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p型导电掺In的SnO_2薄膜的制备及表征
引用本文:季振国,何振杰,宋永梁.p型导电掺In的SnO_2薄膜的制备及表征[J].物理学报,2004,53(12).
作者姓名:季振国  何振杰  宋永梁
作者单位:浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
基金项目:国家重点基础研究专项基金 (批准号 :G2 0 0 0 0 683 0 6),国家高技术研究发展计划 (批准号:2 0 0 3AA 3 A19 1)资助的课题~~
摘    要:采用溶胶 凝胶提拉法成功地制备了p型导电掺In的SnO2 薄膜 .x射线衍射测试结果表明 ,掺In的SnO2 薄膜保持SnO2 的金红石结构 .吸收谱测试结果表明 ,掺In的SnO2 禁带宽度为 3 8eV .霍尔测量结果表明 ,空穴浓度与热处理温度有很大的关系 ,5 2 5℃为最佳热处理的温度 .铟锡原子比在 0 0 5— 0 2 0范围内 ,空穴的浓度与In的含量有直接的关系 ,并随In含量的增加而增加

关 键 词:SnO2  溶胶-凝胶法  p型导电

Preparation and characterization of In-doped p-type SnO_2 thin films by sol-gel dip-coating
JI Zhen-guo,He Zhen-Jie,Song Yong-Liang.Preparation and characterization of In-doped p-type SnO_2 thin films by sol-gel dip-coating[J].Acta Physica Sinica,2004,53(12).
Authors:JI Zhen-guo  He Zhen-Jie  Song Yong-Liang
Abstract:
Keywords:SnO  2  sol-gel  p-type conductivity
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