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共有20条相似文献,以下是第1-20项 搜索用时 187 毫秒

1.  LB膜的各向异性与二次谐波超平方增长  被引次数:2
   韩奎 陆兴泽《光学学报》,1997年第17卷第5期
   用偏振紫外-可见吸收及旋转样品二次谐波方法研究了半花菁/花生酸Y型交替LB多层膜中由垂直浸渍过程诱导和层间相互作用增强的分子在基板平面内的定向排列,提出并证实了随层数增长的平面内附加偶极矩导致光学二次谐波强度随LB膜厚度的超平方增长关系。    

2.  X荧光光谱分析中的薄样背比法  
   何去奢《物理》,1984年第11期
   薄样法在X射线荧光光谱分析中应用较为普遍.它的增强、吸收效应很弱,背景低,在很大浓度范围内强度与浓度呈线性关系[1].但是,由于其分析线强度低,分析下限只达千分之几[2],而且分析线强度随膜的厚度而变(厚度效应),所以限制了薄样法的应用范围和它的准确度. 我们研究了薄样散射背景强度随厚度变化的规律,发现薄样散射背景强度随厚度变化的规律与分析线强度变化的规律相似,可以用它们的比值来校正薄样的厚度效应和厚膜的吸收效应.这就为增加薄样厚度以增强分析线强度,进行痕量分析,提供了一个简单、快速、经济,准确的分析方法. 一、薄样散射…    

3.  Co-Zr/Pd多层膜的磁性与结构  
   徐明春  颜世申  刘宜华  黄佶《物理学报》,1997年第46卷第7期
   Co-Zr/Pd多层膜由高频溅射方法制得.磁性合金Co-Zr层厚度固定为1.8nm,改变Pd层厚度0.5—6nm.由振动样品磁强计测量,发现随Pd层厚度增加,磁化强度发生周期性振荡变化,周期约为1nm,这是由Pd层的极化振荡引起的.经X射线衍射测得Pd层厚度超过1.3nm时,磁性合金Co-Zr层发生晶化,而厚的Co-Zr单层膜是非晶结构.X射线大角衍射图中的超晶格峰表明,在Co-Zr层和Pd层之间存在相关生长.而且还发现,随Pd层厚度增加,样品在垂直膜面方向的晶粒尺寸及fcc(111)面的面间距发生周期性    

4.  超细粉末压片制样X射线荧光光谱测定碳酸岩样品中多种元素及CO2  
   李小莉  安树清  徐铁民  刘义博  张莉娟  曾江萍  王娜《光谱学与光谱分析》,2015年第6期
   粉末压片X射线荧光光谱分析碳酸岩的误差主要来自粒度效应和矿物效应。为消除粒度效应影响,采用超细粉末压片制样准确测定了碳酸岩中的多种元素和CO2。使用德国FRITSCH行星式球磨机,碳化钨研磨介质将碳酸岩进行超细粉碎,为了克服团聚效应,采用了湿法研磨。随颗粒度的减小,样品表面形态更平整、光滑,康普顿散射效应减小。研究了粒度变化对各元素分析线强度的影响,通常荧光强度随粒度减小而增加。当多个组分的颗粒度减小时,S ,Si ,Mg的强度将增加,Ca ,Al ,Ti ,K的强度将减小,这取决于各自的质量吸收系数。研究了粒度变化对矿物物相组成的影响。计算了各分析元素分析线的穿透厚度,当样品的粒度碎至元素分析线的穿透厚度以下时,荧光强度受粒度的影响减小。实验发现当样品碎至d95≤8μm时,基本消除了颗粒度效应影响,压片法制样,理论α系数、经验系数法结合校正基体效应,可准确测定碳酸岩样品中14个元素,方法的精密度大大改善,除Na2 O外,RSD<2%。C是超轻元素,荧光产额低且干扰严重。实验采用PX4人工多层膜晶体,粗准直器,X射线荧光光谱可定量测定碳酸岩中的CO2。试验发现C的测量强度随测量次数的增加而增加,且随放置时间的增加而增加(即使在干燥器中存放),因此建议使用新制的样片测定CO2。    

5.  同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚  
   巩岩  陈波  尼启良  崔明启  赵屹东  吴忠华《中国物理 C》,2005年第29卷第11期
   掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能. 尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成. 以北京同步辐射光源作激发光源, 采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品, 测试结果与理论计算基本符合. 同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象.    

