首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

30℃~420℃黑体温度控制及自整定研究
引用本文:胡铁力,王红红,李四维,曹锋,胡心漪,范喆,杨毓鑫,郭健,尤越,杨科,李辉,俞洋.30℃~420℃黑体温度控制及自整定研究[J].应用光学,2023,44(2):392-397.
作者姓名:胡铁力  王红红  李四维  曹锋  胡心漪  范喆  杨毓鑫  郭健  尤越  杨科  李辉  俞洋
作者单位:1.西安应用光学研究所 国防科技工业光学一级计量站,陕西 西安 710065
基金项目:国防科技工业技术基础科研项目(JSJL2019208D001)
摘    要:作为红外标准光源,要求30℃~420℃黑体能快速升温到设定温度点,并保持温度稳定。针对其升降温功率差别大、滞后大等特点,用开关控制冲击响应自整定方法,得到黑体温升超调量、最大升降温速率等参数,采用复合智能温控策略,实现了30℃~420℃黑体温升前期快,接近设置温度时改以渐进方式达到并稳定在设定温度点。实验结果表明,实现了30℃~420℃黑体无超调地到达设定温度点,且稳定性为±0.03℃/min,该指标达到了国际同类产品水平。

关 键 词:温度控制  黑体  PID控制  大滞后系统  开关控制  自整定  阶跃响应
收稿时间:2022-05-12
本文献已被 维普 等数据库收录!
点击此处可从《应用光学》浏览原始摘要信息
点击此处可从《应用光学》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号