首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 140 毫秒
1.
直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,说明所制备的AlN薄膜为多晶态,在傅里叶变换红外光谱中,在波数为677 cm-1处有明显的吸收峰;随着溅射气压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,而薄膜的沉积速率先增大后减少,且沉积速率较大有利于减小薄膜的表面粗糙度;在溅射气压为0.6 Pa时,薄膜具有最小的表面粗糙度和最大的沉积速率.  相似文献   

2.
张晓峰  庄志诚 《光学学报》1993,13(11):93-998
本文报道热丝化学气相沉积法(HFCVD)生长金钢石薄膜的喇曼散射结果。选取多种峰型,对金钢石薄膜喇曼谱(110-1800cm-1)采用最小二乘法进行非线性拟合,得到最佳拟合模型,其计算得到的拟合曲线怀实验谱图符合得较好。该模型揭示,石墨D峰(1355cm-1)是金刚石薄膜喇曼谱中不可缺少的一个组份,并且结合石墨D峰和金刚石喇曼的空间相关线型,可以解释金刚石喇曼区特殊峰形的物理机制,拟合参量的进一步  相似文献   

3.
PAN基碳纤维在石墨化过程中的拉曼光谱   总被引:4,自引:1,他引:4  
采用激光拉曼光谱研究了PAN基碳纤维在石墨化(2 000~3 000 ℃)过程中的结构变化;比较了石墨化前后纤维表面和断面拉曼光谱特征.结果表明:高温石墨化后,碳纤维的一级拉曼光谱有3个峰(D,G和D′),表征碳纤维结构有序程度的拉曼参数主要有D和G峰的半高宽(FWHM)、G峰的拉曼位移和D与G峰的积分强度比R(ID/IG).随着热处理温度的提高,D和G峰的半高宽、G峰的拉曼位移和R值均逐渐减小,即使经过3 000℃高温处理后,D峰仍然存在,R值为0.19,说明纤维中仍存在无序结构.另外,R值与纤维中石墨微晶的基面宽度La成反比,石墨化后纤维取向性的增加使得表面和断面的拉曼光谱有明显的差异.因此,可利用激光拉曼光谱来定量表征碳纤维的石墨化程度和取向.  相似文献   

4.
在室温条件下,以溴乙烷为单体、氢气为载气,用13.56 MHz射频等离子体化学气相淀积方法(RF-PECVD)在硅片衬底上生长了掺溴非晶碳氢薄膜(a-C:Br:H).通过对其进行Raman光谱分析,研究了工作气压对薄膜结构的影响.结果显示:随着气体工作压力从20 Pa下降至5 Pa,样品D峰强度增强,I_D/I_G值逐步由1.18增加至1.36,G峰的位置向高频轻微移动;与此同时,薄膜生长方式逐步转为低能态形式生长,薄膜中sp~2C逐步由链式结构向环式结构转化.  相似文献   

5.
不同煤级煤的Raman谱特征及与XRD结构参数的关系   总被引:2,自引:0,他引:2  
11种cdaf在57.58%~94.01%的不同变质程度煤的拉曼光谱实验表明不同变质程度煤的拉曼光谱一级模都存在两个明显的振动峰,分别为较为宽缓的D峰(1 340~1 380cm-1)和相对较为尖锐的G峰(1 580~1 600 cm-1).将800~1 800 cm-1范围的谱图拟合为两个洛仑兹峰,每个峰的峰位置,峰强度以及半峰宽等拉曼参数与碳含量的相关关系分析结果显示:D峰位置和G峰位置随碳含量的增加分别向低波数和高波数区域移动;两峰的峰位差随碳含量的增加而增加;两峰的半峰宽FWHM-D,FWHM-G及两峰强度比ID/IG在碳含量75%~94%范围内与碳含最线性相关.发现XRD分析获得的d002和Lc与拉曼谱中的G峰位置及半峰宽存在着良好的相关性.与X射线衍射得到的晶粒尺寸La值相关性分析表明用Cancado公式和KW公式对La进行估算均是不合理的.  相似文献   

