| RF离子源引出特性的研究 |
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| 引用本文： | 孙振武,霍裕平,李玉晓,李涛.RF离子源引出特性的研究[J].中国物理 C,2006,30(9):902-906. |
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| 作者姓名： | 孙振武 霍裕平 李玉晓 李涛 |
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| 作者单位： | 郑州大学物理工程学院,郑州450052 |
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| 摘 要： | 为了使RF离子源具有良好的引出特性, 测试了吸极几何参数、振荡器板压、引出电压对离子源引出特性的影响, 对实验结果进行了分析. 在其他参数不变的情况下, 存在最佳的D/d; 增加D/d,有利于过聚焦的离子束恢复聚焦状态. b/D增大时, 聚焦度上升, 引出束流下降. B/d减小时,聚焦度增大; 当B/d小于4时, 聚焦度增加趋势变缓. 综合考虑聚焦度、引出束流和气压,D/d,b/D,B/d适宜的选择范围分别为1.6—2.1, 0.7—1.1, 4—7. 改变引出电压和振荡器功率对离子源性能的影响具有相反的方向, 两者都存在最佳工作点.
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| 关 键 词： | 离子源 离子束 聚焦度 |
| 收稿时间： | 2006-01-24 |
| 修稿时间： | 2006-01-242006-03-27 |
Study of Extraction Property of RF Ion Source |
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| SUN Zhen-Wu,HUO Yu-Ping,LI Yu-Xiao,LI Tao.Study of Extraction Property of RF Ion Source[J].High Energy Physics and Nuclear Physics,2006,30(9):902-906. |
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| Authors: | SUN Zhen-Wu HUO Yu-Ping LI Yu-Xiao LI Tao |
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| Affiliation: | School of Physics Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion source ion beam focusing degree |
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