| 耐等离子刻蚀陶瓷的研究现状 |
| |
| 引用本文： | 谭毅成,伍尚华,朱佐祥,向其军,朱祖云,田卓.耐等离子刻蚀陶瓷的研究现状[J].人工晶体学报,2018,47(6):1272-1279. |
| |
| 作者姓名： | 谭毅成 伍尚华 朱佐祥 向其军 朱祖云 田卓 |
| |
| 作者单位： | 广东工业大学机电工程学院,广州 510006;商德先进陶瓷股份有限公司,深圳 518125;广东工业大学机电工程学院,广州,510006;商德先进陶瓷股份有限公司,深圳,518125 |
| |
| 摘 要： | 等离子刻蚀技术是超大规模集成电路制备工艺中不可或缺加工技术.在半导体晶圆尺寸不断增大以及特征尺寸不断缩少的发展进程中,晶圆的污染问题越来越突出.而刻蚀机腔室材料作为晶圆的主要污染源之一,其耐等离子刻蚀性日益受到人们的关注.本文主要介绍耐等离子体刻蚀腔体材料的特性及目前国内外的研究与发展现状.
|
| 关 键 词： | 等离子 耐刻蚀性 陶瓷 刻蚀 |
Research Status of Plasma Etching Resistance Ceramic |
| |
| TAN Yi-cheng,WU Shang-hua,ZHU Zuo-xiang,XIANG Qi-jun,ZHU Zu-yun,TIAN Zhuo.Research Status of Plasma Etching Resistance Ceramic[J].Journal of Synthetic Crystals,2018,47(6):1272-1279. |
| |
| Authors: | TAN Yi-cheng WU Shang-hua ZHU Zuo-xiang XIANG Qi-jun ZHU Zu-yun TIAN Zhuo |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文 |
|