6.
欧阳雨  方炎 《光散射学报》2003,15(3):139-142
对不同激发波长下单壁和多壁碳纳米管的激光拉曼光谱进行了比较。发现单壁碳纳米管D峰强度和G峰强度的比值(ID/IG)几乎不随激发光子能量的改变而变化,多壁碳纳米管ID/IG值随着激发光子能量的增加以斜率0 3/eV减小。并对此现象进行了初步的分析。此外,还发现在1064nm激发波长下,单壁和多壁碳纳米管2500-3500cm-1之间拉曼峰的相对强度随着入射激光功率的增加而增加。  相似文献   

7.
碳纳米管阵列拉曼光谱的对比研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
利用热化学气相沉积技术制备碳纳米管阵列,并对不同工艺下获得的一系列定向碳纳米管阵列进行了拉曼光谱的对比研究.研究发现:碳纳米管阵列一阶拉曼光谱的G峰中心和D峰中心都会向低波数方向发生红移.并且阵列中碳管的一致性、准直性越好,红移的波数就越多.除了谱峰以外,D线和G线的积分强度比ID/IG也能够反映所研究的碳材料的有序度和完整性.ID/IG越低,说明该碳纳米管阵列的石墨化越好,无定形碳杂质越少.  相似文献   

8.
在室温、10Pa氩气环境氛围中,引入垂直于烧蚀羽辉轴线的外加直流电场,采用脉冲激光烧蚀技术制备了一系列纳米硅晶薄膜,衬底分布于以烧蚀点为圆心的弧形支架上.扫描电子显微镜、喇曼散射谱和X射线衍射谱检测结果表明:晶粒平均尺寸随着电压的增加逐渐变大,且靠近接地极板处的晶粒尺寸比与之对称角度处的略大;薄膜中晶粒面密度随着电压的增加先减小后增大而后再减小.  相似文献   

9.
利用非平衡磁控溅射法制得厚度达到2.23μm的掺铬含氢类金刚石(Cr-DLC)碳膜。采用Raman光谱和XPS对制得的薄膜进行了结构和热稳定性等表征。结果表明:室温时,薄膜在1 544cm~(-1)附近的Raman"G"峰归属于石墨结构中C—C键的伸缩振动,即E2g模式;而1 367cm-1附近的"D"峰归属于sp~2碳环的"呼吸"振动模式,即A1g模式;计算得到薄膜sp3键的相对含量约为48at.%。加热至300℃,薄膜的Raman谱图与室温时相似,表明此温度段薄膜的结构稳定,未发生明显改变;至400℃时,ID/IG值迅速增大,sp~2键含量升高,表明此时DLC膜发生了明显的结构变化,开始发生石墨化。继续升温,膜中ID/IG比率增加,"G"峰位向高波数方向位移,表明sp~2/sp~3比率逐渐增大,薄膜石墨化程度加强,sp~2键的无序度逐渐降低,最终导致薄膜的摩擦系数和磨损率等逐渐增大,热稳定性逐渐降低。退火600℃时,ID/IG值以及sp~2键含量达到最大值,DLC薄膜失效。  相似文献   

10.
利用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上沉积了一系列ZnO:Mn薄膜,结合Raman光谱、XRD衍射谱和SEM分析了工作气压对ZnO:Mn薄膜结构特性的影响。Raman拟合光谱显示,在工作气压从1 Pa增加至4 Pa的过程中,ZnO:Mn薄膜始终保持着六角纤锌矿结构。但是,随着气压的降低,对应于E2(High)振动模式的Raman散射峰以及与Mn掺杂相关的特征峰左移,说明在低工作气压时,ZnO:Mn薄膜内晶格缺陷更多,晶格更加无序。这一结论也得到了XRD和SEM结果的证实。  相似文献   

11.
不同方法制备的类金刚石薄膜的XPS和Raman光谱的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
分别利用金属脉冲磁过滤真空阴极弧沉积法(FCVA)、直流磁控溅射法(SP)和脉冲辉光放电等离子体化学气相沉积法(PECVD)在硅片上沉积类金刚石膜层.并利用激光拉曼光谱法(Raman spectroscopy)和X射线光电子能谱法(XPS)对类金刚石膜层进行研究.通过研究分析发现,不同方法制备的类金刚石膜层的G峰位、D...  相似文献   

