,自引:0,他引:18
采用XPS和ESR表征技术研究表明,Cr离子在TiO2表面的光催化还原过程中,有Ti^3+物种生成并参与了Cr离子的还原反应。实验结果表明,Cr离子的光催化还原主要以从Ti^3+上得到离子的间接还原为主,同时也存在着从TiO2导带捕获光激发电子发生直接还原的可能性。 相似文献
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本文合成了系列Bi2Ti4-xTexO11样品,拉曼光谱及X射线衍射谱表明该体系的相转化边界发生在x=0.5处,Bi2Te4O11的压致结构相变的压力为8.2GPa。本文结果证实了我们过去对Bi2Ti4O11相变提出的机制 相似文献
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用直流平面磁控溅射沉积薄膜的方法在Si和玻璃基片上制备了Ta2O5/TiO2混合薄膜,薄膜的透射光谱研究结果表明,在TiO2掺入浓度为0到17%,薄膜的折射率从2.08到2.23。薄膜折射率与掺入TiO2的浓度呈近线性关系。薄膜的MOS电容器的I-V和C-V测量表明,经过退火处理能够提高Ta2O5/TiO2混合薄膜的介电常数。 相似文献
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双离子束溅射沉积薄膜的光学特性与激光损伤研究 总被引:5,自引:1,他引:4
对氧化物薄膜的双离子束溅射沉积作用了系统地实验研究。考察了离子束溅射工艺参数对薄膜光学特性的影响。制备了折射率接近于块材料的TiO2和ZrO2薄膜,显著降低了TiO2,ZrO2和SiO2薄膜的光吸收损耗,TiO2和ZrO2薄膜的抗激光损伤阈值得到显著提高。用双离束溅射沉积1.06μm多层高反,是到了大于99.5%的高反射率,经高温退火处理的双离子束溅射沉积高反膜的抗激光损伤阈值同热蒸发沉积的高反膜 相似文献
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Bi^3+气相扩散对SrTiO3基功能陶瓷晶界的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
用均匀设计法设计实验方案,在扩散温度为100 ̄1250℃,扩散后的降温速度为200 ̄600℃/h,扩散时间为20 ̄270min及扩散源中铋含量为25% ̄50%的范围内研究了用Bi2O3作为扩散源进行气相扩散时诸因素对SrTiO3半导体陶瓷进行晶界绝缘处理的影响。对实验结果进行统计回归处理的结果表明了各因素对样品的介电常数ε的影响,用SEM、PPMA对陶瓷断面和晶界附近铋含量的分布测定表明,在高温下 相似文献
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微波等离子体处理聚乙烯膜的表面结构分析 总被引:2,自引:0,他引:2
以ESCA和EPMA等主手段,探讨并比较了微波场下N2,He,CO2,O2,H2O及空气放电产生的等离子体对聚乙烯膜的表面改性与蚀刻作用,结果表明不同的等离子处理均使样品表面引入化学形式相同但含量有所不同的含氧(-C-O-,-CO-O-)和含氮(-NH-,-NH2)极性基团,没有生成羰基(C=O)并使样品受到不同程度的蚀刻,处理后的样品表面亲水性增强,其中以N2和He等离子体处理的样品亲水性提高较 相似文献
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溶液电火花法制备Ag—TiO2纳米级复相超细粉及其光学性质 总被引:2,自引:0,他引:2
首次报道采用溶液电火花制备Ag-TiO2纳米级复相超细粉,XRD和TEM分析表明,所得产物可是金红石相也可是锐钛矿相,粒径分布均匀,一般在5 ̄20nm内,超细粉经超声重新分散后所得纳米粒子的TEM像指出,许多粒子是由金属Ag粒子和TiO2粒子互相粘连构成葫芦状混合复相纳米结构,显示有比涂层修饰粒子略有减弱的增强激光拉曼散射(SERS)效应和相应的光学性质。讨论了含有Ag涂层的复合TiO2粒子与纯T 相似文献