耐高温光刻胶光栅模板的制作与转移技术及其应用

作为试件变形传感元件的云纹光栅的制作是云纹干涉法的关键技术。本文提出了在１２０～２００℃高温下使用的光刻胶光栅模板的制作及在此温度下试件栅的复制工艺，并利用此技术研究了新型微电子封装组件在１２５～２０℃温度载荷下的热变形。实验结果表明：采用该方法可以获得高质量的试件栅，云纹条纹质量好，可用于试件微小区域内热变形的精确测量     

能耐受650℃和强烈辐射的新型芯片

日本Yoyota研究实验室和Dens0公司科学家研制成一种新工艺。利用该工艺能制取耐受650℃高温的新型芯片，普通芯片很难经受70℃温度。其奥秘在于新型芯片的材料。它不是普通的硅，而是碳化硅。碳化硅在性能上非常适合来制作芯片，其实这一点早在50年前就已知道。     

放电等离子烧结制备ZrB2-SiC超高温陶瓷的力学性能及氧化行为

在服役环境中,超高声速飞行器表面与空气剧烈摩擦导致温度极高。超高温陶瓷相较于一般陶瓷而言具有高熔点和良好的抗氧化烧蚀性能,是目前极具前景的热防护材料之一。采用放电等离子两步烧结工艺将ZrB2纳米粉末和SiC粉末在1700℃下制备超高温陶瓷材料ZrB2-20%SiC,通过纳米压痕微观实验、三点弯实验研究其力学性能及其在高温环境下的氧化行为,着重分析1000、1200、1400和1600℃4种不同氧化温度下ZrB2-20%SiC超高温陶瓷的氧化表面、氧化截面和氧化层厚度。结果表明:ZrB2-20%SiC超高温陶瓷的硬度为18 GPa,弹性模量为541 GPa,断裂韧性为5.7 MPa·m1/2;当氧化温度为1600℃时,超高温陶瓷内部的SiC由被动氧化转变为主动氧化,并且随着氧化温度升高,超高温陶瓷氧化层厚度与氧化温度呈正相关。     

一种测量温度和流速的光纤光栅传感器

提出一种基于铝片的测量温度和流速的光纤布喇格光栅(FBG)传感器。采用一种耐高温胶将光纤布喇格光栅封装在一小铝片上，经过高温固化处理，可保持光纤光栅传感器的稳定性。通过-20℃～100℃温度实验，得到该传感器的温度灵敏度系数为0.0392nm/℃,是封装前的3.5倍，且传感器温度响应保持了很好的线性和重复性。从水温14.5℃时的流速实验中得到水流速在0～20m/s范围变化时，FBG峰值波长漂移了0.13nm,验证了此光纤光栅传感器测量流速的可行性。试验结果表明，该传感器既可以作为温度传感器，又可以作为流量传感器，并且制作简单，成本较低。     

InN薄膜的氧化特性研究

研究了InN薄膜在不同氧气氛中的氧化特性. 研究表明，在400 ℃以下，InN薄膜很难被氧化，而金属In很容易被氧化. 因此富In的InN薄膜的氧化在400 ℃以下主要是金属In的氧化，在400 ℃以上为金属In和InN的同时被氧化. 在400 ℃以上的氧化过程中，InN的表观氧化速率非常慢，这可能和InN的高温分解有关. InN的湿氧和干氧氧化结果说明湿氧氧化速率比干氧快. 关键词： InN 氧化铟 氧化 X射线衍射     

含耐高温涂覆层长周期光纤光栅的温度特性研究

利用逐点写入法在耐高温光纤中用红外飞秒激光直接写入了长周期光纤光栅,研究了光栅的高温温度特性,并做了理论分析.通过对含耐高温涂覆层的长周期光纤光栅进行20 ℃~300 ℃的温度传感实验,结果表明：在高温段光栅的谐振波长漂移量与温度之间仍能保持大的灵敏度（0.060 5 nm/℃）和好的线性度,且光纤耐高温涂覆层不受破坏,光纤耐高温涂覆在高温下不会出现碳化现象,光栅传感性能良好.实验证明该方法制作的光栅适合于长期在高温环境下使用,应用价值巨大.     

高能氮离子注入人造金刚石的热稳定性

 叙述了在GLZ-100E工业离子注入机上采用20~60 keV氮离子及氮分子离子注入人造金刚石晶体的实验研究。XPS分析表明，注入离子在人造金刚石颗粒表面形成了一层较为稳定的含氮混合物层。高温差热分析（DTA）的实验表明，经氮离子束处理的金刚石，其氧化起始温度T（onset）由原来的730 ℃左右提高到800 ℃以上，且随着氮注入剂量的增加而增加，氧化速度也随之变缓；差热分析还表明，随着温度的升高，金刚石首先转化为石墨（DTA曲线上表现为吸热），然后氧化燃烧生成CO₂（放热），而注入离子能量的增加，氧化温度的提高幅度略有下降。离子注入还使其高温石墨化性能显著改善。     

高温全息光栅的制作工艺研究

本文提出了应用双镀层光刻法制作高温全息光栅的新工艺。此工艺范围广,制栅对象可选择陶瓷、石英等耐高温的非金属材料,也可选择耐高温合金等金属材料。高温实验结果表明.双镀层高温全息光栅具有较好的抗氧化能力,可作为高温变形测量的基本元件使用。     

