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自从 Krishnamurti(1930)和 Warren(1934)首先对碳黑及其它一些物质观察到小角散射现象后,立即吸引了科学家们的注意,把精力投入基本原理和X射线谱仪的更新工作中去.在用X射线对溶液、纤维和蛋白质研究的同时,又推动了光和热中子小角散射研究的发展,确认小角散射技术能够广泛应用于冶金学、生物大分子、聚合物及物理化学等各种领域.1955年法国著名物理学家 Guinier和 Fournet合写的“Small Angle Scattering of X-Rays”这一经典著作问世后,热中子小角散射的研究自此稳定地开展起来. 第一届和第二届小角散射国际会议分别在美国的 Syrac… 相似文献
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文章主要介绍了几种X射线散射技术,包括X射线小角反射技术、X射线漫散射技术、掠入射X射线衍射和多晶薄膜的小角衍射技术。通过具体的事例说明这些X射线散射方法在薄膜研究中的应用。 相似文献
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X射线小角散射在材料科学中是分析物质结构的重要手段之一[1].由于中子吸收截面小,所以中子小角散射可以采用较大的厚块样品.长波长的冷中子,既可以避免X射线结晶学中的双布拉格衍射,又可以在较小的散射矢量Q范围内研究中子散射强度的分布.某些近邻元素(如 Al,Mg等),对X射线的散射能力几乎一样,而它们的中子散射振幅则是无规的.所以,中于小角散射又特别适宜研究相邻元素合金中的分凝现象.中子具有磁矩,能与磁性物质相互作用,产生磁的小角散射. 这里应当强调指出,所谓“小角”,是指小的散射矢量值,大小范围约为 其中da为样品中结构单元间… 相似文献
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X射线衍射增强成像中的信息分离和信息处理 总被引:1,自引:0,他引:1
人们已经利用X射线的高穿透性,发展了较为成熟的X射线成像理论和技术. X射线成像已经广泛应用于众多领域.传统X射线成像受生物样品中组织间吸收系数差别较小和散射噪声较大两个因素的限制,不易利用这种方法获得生物组织的信息. 衍射增强成像方法不但能将有害的散射噪声滤除,而且能利用样品的折射信息, 是一种具有发展潜力的新成像方法. 本文利用衍射增强成像, 通过在摇摆曲线不同部位成像, 然后对信息处理, 得到了清晰的吸收像、消光(小角散射滤除)像、小角散射(角)宽度像和折射像,最后通过一定的算法将各种成分的像合成, 形成细节部位清晰的合成伪彩色像. 相似文献
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本文分析了同步辐射小角X射线散射的特点与应用、国内外现状及新建北京同步辐射小角X射线散射站的必要性与机遇。 相似文献
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Small angle X-ray scattering experiments have been performed to study the microstructure of mesoporous silica materials prepared by condensation of tetraethylorthosilicate using non-ionic alkylpolyethyleneoxide (AEO9) and ionic cetyltrimethylammonium bromide (CTAB) surfactant as templates. It is the pores within the nanometre range that produce the main scattering. The scattering of the pure silica systems obey Porod's law. The scattering of the systems with templates remaining in the pores show positive deviations from Porod's law. This may be because the templates produce some additional scattering background and then make the scattering of pores distorted. The results show that the full removal of templates from the pores of the materials by Soxhlet extraction is very easy for AEO9, but it is difficult for CTAB. The positive deviation correction is also performed. 相似文献
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采用溶胶-凝胶方法制备无机纳米杂化聚酰亚胺(PI),应用同步辐射小角X射线散射(SAXS)方法研究不同组分杂化PI薄膜的界面特性与分形特征.研究结果表明:散射曲线不遵守Porod定理,形成负偏离,说明薄膜中有机相与Al2O3纳米颗粒间存在界面层,界面层厚度在0.54 nm到1.48 nm范围内;随无机纳米组分增加,界面层厚度增加,有机相与无机相作用变强;无机纳米颗粒同时具有质量分形和表面分形特征,其分布、集结是一种非线性动力学过程;随组分增加,其质量分形维数降低
关键词:
小角X射线散射
纳米杂化
聚酰亚胺
界面 相似文献
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以正硅酸乙酯[Si(OC2H5)4,TEOS]为前驱体制备SiO2悬浮液,分别以甲基三乙氧基硅烷[CH3Si(OC2H5)3,MTES]和二甲基二乙氧基硅烷[(CH3)2Si(OC2H5)2,DDS]为前驱体制备硅氧烷聚合物溶液,通过混合法得到两种不同的甲基改性氧化硅凝胶-测量了凝胶的散射强度,计算了凝胶的孔径分布、平均孔径DSAXS、界面层厚度E等参数,结合氮气吸附实验,分析了凝胶的孔结构-发现SiO2一次簇团被MTES聚合物或DDS聚合物连接为二次簇团时产生微孔,同时甲基随聚合物连接于凝胶骨架上形成与
关键词:
小角x射线散射
甲基改性氧化硅
干凝胶
孔结构 相似文献
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采用V和SiO2靶通过反应溅射方法制备了一系列具有不同SiO2和VN调制层厚的VN/SiO2纳米多层膜. 利用X射线衍射、X射线能量色散谱、高分辨电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能. 结果表明:在Ar,N2混和气体中,射频反应溅射的SiO2薄膜不会渗氮. 单层膜时以非晶态存在的SiO2,当其厚度小于1nm时,在多层膜中因VN晶体层的模板效应被强制晶化,并与VN层形成共格外延生长. 相应地,多层膜的硬度得到明显提高,最高硬度达34GPa. 随SiO2层厚度的进一步增加,SiO2层逐渐转变为非晶态,破坏了与VN层的共格外延生长结构,多层膜硬度也随之降低. VN调制层的改变对多层膜的生长结构和力学性能也有影响,但并不明显.
