| 溅射功率对硫化镉薄膜结构和光电性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨恢东,王菁,张翠媛,夏锦辉,李俊魁,谢泳伦,常晨,周铉池,温俊文.溅射功率对硫化镉薄膜结构和光电性能的影响[J].人工晶体学报,2018,47(9):1747-1751. |
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| 作者姓名： | 杨恢东 王菁 张翠媛 夏锦辉 李俊魁 谢泳伦 常晨 周铉池 温俊文 |
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| 作者单位： | 暨南大学信息科学技术学院,广州 510632;暨南大学韶关研究院,韶关 512027;暨南大学信息科学技术学院,广州,510632 |
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| 基金项目： | 广东大学生科技创新培育专项资金(pdjh2017b0056);广东省省级科技计划项目(2014A010106014);暨南大学韶关研究院新型研发机构初创期建设补助项目(2016B090919014);国家级大学生创新创业训练计划(201710559014) |
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| 摘 要： | 在玻璃衬底上采用射频磁控溅射方法制备了硫化镉(CdS)薄膜,研究了溅射功率对CdS薄膜的结构、表面形貌、光学特性和电学性质的影响.XRD测量表明制备的CdS薄膜均为六方纤锌矿结构的多晶薄膜.随着功率从40 W增加到80 W,H(102)面的峰呈现增强再逐渐减弱的趋势.60 W时薄膜的衍射峰最强,结晶度最好.同时,薄膜的晶粒尺寸随着功率增加先增大再减小.从SEM图像可以看出,制备的薄膜均匀致密且无针孔的出现.在可见光范围内,薄膜的平均透射率都在70;以上.随着功率的增加,薄膜带隙在2.25～2.41 eV的范围内变化,而暗电导率呈现先增加再减少的趋势.
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| 关 键 词： | 硫化镉薄膜 射频磁控溅射 溅射功率 光电性能 |
Effect of Sputter Power on Structural and Photoelectric Properties of Cadmium Sulfide Films |
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| YANG Hui-dong,WANG Jing,ZHANG Cui-yuan,XIA Jin-hui,LI Jun-kui,XIE Yong-lun,CHANG Chen,ZHOU Xuan-chi,WEN Jun-wen.Effect of Sputter Power on Structural and Photoelectric Properties of Cadmium Sulfide Films[J].Journal of Synthetic Crystals,2018,47(9):1747-1751. |
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| Authors: | YANG Hui-dong WANG Jing ZHANG Cui-yuan XIA Jin-hui LI Jun-kui XIE Yong-lun CHANG Chen ZHOU Xuan-chi WEN Jun-wen |
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