高温稳定25 Gbit/s 850 nm垂直腔面发射激光器

通过在N型分布布拉格反射镜(DBR)中采用高热导率AlAs材料,且增加AlAs层所占的厚度比例,在保持DBR反射率基本不变的情况下,大幅度增加了N型DBR的热导率,提高了器件高温工作性能。制作了氧化限制型顶发射VCSEL器件,不同温度条件下的直流测试结果表明:25℃时热反转功率超过8 mW;85℃时热反转电流为11 mA,功率达5 mW,表现出较好的高温工作特性。远场发散角小于17°。0～70℃的温度条件下眼图都较清晰,表明器件满足高温25 Gbit/s工作要求。     

AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管温度传感器特性

本文制作了基于无栅AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管结构的温度传感器,并对其温度相关的电学特性进行了表征.实验测试了器件从50℃到400℃的变温电流-电压特性,研究了器件灵敏度随着器件沟道长宽比的变化,并研究了在300—500℃高温的空气和氮气中经过1 h恒温加热后器件的电学特性变化.理论与实验研究结果表明,随着器件沟道长宽比的增大,器件的灵敏度会随之上升;在固定电流0.01 A下,器件电压随温度变化的平均灵敏度为44.5 mV/℃.同时,稳定性实验显示器件具有较好的高温保持稳定性.     

Fabrication of high temperature moiré grating and its application

The fabrication technique of high temperature moiré grating has been presented, which combines thermal nanoimprint process method and high temperature transferring technique. And the quality of grating was evaluated by analyzing its configuration through the Atomic Force Microscope (AFM) images. From the analysis, it was found that the optimal depth of grating will cause different stress condition in the process of vacuum deposition, and thicker deposited metal film on the grating may enhance the oxidation resistant ability. However, with the increase of the thickness of the metal film, cracks may occur in the film, In order to avoid this mechanical failure, the optimization of the depth of grating was performed. The optimized depth was obtained by analyzing the stress intensity using Finite Element Method (FEM). In order to verify the reliability of high temperature grating, the tensile experiment of high temperature alloy (GH3030) at 650 °C was carried out, and the experimental results demonstrated that fabricated high temperature grating was feasible.     

用拉伸和二次曝光法制作基于莫阿光纤光栅的带通滤波器

我们利用一块均匀掩膜版,通过对光纤拉伸和二次紫外曝光的方法制作了一基于莫阿-布喇格光纤光栅的带通滤波器,其带通宽度为0.28nm.我们对这种方法制作的莫阿-布喇格光栅作了理论分析.在此文中,还给出了均匀光纤光栅的拉伸特性.     

Dispersion Analysis of Birefringent Dielectric Grating Structure for Application in Pressure and Temperature Measurements

In this paper, the dispersion characteristics of a birefringence dielectric planar grating structure for application in pressure and temperature measurements are analyzed by a method, which combines the edge element method with rigorous mode matching approach. Analysis results show that this new anisotropic grating structure offers very high sensitivity for pressure and temperature measurements. Also it is justified that the present method has the advantages of simplicity, accuracy and suitability.     

光栅计量装置中离焦误差的控制

探讨光栅成像式莫尔条纹计量装置中离焦误差的影响，提出用莫尔条纹方向的稳定性来提高光栅定位精度的方法。     

双计算机光栅莫尔拓扑术

提出了利用双计算机光栅实现莫尔拓扑检测的方法.理论分析表明,投影光栅核的横向偏导数为常数是实现灵敏度均匀性检测的必要条件.适当设计光栅核,就可用等间距直条纹来表征标准面形.被测实物面形的缺陷就可通过莫尔条纹相对于背景直条纹的偏移而定量且直观地反应出来.最后,以轮胎镜为例进行了计算机模拟和实验验证.     

多光束莫尔偏折术的探讨

本文探讨了莫尔偏折术应用的新方法——多光束莫尔偏折术.该法无需测量莫尔条纹偏折角,而是记录条纹对比度最好时试件的位置.文章阐述了其基本原理,并在光栅栅距和光楔楔角测量上进行了实验验证,取得较好的结果.     

电子束刻蚀法制作微米/亚微米云纹光栅技术

本文应用电子束刻蚀技术并结合真空镀膜技术提出了制作电子束云纹光栅的新方法。首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺。所制得的光栅可在两频率下应用电子束云纹法测量物体的变形。同一般光栅相比 ,这种双频光栅变形量程范围更大。在本研究中 ,运用电子束刻蚀法并结合真空镀膜技术制作出 0 .1μm间距 ( 10 0 0 0线 /mm光栅 )的电子束云纹光栅。应用所制作的 10 μm/1μm双频光栅与相对应的电子束参考栅干涉 ,分别得到对应的电子束云纹场。文中对制栅工艺及方法进行了详细的讨论。     

电子XOR莫尔等高术及产生微分和旋转剖面效应的研究

本文提出利用数字电子XOR(异或)运算,得到三维物体的实时等高线条纹,这种莫尔技术的特点是能消除莫尔纹的载频.用该方法,通过改变投影光栅周期,实现空间等高剖面的旋转,横向移动物体得到实时的斜率等位线条纹,并给出实验结果.     

双频全息光栅的空间衍射特性及其应用

本文详细讨论了双频全息光栅的空间衍射特性,指出利用双频全息光栅的空间衍射特性可以方便地获得等强度双光束干涉场,该干涉场既可有效地用于制作高质量全息光栅,亦可以作为产生叠栅条纹的空间虚光栅,用于微小位移、转角、变形及三维面形的高灵敏度和非接触测量。文中还给出了相应的实验结果。