电沉积非晶态铁—铬合金镀层的研究

本实验通过控制镀液组成和操作条件获得了非晶态铁－铬合金镀层，实验分析了ＰＨ值，电流密度以及镀层中铬含量对所形成镀层的非晶态结构的影响，阳极极化曲线测量结果表明，与晶态层相比，非晶态度层具有较高的耐蚀性。     

硫酸盐体系三价铬沉积机理及镀层表征

在新研发的硫酸盐三价铬镀厚铬的镀液体系中, 运用线性扫描伏安法(LSV)和循环伏安法(CV)对三价铬在铜电极表面的电沉积过程进行研究, 并运用X射线荧光测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能量色散谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计和Tafel曲线表征铬镀层厚度、形貌、组成、结构、显微硬度及在3.5wt% NaCl溶液中的耐蚀性. 结果表明, 在该体系中三价铬的沉积过程分两步进行(Cr³⁺ + e →Cr²⁺ , Cr²⁺ + 2e → Cr), 第一步得到1个电子, 受电化学过程和扩散过程共同控制, 第二步得到2个电子, 为扩散控制下的不可逆过程; 该镀层为瘤状纳米晶结构, 镀层中含有少量的铁元素(1.10 wt%), 显微硬度达到789.2 Hv, 镀层在3.5wt% NaCl溶液中的腐蚀电位(E_corr)为-0.29 V, 腐蚀电流密度(j_corr)为9.26×10^-5 A·dm^-2.     

氟化物体系三价铬镀铬工艺的研究

采用恒电位法在氟化物体系中镀铬,以铅银合金为阳极,20号不锈钢片为阴极,探讨了电流密度、温度、pH值、时间等因素对电镀效率的影响.研究表明:在氟化物体系中,镀液温度为30-40℃,pH=1.65,电流密度=30 A/dm2,反应时间在15 m in时,即能得到细致光亮结合力牢固的金属铬镀层,并且电镀效率达到29.46%.     

稀土对电沉积Ni-P合金镀液性能的影响

通过在电镀Ni P合金的镀液中加入一定量的镧和铈的氯化物 ,用赫尔槽实验、远近阴极实验等方法探讨了稀土元素对Ni P合金镀液性能的影响规律。结果表明 :CeCl3 ,LaCl3 以及它们的混合物的最佳添加量均为 2g·L- 1 。稀土元素的加入 ,能够显著增加Ni P合金镀液的光亮区范围 ,而且 ,这种作用在低电流密度范围内更显著。稀土元素加入到镀液中能够显著增大Ni P合金镀液的电流效率 ,并且导致电流效率随电流密度的变化趋势发生变化。实验结果还表明 ,稀土元素能够使镀液的分散能力有所提高。根据这一结果 ,从理论上推断稀土元素能够促进电沉积Ni P合金阴极过程的极化度。这一推断与阴极极化曲线的测量结果是一致的     

稀土对电沉积Ni-P合金镀层耐蚀性的影响

研究了稀土对电沉积Ｎｉ－Ｐ合金度层耐蚀性及组织的影响,通过浸泡实验和极化曲线的测定。得出在镀液中添加一定量的稀土元素能显著改善镀层的耐蚀性能。ＸＲＤ,ＴＥＭ,ＥＤＳ结果表明,稀土元素具有促进Ｎｉ－Ｐ合金形成非晶组织的作用,由于稀土的加入,在远低于８％的Ｐ含量下,获得了以非晶态为主的组织。     

酰胺-尿素-NaBr熔体中电沉积Tb-Co合金的研究

在353K的乙酰胺 尿素 NaBr熔体中,Co(Ⅱ)一步不可逆还原为金属Co,测得α为0.23和D0为1.25×10-6cm2·s-1;Tb(Ⅲ)不能单独还原为Tb,但是可以被Co2+诱导而共沉积。由恒电位电解法得到非晶态的Tb Co合金;Tb的含量随阴极电位的负移、Tb3+ Co2+摩尔比增大及电解时间延长而增大,Tb的最大含量可达83.91wt%。Tb Co合金膜经高温晶化后用X射线衍射分析其组成为(TbCo3)12R。     

