同态滤波预处理在微粒场全息图图像处理中的应用

针对粒子场全息图像亮度不均匀产生的原因进行理论分析,采用同态滤波图像增强方法对微粒场全息图像亮度不均匀进行校正,消除了对图像处理中的二值化处理结果带来的影响,提高了原图像的象质,为进一步提取图像中的特征信息打下了良好的基础.通过计算机模拟分析和验证,证实了同态滤波图像增强方法是有效的预处理方法.     

基于数学形态学和匹配滤波的视网膜血管图像增强方法

针对视网膜图像成像过程的特点,提出了一种新的视网膜图像血管信息增强方法。由于存在光照不均匀的情况,采用同态滤波的方法设计了一种滤波器,对光照不均匀的情况进行了有效的校正;使用数学形态学中的Top Hat变换,对背景信息进行抑制,使得血管信息得到增强;最后进一步采用匹配滤波的方法,探测血管信息,使得血管信息的亮度得到提高,增强了与背景的对比度,血管信息具有明显的可视性。实验结果表明了提出的方法的有效性,对临床疾病的诊断及治疗具有较大的参考价值。     

光照不均匀的干涉条纹校正新方法

光照不均匀的干涉条纹校正是干涉条纹图像处理中的一个难题。理论分析了产生照度不均匀的原因,提出了采用同态滤波技术进行干涉条纹校正。通过计算机模拟验证,该方法不仅编程简单,而且校正效果好,是一种有效的干涉条纹预处理方法。     

基于优势特征图像融合的水下光学图像增强

针对水下光学图像颜色失真、非均匀光照、对比度低的问题,提出基于优势特征图像融合的水下光学图像增强算法.首先,提出改进的暗通道先验算法去除退化图像中的不均匀浑浊并均衡色彩;其次,对颜色校正图像分别使用基于加权分布的自适应伽玛校正算法和限制对比度自适应直方图均衡-同态滤波算法,增强颜色校正图像对比度并使其亮度均衡;最后,定义三幅融合图像即颜色校正图像、亮度均衡图像、对比度增强图像的关联权重图,通过多尺度融合算法获得融合图像.与单一预处理算法只能解决对应的退化现象相比,该算法对单幅退化图像进行多算法处理,得到三幅优势特征图像,通过不同权重的组合最大程度地将各优势特征相结合,得到的综合效果远超各单一算法优化效果,不再局限于解决颜色失真等单一问题.将本文算法与现有算法在主观评价和客观评价两方面进行实验对比,结果表明,该算法可以有效平衡水下图像的色度、饱和度及清晰度,视觉效果接近自然场景下的图像.     

同态技术在红外图像处理中的应用

针对噪声引起的红外图像对比度的下降，采用同态滤波增强方法对红外图像进行校正，减小了噪声的影响，提高了原图像的对比度和像质，为进一步提取图像中的特征信息打下了良好的基础.通过计算机模拟分析和验证,证实了同态滤波是红外图像对比度增强的有效预处理方法.     

LED显示屏相机采集的渐晕校正

为了克服采集相机渐晕在LED显示屏逐点一致化校正过程中产生的亮度不均匀缺陷,提出了一种基于LED显示屏本身和若干屏幕离散位置亮度测量的采集相机渐晕校正方法。首先分析了相机对LED显示屏进行数据成像采集过程及成像特征,在此基础上,提出了采集相机渐晕的标定方法,得到了代表相机渐晕的拟合曲面,从而计算出采集相机上每一像素点的渐晕修正系数。利用上述方法对LED显示屏进行了单箱亮度校正实验。实验结果表明:单箱校正的显示均匀性从渐晕修正前的6.69%缩小到修正后的1.49%。经过对相机影像渐晕修正以后,可以完全消除修正前的亮度曲面分布,从而克服了修正前LED显示屏中心暗、四周亮的缺陷,达到了理想的多屏拼接校正效果。     

投影显示亮度均匀性稳健校正方法

随着投影仪的发展,其显示质量越来越受到人们关注.投影显示中普遍存在亮度不均匀性问题,且大部分高灰度图像在亮度校正后易出现饱和.而一般的剪切法会极大地降低像面均匀性.为解决这个问题,基于投影仪相机系统建立系统光度学模型,在传统线性映射方法的基础上提出了一种亮度不均匀性校正的非线性稳定算法.实验表明,采用的投影仪在校正前其图像显示亮度从中心到边缘下降了近50%,像面不均匀性的相对均方根误差(RRMS)为17.7%;而饱和图像校正后像面的RRMS为1.69%,几乎达到了与未饱和图像(1.55%)相同的校正精度,同时基本保持了显示图像的平均亮度水平.     

像增强器的荧光屏亮度均匀性测试的校正法研究

像增强器荧光屏亮度均匀性参数是判断其性能好坏的一个重要技术指标。设计了一种测试系统来测试它的亮度均匀性参数。该系统利用标定过的具有均匀亮度的荧光屏(裸屏),以标准像增强器的图像作为标准来校正面源电子枪。由于校正后的面源电子枪仍然存在误差,所以具有均匀亮度的荧光屏(裸屏)的图像不可能是完全均匀的,呈现边缘暗中间亮。分析其图像的亮度曲线,建立校正函数,改变校正函数中的调节系数,直到计算机上显示出图像均匀为止,这时可得出系数确定的校正函数。首先利用校正后的电子枪轰击待测荧光屏,采集其图像,以确定的校正函数对其进行修正,然后观察由计算机显示出的图像是否均匀,从而判断待测荧光屏的均匀性。     

射线面阵探测器成像系统校正研究

基于线性、移不变理论,对射线面阵探测器成像的特性和系统成像所呈现出亮度不均匀的原因进行分析研究.通过分析线性系统成立的假设条件,给出了对实际成像中各像元点阵的偏置、灵敏度进行逐点校正的公式.在实验室,对基于PaxScan2520 面阵探测器的成像系统进行成像校正研究,取得了满意的效果,噪声得到有效的抑制,成像的不一致性得到改善.当检测较厚工件或工件厚度变化较大时,系统成像超出其线性范围,给出了二次校正的方法和公式,也取得了满意的效果.     

