| 沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响 |
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| 引用本文： | 丁万昱,王华林,苗壮,张俊计,柴卫平.沉积参数对SiNx薄膜结构及阻透性能的影响[J].物理学报,2009,58(1). |
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| 作者姓名： | 丁万昱 王华林 苗壮 张俊计 柴卫平 |
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| 作者单位： | 1. 光电材料与器件研究所,大连交通大学,大连,116028;材料科学与工程学院,大连交通大学,大连,116028
2. 国家包装产品质量监督检验中心,大连,116028 |
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| 摘 要： | 利用直流脉冲磁控溅射法在室温下制备无氢SiNx,薄膜.通过傅里叶变换红外光谱、台阶仪、紫外一可见分光光度计、接触角测量仪、透湿测试仪等表征技术,分析了N2流量、Si靶溅射功率等实验参数对SiNx薄膜成分、结构、及阻透性能、透光性能、接触角等性能的影响.研究结果表明,Si靶溅射功率固定时,在低N2流量条件下,或N2流量固定时,在高Si靶溅射功率条件下,制备的SiN,薄膜中Si-N键含量高,结构致密,薄膜对H2O的阻透性能优良,随着N2流量的增加或者Si靶溅射功率的降低,SiNx,薄膜成分、结构发生变化,红外光谱发生偏移,其对H2O的阻透性能下降.在N2流量为6 sccm,Si靶溅射功率为300 W时制备的SiN,薄膜在可见光波段透过率超过97.5%,对H2O的接触角为30,同时其对H2O的渗透系数最低,为0.764,综合性能满足柔性有机电致发光器件封装用阻透膜的要求,因此SiNx薄膜有望成为新一代柔性有机电致发光器件封装用阻透材料.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 微观结构 阻透性能 |
Influence of deposition parameter on chemical structure and moisture resistant properties for SiNx films deposited by DC pulse magnetron |
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| Ding Wan-Yu,Wang Hua-Lin,Miao Zhuang,Zhang Jun-Ji,Chai Wei-Ping.Influence of deposition parameter on chemical structure and moisture resistant properties for SiNx films deposited by DC pulse magnetron[J].Acta Physica Sinica,2009,58(1). |
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| Authors: | Ding Wan-Yu Wang Hua-Lin Miao Zhuang Zhang Jun-Ji Chai Wei-Ping |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiNx |
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