二甲基亚砜中电沉积钬钴合金的研究

研究了在二甲基亚砜中钬与钴的电解共沉积。测定循环伏安曲线获知钬钴共沉积的沉积电位较钴单独析出为负而较钬的析出为正,属于诱导共沉积类型,恒电位电解表明在一定浓度范围内电位是影响合金成分的主要因素,而镀液组成的影响较小,在－1.8V下恒电位电解得到了均匀、致密的非晶态合金沉积层。     

电镀铬液铬酐含量的电位分析

建立了以硫酸亚铁铵作滴定剂,电位滴定法测定镀铬溶液中铬酐（ＣｒＯ３）含量的方法。     

镍钨硼合金沉积机理及镀层微晶尺寸

应用循环伏安、恒电位阶跃和Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）等研究了Ｎｉ－Ｗ－Ｂ合金电沉积特点和镀层微晶尺寸。结果表明,在以柠檬酸铵为络合剂的溶液中,Ｎｉ－Ｗ－Ｂ合金沉积层较Ｎｉ－Ｗ合金有较低的电化学活性。电位阶跃ｉ￣ｔ曲线分析表明,在玻碳电极上Ｎｉ－Ｗ－Ｂ合金电结晶过程遵循扩散控制瞬时成核三维成长模式,且随过电位的增加,电极表面晶核数增多。ＸＲＤ测试结果表明,随沉积电流密度提高,合金镀层微晶尺寸逐渐增大,说明     

1-丁基-3-甲基咪唑醋酸盐和水组成的混合电解液中三价铬电沉积铬的研究

本文在[BMIM]OAc-H₂O电解液中研究了Cr³⁺的电沉积反应. 经循环伏安研究表明,Cr³⁺的还原属于受扩散控制的分步还原过程, 即Cr³⁺ + e →Cr²⁺和Cr²⁺ + 2e → Cr⁰. 在40℃下通过Rendle-Sevcik方程计算得到Cr³⁺的扩散系数为1.2×10^-8 cm²/s. 采用计时电流法探讨了Cr的三维瞬时成核机理. 对沉积的铬镀层进行了XRD、SEM表征, 结果表明经600℃氩气保护下煅烧后的镀层由Cr和Cr₂O₃纳米球状颗粒聚集而成, 其平均粒径为0.48μm. 对40℃,-3.0V条件下所得镀层进行EDX检测,发现Cr与O的能级峰十分明显,其中Cr的质量分数为83.8%. 通过在[BMIM]OAc、[BMIM]BF₄和[BMIM]PF₆三种离子液体体系中电镀得到的Cr镀层质量的比较, 表明OAc-的确有利于Cr的电沉积.     

6063铝合金三价铬化学转化膜的制备与电化学性能

以硫酸铬钾及磷酸为原料在6063铝合金上制备了三价铬化学转化膜. 采用极化曲线及交流阻抗技术研究了不同条件下三价铬转化膜的电化学性能. 结果表明, 温度为30-40 ℃、沉积时间为9 min、pH值为2.0-3.0、KCr(SO4)2为15-25 g·L-1及H3PO4的浓度为10-20 g·L-1的条件为最优条件. Tafel极化曲线结果表明化学转化膜比基体铝合金具有更正的腐蚀电位(Ecorr)、小孔腐蚀电位(Epit)和更低的腐蚀电流(icorr), 说明化学转化膜具有良好的耐腐蚀性能. 利用交流阻抗谱的数据建立了等效电路模型, 并拟合出了腐蚀参数, 如表面电阻(Rcoat)及电容(Ccoat), 电荷转移电阻(Rct)及双电层电容(Cdl)等. 三价铬化学转化膜的交流阻抗谱结果与极化曲线的电化学测试结果相吻合.     

