| N2分压对ZrN/WN纳米多层膜缺陷性质与力学性能的影响 |
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| 引用本文： | 王立群,王明霞,李德军,杨瑾,余大书,宿杰.N2分压对ZrN/WN纳米多层膜缺陷性质与力学性能的影响[J].物理学报,2007,56(6). |
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| 作者姓名： | 王立群 王明霞 李德军 杨瑾 余大书 宿杰 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;天津市应用基础研究项目;天津师范大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 利用射频磁控溅射系统在不同N2分压的条件下,制备了一系列ZrN/WN纳米多层膜.借助慢正电子湮没技术分析了样品的缺陷性质,采用纳米压痕仪研究了多层膜的力学性能.结果发现:N2分压为0.4 Pa的多层膜具有最小的空位型缺陷浓度,其中心层和膜基结合层的平均S参数分别为0.4402和0.4641,而较低或较高的N2分压都可能导致空位型缺陷浓度的增加.随着空位型缺陷浓度的减小,多层膜的硬度和临界载荷增大.对于空位型缺陷浓度最小的多层膜,其硬度和临界载荷达到最大值,分别为34.8 GPa和100 mN,说明较低的缺陷浓度有利于提高多层膜的力学件能.
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| 关 键 词： | ZrN/WN纳米多层膜 缺陷性质 力学性能 慢正电子湮没 |
Effect of N2 partial pressure on the defect properties and mechanical behaviors of nanoscale ZrN/WN multilayers |
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| Wang Li-Qun,Wang Ming-Xia,Li De-Jun,Yang Jin,Yu Da-Shu,Su Jie.Effect of N2 partial pressure on the defect properties and mechanical behaviors of nanoscale ZrN/WN multilayers[J].Acta Physica Sinica,2007,56(6). |
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| Authors: | Wang Li-Qun Wang Ming-Xia Li De-Jun Yang Jin Yu Da-Shu Su Jie |
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