12.
王志军  董丽芳  尚勇 《物理学报》2005,54(2):880-885
采用蒙特卡罗方法,对源料气体为CH4/H2混合气的电子助进化学气相沉积(EACVD)中 的氢原子(H)、碳原子(C)以及CH基团的发射过程进行了模拟.研究了CH4浓度、反应室气压 和衬底偏压等工艺参数对发射光谱及成膜的影响.研究发现,CH基团可能是有利于金刚石薄 膜生长的活性基团,而碳原子不是;偏压的升高可提高电子平均温度及衬底表面附近氢原子 的相对浓度;通过氢原子谱线可测定电子平均温度并找到最佳成膜实验条件.该结果对EACVD 生长金刚石薄膜过程中实时监测电子平均温度,有效控制工艺条件,生长出高质量的金刚石 薄膜具有重要的意义. 关键词: 蒙特卡罗模拟 金刚石薄膜 发射光谱  相似文献   

13.
FTIR法研究BCN薄膜的内应力   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用射频磁控溅射技术,用六角氮化硼和石墨为溅射靶,以氩气(Ar)和氮气(N2)为工作气体,在Si(100)衬底上制备出硼碳氮(BCN)薄膜。利用傅里叶变换红外光谱(FTIR)考察了不同沉积参数(溅射功率为80~130W、衬底温度为300~500℃、沉积时间为1~4h)条件下制备的薄膜样品。实验结果表明,所制备薄膜均实现了原子级化合。并且沉积参数对BCN薄膜的生长和内应力有很大影响,适当改变沉积参数能有效释放BCN薄膜的内应力。在固定其他条件只改变一个沉积参数的情况下,得到制备具有较小内应力的硼碳氮薄膜的最佳沉积条件:溅射功率为80W、衬底温度为400℃、沉积时间为2h。  相似文献   

14.
Z.A.Umar  R.S.Rawat  R.Ahmad  A.K.Kumar  Y.Wang  T.Hussain  Z.Chen  L.Shen  Z.Zhang 《中国物理 B》2014,23(2):25204-025204
The Al/a-C nanocomposite thin films are synthesized on Si substrates using a dense plasma focus device with alu- minum fitted anode and operating with CH4/Ar admixture. X-ray diffractometer results confirm the formation of metallic crystalline Al phases using different numbers of focus shots. Raman analyses show the formation of D and G peaks for all thin film samples, confirming the presence of a-C in the nanocomposite thin films. The formation of Al/a-C nanocomposite thin films is further confirmed using X-ray photoelectron spectroscopy analysis. The scanning electron microscope results show that the deposited thin films consist of nanoparticles and their agglomerates. The sizes of th agglomerates increase with increasing numbers of focus deposition shots. The nanoindentation results show the variations in hardness and elastic modulus values of nanocomposite thin film with increasing the number of focus shots. Maximum values of hardness and elastic modulus of the composite thin film prepared using 20 focus shots are found to be about 10.7 GPa and 189.2 GPa, respectively.  相似文献   

15.
Raman characteristics of carbon nitride films synthesized by nitrogen-ion-beam-assisted pulsed laser deposition were investigated. In addition to the D (disorder) band and G (graphitic) band commonly observed in carbon nitride films, two Raman bands located at 1080–1100 and 1465–1480 cm-1 were found from our carbon nitride films. These two bands were well matched with the predicted Raman frequencies for βC3N4 and the observed Raman bands reported for carbon nitride films, indicating their relation to carbon-nitrogen stretching vibrations. Furthermore, the relative intensity ratio of the two Raman bands to the D and G bands increased linearly with increasing nitrogen content of the carbon nitride films. Received: 30 October 2000 / Accepted: 5 February 2001 / Published online: 2 October 2001  相似文献   