火焰原子吸收光谱法测定镀铬液中铁含量

通过高氯酸冒烟和滴加盐酸使镀铬液中的六价铬转化为氯化铬酰气体逸出而去除,然后用火焰原子吸收光谱法测定试液中铁(Ⅲ)的含量。在优化的仪器工作条件下,该法测定铁的质量浓度在10.0 mg.L-1以内与其吸光度呈线性关系,回收率为98.0%~102.8%,相对标准偏差(n=8)为0.76%,检出限(3s)为0.019 4 mg.L-1。     

Al－Mn合金镀层的组成结构及其耐蚀性

研究了在低温熔盐中（低于２００℃）电沉积Ａｌ－Ｍｎ合金镀层成分的控制,镀层化学组成与结构之间的关系以及镀层的耐蚀性能．提出影响镀层锰含量的主要因素是熔盐中锰离子的浓度．镀层含锰量在２５～４０（ｗｔ）％之间可形成非晶态结构．实验表明,Ａｌ－Ｍｎ合金镀层在０．５ｍｏｌ／ＬＨ＿２ＳＯ＿４熔液及ＮａＣｌ溶液中具有优良的耐蚀性,非晶态结构的Ａｌ－Ｍｎ合金镀层的耐蚀性更为优异．     

Study of Cathodic Polarization Curves During Pulse Plating of Chromium

A study has been made of the cathodic polarization curves during the pulse plating of chromium from an aqueous chromic acid bath containing 250 g/L CrO3 and 2. 5 g/L H2SO4 at 22℃ over the range of pulse periods from 1 ms to 50 ms. The duty cycle was kept at 50%. The methods of potentiostatic pulse potential control and galvanostatic pulse current control were used to determine the polarization curves of a platinum and a copper rotating disk electrode in the chromium plating solution. The results indicated that pulse potential and pulse current inhibited the formation of a cathode film and shifted the potential of the hydrogen evolution reaction toward the positive direction by about 500 mV. The potential and current pulses behaved as a depolarter of H reduction reaction. The present results agreed with a previous experimental observation that the coulombic efficiency of the chromium deposition reaction was reduced and the coulombic efficiency of the hydorgen evolution reaction was increased in pulse p     

Interaction of Chromium with Thiol-Containing Proteins Evidence for The Formation of Trivalent Chromium

Abstract

In this paper a method for the separation of protein-bound chromium and trivalent and hexovalent chromium is described, as well as the reduction of hexovalent chromium to the trivalent form by sulfhydryl containing proteins such as albumin and hemoglobin.     

镧铬酵母中铬含量的测定

采用在培养基中加入La2O3的方法，制备得到了镧铬酵母，并对其总铬、无机六价铬及有机铬的含量进行了分析，结果表明：镧铬酵母中总铬含量可达到708．3μg／g，有机铬含量可达到639．0μg／g，是未加La2O3的铬酵母样品的近3倍；而六价无机铬占总铬的百分含量却由1．60％降至0．72％。通过紫外光谱和红外光谱分析，发现有机铬在260nm和478cm^-1处有特征吸收峰。     

纳米金刚石稳定水分散体系在复合电镀铬中的应用

研究纳米金刚石水基稳定分散体系的组成及分散操作工艺.以低泡沫磺酸基阴离子表面活性剂作分散活化剂,比较了各种机械搅拌方式对体系稳定性的影响,并以复合镀铬作应用试验.测定了纳米金刚石复合镀铬的镀层沉积速率,镀层硬度,耐磨性等参数,由SEM观察镀层晶态结构图像.列举了试验结果、测试数据及复合镀铬的工艺条件,并对实验结果及机理进行了分析探讨.     

Preparation of Amorphous Film on Ni-S Alloy by Electroplating Method

IntroductionRecently,amorphousalloyshaveattTactedconsiderableattentionasnewfunctionalmaterial.Theycanbeattainedbyelectroplating,suchasplatingNi-P,Ni-B,Fe-W,Ni-Mo,Fe-P,etc..ThestructureofcodepositednickelandsulfurwasfirststudiedbyBrilllwithXRD.He,however,didnotdiscussthemethodofcodepositingnickelandsulfur.Afterwards,thereweresomereportsonNi-Sdeposit.Ingeneral,aNi-SdepositcanbeobtainedbyelectroplatingfromaWattsbathcontainingsuchsulfursourcesasthiocyanateKCNS',thioureaNH,CSNH,',andso…