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TM掺杂Ⅱ-Ⅳ-V2黄铜矿半导体的电磁性质
引用本文:曾永志,黄美纯.TM掺杂Ⅱ-Ⅳ-V2黄铜矿半导体的电磁性质[J].物理学报,2005,54(4):1749-1755.
作者姓名:曾永志  黄美纯
作者单位:厦门大学物理系,厦门,361005
基金项目:国家自然科学基金(批准号:10274946,60336010)资助的课题
摘    要:利用自旋局域密度泛函的第一性原理对3d过渡金属(TM=V,Cr,Mn,Fe,Co和Ni)掺杂的Ⅱ-Ⅳ-V2(CdGeP2和ZnGeP2)黄铜矿半导体的电磁性质进行系统计算.结果发现V和Cr掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现铁磁状态(FM),Mn,Fe以及Co掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现反铁磁状态(AFM),而Ni掺杂时,稀磁半导体(DMS)的磁性比较不稳定.其中Cr掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将可能是具有较高居里温度Tc的DMS.当TM-3d电子的t2g态部分被填充时,其掺杂的DMS将出现FM状态;而当TM-3d电子的t2g态全满或者全空时,其掺杂的DMS将出现AFM状态.在(Cd,Mn)GeP2和(Zn,Mn)GeP2中分别掺入电子和空穴载流子,可以发现载流子是否具有TM-3d电子的巡游特性是DMS是否出现FM状态的主要原因.

关 键 词:稀磁半导体  过渡金属  双交换作用  铁磁状态
文章编号:1000-3290/2005/54(04)/1749-07
修稿时间:2004年8月10日

Electronic and magnetic properties of 3d transition-metal-doped Ⅱ- Ⅳ-V2 chalcopyrite semiconductor
ZENG Yong-zhi,HUANG Mei-chun.Electronic and magnetic properties of 3d transition-metal-doped Ⅱ- Ⅳ-V2 chalcopyrite semiconductor[J].Acta Physica Sinica,2005,54(4):1749-1755.
Authors:ZENG Yong-zhi  HUANG Mei-chun
Abstract:
Keywords:
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