关键词:
2纳米多层膜')" href="#">VN/SiO2纳米多层膜
共格外延生长
非晶晶化
超硬效应 相似文献
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The effect of etching time on the statistical properties of hydrophilic surfaces of SiO2/TiO2/glass nano bilayers has been studied using atomic force microscopy (AFM) and a stochastic approach based on a level crossing analysis. We have created rough surfaces of the hydrophilic SiO2/TiO2 nano bilayer system by using 26% potassium hydroxide (KOH) solution. Measuring the average apparent contact angle allowed us to assess the degree of hydrophilicity, and the optimum condition was determined to be 10 min etching time. A level crossing analysis based on AFM images provided deeper insight into the microscopic details of the surface topography. With different etching times, it has been shown that the average frequency of visiting a height with positive slope behaves in a Gaussian manner for heights near the mean value and obeys a power law for heights far away from the mean value. Finally, by applying the generalized total number of crossings with positive slope, it was found that the both high heights and deep valleys of the surface have a great effect on the hydrophilic degree of the SiO2/TiO2/glass nano bilayer investigated system. 相似文献
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P. Klankaw C. Chawengkijwanich N. Grisdanurak Siriluk Chiarakorn 《Superlattices and Microstructures》2012
The TiO2–SiO2 thin film was prepared by self-assembly method by mixing SiO2 precursor with titanium precursor solution and aged to obtain a co-precipitation of silica and titanium crystals. Dip coating method was applied for thin film preparation on glass slide. The X-ray diffraction (XRD) of the self-assembly thin film had no characteristic property of SiO2 and even anatase TiO2 but indicated new crystal structure which was determined from the Fourier Transform Infrared Spectrophotometer (FTIR) as a hybridized Ti–O–Si bonding. The surface area and surface volume of the self-assembly sample were increased when SiO2 was incorporated into the film. The self-assembly TiO2–SiO2 thin film exhibited the enhanced photocatalytic decolorization of methylene blue (MB) dye. The advantages of SiO2 are; (1) to increase the adsorbability of the film and (2) to provide the hydroxyl radical to promote the photocatalytic reaction. The self-assembly thin film with the optimum molar ratio (SiO2:TiO2) as 20:80 gave the best performance for photocatalytic decolorization of MB dye with the overall efficiency of 81%. 相似文献
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采用反应磁控溅射法制备了一系列不同SiO2层厚度的AlN/SiO2纳米多层膜,利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能,研究了SiO2层在多层膜中的晶化现象及其对多层膜生长方式及力学性能的影响. 结果表明,由于受AlN六方晶体结构的模板作用,溅射条件下以非晶态存在的SiO2层在其厚度小于0.6 nm时被强制晶化为与AlN相同的六方结构赝晶体并与AlN形成共格外延生长. 由于不同模量的两调制层存在晶格错配度,多层膜中产生了拉、压交变的应力场,使得多层膜产生硬度升高的超硬效应. SiO2随层厚的进一步增加又转变为以非晶态生长,多层膜的外延生长结构受到破坏,其硬度也随之降低.
关键词:
2纳米多层膜')" href="#">AlN/SiO2纳米多层膜
赝晶化
应力场
超硬效应 相似文献
19.
以丙醇锆(ZrPr)为锆源,二乙醇胺(DEA)为络合剂,原位引入聚乙烯吡咯烷酮(PVP),在乙醇体系中成功地合成了PVP掺杂-ZrO2溶胶.采用旋涂法在K9玻璃基片上制备了PVP-ZrO2单层杂化薄膜.用不同掺杂量的PVP-ZrO2高折射率膜层与相同的SiO2低折射率膜层交替沉积四分之一波堆高反射膜.借助小角X射线散射研究胶体微结构,用红外光谱、原子力显微镜、紫外/可见/近红外透射光谱、椭圆偏振仪以及1064nm的强激光辐照实验对薄膜的结构、光学和抗激光损伤性能进行表征.研究发现,体系组成的适当配置可以在溶胶稳定的前提下实现ZrPr的充分水解,赋予薄膜良好的结构、光学和抗激光损伤性能.杂化体系中,DEA与ZPr之间强的配合作用大大降低了ZrO2颗粒表面羟基的活性,使得PVP大分子只是以微弱的氢键与颗粒的表面羟基作用而均匀分散于ZrO2颗粒的周围,对颗粒的形成和生长无显著影响.因而在实验研究范围内,随PVP含量的增大,PVP-ZrO2杂化膜层的折射率和激光损伤阈值均无显著变化.但是,薄膜中均匀分布的PVP柔性链可以有效促进膜层应力松弛,显著削弱不同膜层之间的应力不匹配程度、大大方便多层光学薄膜的制备.当高折射率膜层中PVP的质量分数达到15%—20%时,膜层之间良好的应力匹配使得多层高反射膜的沉积周期数可达到10以上.沉积10个周期的多层反射膜,在中心波长1064nm处透射率约为1.6%—2.1%,接近全反射特征,其激光损伤阈值为16.4—18.2J/cm2(脉冲宽度为1ns).
关键词:
溶胶-凝胶
2')" href="#">PVP-ZrO2
高反射膜
激光损伤 相似文献