| 金属有机物化学气相沉积法生长Ga2(1-χ)In2χO3薄膜的结构及光电性能研究 |
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| 引用本文： | 杨帆,马瑾,孔令沂,栾彩娜,朱振.金属有机物化学气相沉积法生长Ga2(1-χ)In2χO3薄膜的结构及光电性能研究[J].物理学报,2009,58(10). |
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| 作者姓名： | 杨帆 马瑾 孔令沂 栾彩娜 朱振 |
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| 作者单位： | 山东大学物理学院,济南,250100 |
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| 摘 要： | 采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石(0001)衬底上制备出了Ga2(1-χ)In2χO3(χ=0.1-0.9)薄膜,研究了薄膜的结构、电学和光学特性以及退火处理对薄膜性质的影响.测量结果表明:当In组分χ=0.2时,样品为单斜β-Ga2O3,结构;χ=0.5的样品,薄膜呈现非晶结构,退火处理后薄膜结构得到明显的改善,由非晶结构转变为具有(222)单一取向的立方In2O3结构;对于χ=0.8,薄膜为立方In2O3,结构,退火后薄膜的晶体质量得到提高.在可见光区薄膜本身的透过率均达到了85%以上,带隙宽度随样品中Ga含量的改变在3.76-4.43 eV之间变化,且经退火处理后带隙宽度明显增大.
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| 关 键 词： | 金属有机物化学气相沉积 Ga2(1-χ)In2χO3 薄膜 蓝宝石衬底 退火 |
Structural, optical and electrical properties of Ga2(1-χ)In2χO3 films prepared by metalorganic chemical vapor deposition |
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| Yang Fan,Ma Jin,Kong Ling-Yi,Luan Cai-Na,Zhu Zhen.Structural, optical and electrical properties of Ga2(1-χ)In2χO3 films prepared by metalorganic chemical vapor deposition[J].Acta Physica Sinica,2009,58(10). |
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| Authors: | Yang Fan Ma Jin Kong Ling-Yi Luan Cai-Na Zhu Zhen |
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