| AIN/Si3N4 纳米多层膜的外延生长与力学性能 |
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| 引用本文： | Yu Li-Hua,董松涛,Dong Shi-Run,许俊华.AIN/Si3N4 纳米多层膜的外延生长与力学性能[J].物理学报,2008,57(8). |
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| 作者姓名： | Yu Li-Hua 董松涛 Dong Shi-Run 许俊华 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射方法制备单层AlN,Si3N4薄膜和不同调制周期的AlN/S3N4纳米多层膜.采用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和纳米压痕仪对薄膜进行表征.结果发现,多层膜中Si3N4层的晶体结构和多层膜的硬度依赖于Si3N4层的厚度.当AlN层厚度为4.0 nm、Si3N4层厚度为0.4nm时,AlN和Si3N4层共格外延生长,多层膜形成穿过若干个调制周期的柱状晶结构,产生硬度升高的超硬效应.随着Si3N4层厚的增加,Si3N4层逐步形成非晶并阻断了多层膜的共格外延生长,多层膜的硬度迅速降低,超硬效应消失.采用材料热力学和弹性力学计算了Si3N4层由晶态向非晶转变的临界厚度.探讨了AlN/Si3N4纳米多层膜出现超硬效应的机理.
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| 关 键 词： | AlN/Si3N4纳米多层膜 外延生长 应力场 超硬效应 |
Epitaxial growth and mechanical properties of AlN/Si3N4 nanostructured multilayers |
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| Yu Li-Hua,Dong Song-Tao,Dong Shi-Run,Xu Jun-Hua.Epitaxial growth and mechanical properties of AlN/Si3N4 nanostructured multilayers[J].Acta Physica Sinica,2008,57(8). |
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| Authors: | Yu Li-Hua Dong Song-Tao Dong Shi-Run Xu Jun-Hua |
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