6.  Pt97.4Mn2.6/Co多层膜的磁性与磁光性质研究  被引次数:2
   周勋  梁冰青  王海  陈良尧  唐云俊  王荫君《物理学报》,2003年第52卷第2期
   用磁控溅射法制备了Mn含量一定、不同PtMn层厚度的Pt97.4Mn2.6/Co磁性多层膜系列,通过x射线衍射对该多层膜系列进行结构分析;测定了不同PtMn层厚度系列样品的磁滞回线、有效垂直各向异性,分析了饱和磁化强度和有效垂直各向异性变化的原因;通过测定该多层膜体系的克尔谱,分析了一定波长下克尔角随PtMn层厚度变化的规律.认为克尔角的变化是由于界面的合金化以及原子的极化减小所致.    

7.  Pt974Mn26/Co多层膜的磁性与磁光性质研究  
   周 勋  梁冰青  王 海  陈良尧  唐云俊  王荫君《物理学报》,2003年第52卷第2期
   用磁控溅射法制备了Mn含量一定、不同PtMn层厚度的Pt974Mn26/Co磁性多层膜系列,通过x射线衍射对该多层膜系列进行结构分析;测定了不同PtMn层厚度系列样品的磁滞回线、有效垂直各向异性,分析了饱和磁化强度和有效垂直各向异性变化的原因;通过测定该多层膜体系的克尔谱,分析了一定波长下克尔角随PtMn层厚度变化的规律.认为克尔角的变化是由于界面的合金化以及原子的极化减小所致.    

8.  NH_3-Ar气氛下制备的Zn_3N_2薄膜的结构和光学性能(英文)  
   李宏光《光子学报》,2012年第41卷第6期
   Zn3N2是一种宽带隙半导体材料,在温度高于400°C氧化可生成p型ZnO:N,p型ZnO:N在电子学和光电子学领域有广泛的应用.在NH3-Ar气氛下,用RF磁控溅射金属Zn靶在玻璃衬底上室温制备了Zn3N2薄膜.用紫外-可见分光光度计、X射线衍射仪、X射线光电子谱分析仪、荧光分光光度计对Zn3N2薄膜的光学透过、光学吸收、结构、化学键态和光致发光进行了测量,研究了NH3分压对Zn3N2薄膜的结构和光学特性的影响.XRD分析表明Zn3N2薄膜呈现多晶结构,具有(321)择优取向,Zn3N2(321)衍射峰强度随NH3分压增加而增强.在NH3分压5%~10%制备的Zn3N2薄膜有较低透过率,透过率随NH3分压增加而提高.Zn3N2薄膜是间接带隙半导体,当NH3分压从5%变化到25%时,光学带隙从2.33eV升高到2.70eV.XPS分析表明Zn3N2薄膜在潮湿空气中容易水解.室温下Zn3N2薄膜在437nm和459nm波长出现了发光峰.    

9.  用蒙特-卡罗方法模拟质子X荧光分析中的荧光增强因子  
   王樨德  潘正瑛  黄发泱  夏荣《物理学报》,1989年第38卷第5期
   本文用蒙特-卡罗方法模拟质子激发X荧光分析中的一次和二次荧光强度,从而得到荧光增强因子。文中利用模拟计算程序,在改变入射质子能量、入射角、x射线出射角及分析样品的成分和含量的条件下,分别计算了荧光增强因子。此外,还计算了质子激发标准合金钢样品的荧光增强因子,得到的    

10.  Fe/Cr磁性多层膜的制备及其磁电阻测定  
   令狐荣锋  梁冰青  周勋  王荫君《物理实验》,2005年第25卷第6期
   利用磁控溅射制备了不同非磁性层厚度的Fe/Cr多层磁性薄膜系统,利用四探针法测定了该多层膜系统在不同磁场下磁电阻效应,用饱和场法给予佐证,溅射制备的多层膜系统饱和场明显地随Cr层厚度增加而衰减振荡,得出了Fe/Cr多层膜的铁磁反铁磁耦合的交换耦合强度随非磁性层厚度变化的物理规律.    

