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| 反应溅射a-SiCxNy：H薄膜特性 | |
| 引用本文： | 吴现成,王印月.反应溅射a-SiCxNy：H薄膜特性[J].物理学报,1999,48(1):134-139. |
| 作者姓名： | 吴现成 王印月 |
| 作者单位： | 兰州大学物理系 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 氢化非晶硅基 薄膜特性 反应溅射 碳氮薄膜 |
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