推扫型干涉成像光谱仪去除条带非均匀性的方法

分析了推扫型干涉成像光谱仪的结构特点和工作原理,指出了由于加工误差导致入射狭缝的宽度不均匀,使干涉图像沿狭缝方向存在亮度差异,复原后的光谱立方体图像上出现平行于推扫方向的非均匀性条带,影响了光谱立方体的图像质量和光谱精确度.采取校正系数法去除条带,讨论了获取校正系数的方法,并使用仪器的定标干涉数据提取成像面上沿狭缝方向的不均匀特性,获得了校正系数,对干涉图像进行处理以消除条带.结果表明:校正系数法能够去除大部分条带.根据处理后残余条带的情况,在没有在轨定标数据的情况下,使用均匀景物的光谱立方体数据提取不均匀特性,修改了校正系数,有效地消除了残余条带.     

单顶角结构LED背光模组的设计与优化

由于LED（发光二极管）具有寿命长、色域宽、功耗低和环保（传统的光源CCFL含有汞气）等特性，在背光模组中采用LED代替CCFL（冷阴极荧光灯）是一种趋势。采用单光源顶角入射结构设计一个5.08cm(2inch)液晶背光模组。针对LED作为点光源带来的亮度不均匀的问题，采用旋转LED的入射角度和区域分割设计的方法，有效地解决了LED液晶背光模组中存在亮斑和暗区等不良的现象。通过模拟实验，可以得到光源出射均匀度为80.06%的导光板。     

基于MEMS光栅平动式光调制器信号处理分析

依据傅里叶光学理论,采用在频谱面上放置两种空间滤波器的方法进行信号处理,分析了光栅平动式光调制器在成像面上的强度分布情况,实现了对光能量的调制.分析表明：当滤出±1级谱时,像面上可以得到完全均匀的暗场；但是由于边框和悬臂梁的影响,得不到完全均匀的亮场；当滤出零频谱时,由于边框和悬臂梁的影响,得不到完全均匀的暗场和亮场.设计时,为了要在像面上得到更高的亮度均匀性,需要满足可动光栅栅条宽度为光栅周期的一半,同时应尽量减少悬臂梁和边框的宽度.     

ZnO:Zn低能电子发光的亮度饱和

本文讨论了ZnO:Zn低能电子发光亮度饱和的物理原因。指出,在Vg=Va(通常数字显示的情况)的条件下,亮度饱和的主要原因是ZnO:Zn次级电子发射和阴极发射疲劳;若取Vg=Va,则饱和亮度成倍提高,这时热猝灭将是亮度饱和的主要因素。同时指出,对于一定的输入功率,存在着一个与最佳效率相对应的最佳阳极电流密度;低阳极电流密度,高阳极电压往往是低效率的。作者根据本文的研究结果,制成了饱和亮度高达37,000cd/m2的发光管和饱和亮度为22,000cd/m2、能在5,000至10,000cd/m2稳定工作的高亮度数字显示管。后者配上适当的滤光片、在阳光直接照射或照度高达100,000lux的条件下仍能清晰地阅读。     

荧光粉相对亮度测量的色修正

由于很难将光接收器的相对光谱灵敏度S(λ)调到与CIE标准观察者V(λ)完全一致,不同荧光份又具有不同的相对光谱功率分布,因此测量荧光粉的相对亮度与测量其它光度量一样,必须进行色修正。本工作针对实际使用的光接收器和相对光谱功率分布不同的几种荧光粉的相对亮度计算了色修正系数。     

单颗粒脱硫反应模型分析

本文在单颗粒脱硫缩核模型的基础上分析了晶粒模型,并指出了原有晶粒模型中的不足之处,分析了晶粒初始孔隙率非均匀的原因,建立了一个初始孔隙率沿半径变化的改进晶粒模型。改进后的非均匀模型考虑到颗粒内部初始孔隙率的非均匀性,分析了非均匀初始孔隙率对脱硫效率和脱硫剂利用率的影响,并给出了初始非均匀孔隙率模型的完整的数学描述。     

磁准直器测强流电子束亮度

本文介绍磁准直器测量束亮度的原理、方法、应用条件以及该方法应用于1.5MeV LIA(直线感应加速器)上的结果。并讨论了空间电荷效应对该方法的影响。     

形成电压对直流电致发光(DCEL)器件在交流(AC)条件下亮度和寿命的影响

实验结果表明,不同形成电压的样品的起始亮度和工作寿命按高低的排列顺序随工作电压的增加表现出有规律的变化。还发现形成电压不问的DCEL器件在AC条件下的发光特性随工作电压的提高逐渐趋向一致,形成电压的影响逐渐消失。这一现象被解释为是由于在AC条件下也存在类似于在直流(DC)条件下的形成过程,即Cu+迁移过程。老化过程也是形成过程的继续。