11.  磁性多层膜中保护层厚度对磁性层NiFe的影响  
   卡马勒·托克达尔汗  拜山·沙德克《新疆大学学报(理工版)》,2010年第3期
   本文主要讲述了SV-TMR结构中以自由层为模拟的多层膜SiO2/NiFe/Ta与SiO2/NiFe/Ru中,不同厚度的保护层钽(Ta)和钌(Ru)对磁性层NiFe的影响.我们采用振动样品磁强计(VSM)和X射线衍射仪(XRD)对该薄膜进行了结构测试和深度剖析,结果表明:改变保护层厚度时,两种样品的饱和磁化强度不变,随Ru厚度的增加,样品SiO2/NiFe/Ru的矫顽力也增加.同时用XRD测量发现,以Ru为保护层生长的样品比Ta为保护层生长的样品具有更好的织构,更好的结晶性.Ru比Ta更适合做磁电阻多层膜的保护层.    

12.  硬脂酸镉和山嵛酸镉混合LB膜的微结构  
   王景雪  张超  汤正新  陈庆东  张庆国  杜祖亮《化学物理学报》,2007年第20卷第2期
   用X射线衍射研究了沉积于亲水玻璃基底上的硬脂酸镉和山嵛酸镉多层混合LB膜的微区结构和相分离情况.纯的脂肪酸镉衍射峰没有在混合LB膜的XRD谱图中出现,说明混合膜中形成的微区很小而且均匀分布.混合膜样品的面间距随硬脂酸镉和山嵛酸镉混合比例的变化形成一条台阶状的曲线,这表明在它们比例变化的过程中,只形成了三种有序的结构,而且每一种结构,特别是长短链交错的微结构,可以在一定的比例范围内保持;另外,在长短链交错的微结构中,两种脂肪酸长链具有相同的偏离膜平面法线方向的小倾角,这也可由它们傅立叶红外透射谱中表征脂肪酸长链分子取向的亚甲基CH2相同的峰位2847.80和2914.37 cm-1(对应于CH2对称和反对称伸缩振动)得到说明.当混合比例超出1/5?1/1,混合膜将会经历一个纵向有序度降低的过程,表现为混合膜相对X射线衍射强度随混合比例以\W"形变化.    

13.  多层簿膜厚度XQMA测定及Monte Carlo计算方法  
   何延才  陈家光  王心磊  马业明《中国科学A辑》,1990年第33卷第7期
   本文提出了应用X射线显微分析实验及Monte Carlo模拟计算电子散射、X射线激发来确定多层薄膜样品每一层厚度的方法.在几种加速电压下,对不同组成、不同厚度的多层膜进行了测定,所得结果与核背散法测定值一致.相对误差小于10%.文中给出了计算程序流程图.    

14.  热处理对ZnO∶Zn荧光薄膜结晶性能的影响  
   张晓松  李岚  王达健《发光学报》,2006年第2期
   用热处理方法对电子束蒸发制备的ZnO∶Zn荧光薄膜分别进行400,600℃退火处理。采用X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、光致发光光谱等方法,表征了ZnO∶Zn荧光薄膜的结构、成分、形貌、发光性能。在ZnO∶Zn荧光薄膜的X射线衍射谱和扫描电子显微镜照片中,可以看出经退火处理后结晶状况大大改善,多晶结构趋于规则,晶粒更加均匀且膜层结构更加致密。在ZnO∶Zn荧光薄膜的光致发光谱中,检测到490 nm处发光峰,认为一价氧空位(VO)充当发光中心,且薄膜的光致发光强度受热处理温度的影响很大。实验表明随着退火温度的升高,薄膜的结晶程度提高,弥补了薄膜晶体表面的表面缺陷,薄膜的发光性能不断提高。    

