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射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究
引用本文:冯博学,谢亮,王君,蒋生蕊,陈光华.射频溅射微晶NiOxHy膜电致变色性能及其机理研究[J].物理学报,2000,49(10).
作者姓名:冯博学  谢亮  王君  蒋生蕊  陈光华
作者单位:兰州大学物理系,兰州,730000
摘    要:研究了射频溅射制备的NiOx膜的电致变色性能,发现富氧非理想化学配比的NiOx(x>1)膜具有变色活性,这种膜出现Ni3+和Ni2+的混合价态,当H+注入并占据Ni空位时,导致Ni3+的t2g能级被填满,Ni3+被阴极还原为Ni2+引起光学透明,即为漂白态;反之,H+被萃取出NiOx膜,导致Ni2+的t2g能级出现空穴,Ni2+被氧化为Ni3+引起光吸收,则为着色态.

关 键 词:NiO_xH_y膜  电致变色

STUDY ON ELECTROCHROMIC PERFORMANCES AND MECHANISM OF MICROCRYSTAL NiOxHy THIN FILMS FABRICATED BY R.F.DEPOSITION
FENG BO-XUE,XIE LIANG,WANG JUN,JIANG SHENG-RUI,CHEN GUANG-HUA.STUDY ON ELECTROCHROMIC PERFORMANCES AND MECHANISM OF MICROCRYSTAL NiOxHy THIN FILMS FABRICATED BY R.F.DEPOSITION[J].Acta Physica Sinica,2000,49(10).
Authors:FENG BO-XUE  XIE LIANG  WANG JUN  JIANG SHENG-RUI  CHEN GUANG-HUA
Abstract:
Keywords:NiO\-  x  H\-  y  Thin films  Electrochromic  
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