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射频磁控溅射不锈钢衬底AlN薄膜的制备与特性研究
引用本文:樊志琴,陈飞跃.射频磁控溅射不锈钢衬底AlN薄膜的制备与特性研究[J].人工晶体学报,2019,48(12):2201-2206.
作者姓名:樊志琴  陈飞跃
作者单位:河南工业大学理学院,郑州,450001
摘    要:利用正交实验设计方法,采用射频磁控溅射法在不锈钢衬底上制备了AlN薄膜,并利用XRD、激光拉曼光谱、荧光光谱等技术对AlN薄膜的结构及发光特性进行了表征.通过实验数据分析,得出如下结论:利用射频磁控溅射法在不锈钢衬底上制备的纤锌矿结构AlN薄膜,在所有参数下,(100)面最易生长;在溅射功率为300~400 W、衬底温度为100~200 ℃、氮气流量百分比为30;、溅射时间为1 h时,制备出的AlN薄膜结晶状况较好.制备出的AlN薄膜没有明显的拉曼峰,但不锈钢衬底不仅有拉曼峰,而巨在紫外区有很强的荧光发射峰.在不锈钢上镀膜后,拉曼峰的强度有所变化并巨伴随着频移.

关 键 词:AlN薄膜  射频磁控溅射  XRD  荧光光谱  拉曼光谱  

Fabrication and Characterization of AlN Thin Films on Stainless Steel Substrates by RF Magnetron Sputtering
FAN Zhi-qin,CHEN Fei-yue.Fabrication and Characterization of AlN Thin Films on Stainless Steel Substrates by RF Magnetron Sputtering[J].Journal of Synthetic Crystals,2019,48(12):2201-2206.
Authors:FAN Zhi-qin  CHEN Fei-yue
Abstract:
Keywords:
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