15.  热处理对ZnO:Zn荧光薄膜结晶性能的影响  
   张晓松  李岚  王达健《发光学报》,2006年第27卷第2期
   用热处理方法对电子束蒸发制备的ZnO:Zn荧光薄膜分别进行400,600℃退火处理。采用X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、光致发光光谱等方法,表征了ZnO:Zn荧光薄膜的结构、成分、形貌、发光性能。在ZnO:Zn荧光薄膜的X射线衍射谱和扫描电子显微镜照片中,可以看出经退火处理后结晶状况大大改善,多晶结构趋于规则,晶粒更加均匀且膜层结构更加致密。在ZnO:Zn荧光薄膜的光致发光谱中,检测到490nm处发光峰,认为一价氧空位(Vo)充当发光中心,且薄膜的光致发光强度受热处理温度的影响很大。实验表明随着退火温度的升高,薄膜的结晶程度提高,弥补了薄膜晶体表面的表面缺陷,薄膜的发光性能不断提高。    

16.  金相组织变化对X射线荧光光谱法测定黄铜中铜铅铁的影响及校正  
   应晓浒  林振兴  曹国洲《分析化学》,2004年第32卷第10期
   研究了金相组织变化对X射线荧光光谱法测定黄铜中Cu、Pb、Fe的影响。Pb相和Fe相的出现使得Cu的测定结果偏高,Pb和Fe的校准曲线不成一条直线。金相组织的变化导致试样测量表面的元素分布不均匀,从而影响了元素间吸收和增强效应的实际效果,理论α影响系数不再适合校正基体效应。提出了4种数学方法来校正金相组织变化的影响:(1)理论α影响系数和经验影响系数相结合的方法;(2)根据析出相的比例校正校准曲线的斜率;(3)引入二次项校正;(4)根据Pb相的析出情况,以Pb含量0.6%为分隔点,对校准曲线分段。    

17.  Co/W双层膜的结构和磁各向异性研究  
   吴小山  张爱梅  游彪  胡安  吴忠华《中国物理 C》,2005年第29卷第Z1期
   用直流磁控溅射的方法制备了3个系列含有不同厚度的Co/W的双层膜. 用铁磁共振和振动样品磁强计测量了Co/W双层膜的磁学性质. 用镜面X射线反射和高角X射线衍射表征了样品的结构. Co层的饱和磁化强度随厚度的增加而增大但比六角结构块材Co的饱和磁化强度小. 大的界面粗糙度和核磁共振宽度表明Co/W薄膜中不均匀的Co/W层.    

18.  薄膜物理及其应用讲座:第五讲 Fe—Si/X(Si,Cu,Pd,Cr)多层膜的磁性研究  
   刘宜华 马小丁《物理》,1995年第24卷第6期
   系统研究了由非晶态Fe-Si合金与Si、Cu,、Pd和Cr四种不同类型的材料组合而成的磁性多层膜的二维磁性,界面的死层效应和极化效应,层间耦合作用,在Fe-Si/Cr多层膜研究中,发现了饱和磁化强度随Cr层厚度的改变而出现振荡变化的现象,这是由于磁性层中内地场的变化,特别是顺磁分量发生振荡变化引起的。    

19.  用X射线荧光光谱法非破坏测定多元合金薄膜的组分和厚度  被引次数:2
   程建邦  程万荣  王喜红  郝贡章  吴长存《物理学报》,1983年第32卷第2期
   本文用X射线荧光光谱法,不破坏样品,测定三元合金薄膜的组份。此法无需制备任何相似的固体标样或纯元素的块状标样,而是利用含已知组份的滤纸片作为标样。滤纸片标样制作简便、快速,并且能长期稳定。由薄膜中元素所发出的特征X射线强度与其面密度之间的一组联立方程解出薄膜成份,利用衬底中元素的特征X射线强度随膜厚增大而衰减的定量关系确定膜厚。利用本文的方法可以同时测定薄膜的成分和厚度。    

20.  薄膜物理及其应用讲座第五讲Fe-Si/X(Si,Cu,Pd,Cr)多层膜的磁性研究  
   刘宜华  马小丁  颜世申《物理》,1995年第6期
   系统研究了由非晶态Fe-Si合金与Si,Cu,Pd和Cr四种不同类型的材料组合而成的磁性多层膜的二维磁性,界面的死层效应和极化效应,层间耦合作用。在Fe-Si/Cr多层膜研究中,发现了饱和磁化强度随Cr层厚度的改变而出现振荡变化的现象,这是由于磁性层甲内场的变化,特别是顺磁分量发生振荡变化引起的。    

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