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γ-Si3N4在高压下的电子结构和物理性质研究
引用本文:丁迎春,徐明,潘洪哲,沈益斌,祝文军,贺红亮.γ-Si3N4在高压下的电子结构和物理性质研究[J].物理学报,2007,56(1).
作者姓名:丁迎春  徐明  潘洪哲  沈益斌  祝文军  贺红亮
基金项目:四川省教育厅资助项目;四川师范大学重点研究经费
摘    要:采用基于密度泛函平面波赝势方法(PWP)和广义梯度近似(GGA-PW91),计算了不同压强下γ-Si3N4的电子结构、光学性质和力学性质.基于计算结果,分析讨论了γ-Si3N4各物理参数随外压力的变化规律.计算表明,γ-Si3N4是一种适合于在高压条件下工作的材料.

关 键 词:γ-Si3N4  光学性质  力学性质  高压

Electronic structure and physical properties of γ-Si3N4 under high pressure
Ding Ying-Chun,Xu Ming,Pan Hong-Zhe,Shen Yi-Bin,Zhu Wen-Jun,He Hong-Liang.Electronic structure and physical properties of γ-Si3N4 under high pressure[J].Acta Physica Sinica,2007,56(1).
Authors:Ding Ying-Chun  Xu Ming  Pan Hong-Zhe  Shen Yi-Bin  Zhu Wen-Jun  He Hong-Liang
Abstract:
Keywords:
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