| N2流量对脉冲溅射CrNx薄膜结构和耐蚀性的影响 |
| |
| 引用本文： | 鲁媛媛,丁旭,罗甲文,吴坤尧.N2流量对脉冲溅射CrNx薄膜结构和耐蚀性的影响[J].人工晶体学报,2018,47(12):2599-2603. |
| |
| 作者姓名： | 鲁媛媛 丁旭 罗甲文 吴坤尧 |
| |
| 作者单位： | 西安航空学院材料工程学院,新材料研究所,西安 710077 |
| |
| 基金项目： | 凝固技术国家重点实验室开放课题(SKLSP201858) |
| |
| 摘 要： | 采用脉冲磁控溅射法在不同氮气流量下制备出CrNx薄膜,并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)和电化学工作站对薄膜进行了系统分析,以研究氮气流量对其微观结构和耐蚀性的影响规律.结果表明:氮气流量较低时,薄膜的物相为Cr2 N+CrN的复合相,当氮气流量增加至150 sccm,物相转变为CrN单相;表面和截面形貌照片显示,随着氮气流量的增多,薄膜的表面粗糙度逐渐减小、致密度也得到改善.物相的变化和致密度的改善,使得腐蚀电流密度随氮气流量的增加而降低,即腐蚀速度逐渐减小,当氮气流量为150 sccm时薄膜表现出最好的耐蚀性.
|
| 关 键 词： | 脉冲溅射 CrNx薄膜 氮气流量 微观结构 耐蚀性 |
Effect of N2 Flow Rate on Microstructure and Corrosion Resistance of Pulse Sputtering CrNx Thin Films |
| |
| LU Yuan-yuan,DING Xu,LUO Jia-wen,WU Kun-yao.Effect of N2 Flow Rate on Microstructure and Corrosion Resistance of Pulse Sputtering CrNx Thin Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2018,47(12):2599-2603. |
| |
| Authors: | LU Yuan-yuan DING Xu LUO Jia-wen WU Kun-yao |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文 |
|