16.
采用蒙特卡罗方法,对以CH4/H2混合气体为源气体的电子助进热丝化学气相沉积(EACVD)中的氢原子发射过程进行了模拟。在模拟中考虑了电子与H2的弹性碰撞及振动激发、分解、电子激发(包括Hα%,Hβ,Hγ谱线的激发)、电离及分解电离等非弹性碰撞过程;与CH4的碰撞考虑了弹性动量传输及振动激发、分解、电子激发、分解激发(包括Hα%,Hβ,Hγ谱线的激发)、电离及分解电离等非弹性碰撞过程。研究了不同实验条件下产生的H,CH3的数目与氢原子谱线相对强度的关系,给出了一种利用氢原子谱线来获得最佳成膜实验条件的方法。对于有效控制工艺条件,生长出高质量的金刚石薄膜具有重要意义。  相似文献   

17.
Diamond-like carbon (DLC) films were deposited on Si (1 0 0) substrate using a low energy (219 J) repetitive (1 Hz) miniature plasma focus device. DLC thin film samples were deposited using 10, 20, 50, 100 and 200 focus shots with hydrogen as filling gas at 0.25 mbar. The deposited samples were analyzed by XRD, Raman Spectroscopy, SEM and XPS. XRD results exhibited the diffraction peaks related to SiO2, carbon and SiC. Raman studies verified the formation amorphous carbon with D and G peaks. Corresponding variation in the line width (FWHM) of the D and G positions along with change in intensity ratio (ID/IG) in DLC films was investigated as a function of number of deposition shots. XPS confirmed the formation sp2 (graphite like) and sp3 (diamond like) carbon. The cross-sectional SEM images establish the 220 W repetitive miniature plasma focus device as the high deposition rate facility for DLC with average deposition rate of about 250 nm/min.  相似文献   

18.
利用在线椭偏仪对非晶碳氢膜进行了光学常数、沉积率和刻蚀率的测量。在无直流负偏压或偏压较小时,薄膜呈现聚合物结构,折射率和消光系数较小;当增加直流负偏压时,薄膜的折射率和消光系数显著提高,所成膜为硬质非晶碳氢膜。在以CH4作为气源进行沉积时,随着偏压的增加,沉积率先升高再降低,在偏压为-100V时,沉积率为最大。H2/N2(30%N2)的混合气体的刻蚀率要比单独用H2作为刻蚀气体的刻蚀率要大。对于CH4/N2(30%N2),在偏压从0V增加到300V过程中,在大约50V时,基底上的薄膜有一个从沉积到刻蚀的转化过程。  相似文献   

19.
离子源辅助电子枪蒸发制备Ge1-xCx薄膜   总被引:3,自引:0,他引:3  
应用电子枪蒸发纯Ge,考夫曼离子源辅助的方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜.制备过程中,Ge作为蒸发材料,CH4作为反应气体.通过改变CH4/(CH4+Ar)的气体流量比(G),制备了G从40%到85%的Ge1-xCx薄膜.应用X射线衍射仪(XRD)测量了Ge1-xCx薄膜的晶体结构,使用傅里叶红外光谱仪(FTIR)测量了2~22 μm的光学透过率,X射线光电子能谱测试(XPS)计算得到C的含量随G的变化关系,用纳米压痕硬度测试计测量了Ge1-xCx薄膜的硬度,原子力显微镜(AFM)测量了G为60%,85%时Ge1-xCx薄膜的表面粗糙度.测试结果表明:制备的Ge1-xCx薄膜在不同的G值下均为无定形结构.折射率随着G值的增加而减小,在3.14~3.89之间可变,并具有良好的均匀性以及极高的硬度.  相似文献   

20.
用电子回旋共振等离子体(ECR)系统,在气压、衬底温度以及微波功率等外界条件不变的情况下,仅改变甲烷浓度制备金刚石薄膜,利用傅里叶红外吸收光谱仪(FTIR)对甲烷浓度为6%的ECR系统进行实时监测,分析研究了不同沉积时间条件下,甲烷和氢气产生的等离子体对薄膜早期成核、生长过程以及衬底的影响,并结合Raman光谱X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对金刚石薄膜进行了分析。  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号