退火a—Ge/Pb叠层膜的扩散机制与电阻率的反常行为 |
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引用本文: | 李玉芝,许存义.退火a—Ge/Pb叠层膜的扩散机制与电阻率的反常行为[J].物理学报,1993,42(5):823-839. |
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作者姓名: | 李玉芝 许存义 |
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作者单位: | 中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,中国科学技术大学结构分析开放研究实验室 合肥 230026,合肥 230026,合肥 230026,合肥 230026,合肥 230026 |
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摘 要: | 研究了a-Ge/Pb叠层膜不同温度下退火的行为,得到:PB诱导a-Ge晶化;发现a-Ge/Pb叠层膜在退火互扩散过程中存在两种扩散机制;对a-Ge/Pb为200nm/100nm的叠层膜,在退火互扩散中择优取向的Pb膜出现重新结晶。解释了退火过程中叠层膜电阻率的反常行为。
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关 键 词: | 半导体/金属 膜 扩散 电阻率 退火 |
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