首页 | 官方网站   微博 | 高级检索  
     

碳化硅中点缺陷对热传导性能影响的分子动力学研究
引用本文:王甫,周毅,高士鑫,段振刚,孙志鹏,汪俊,邹宇,付宝勤.碳化硅中点缺陷对热传导性能影响的分子动力学研究[J].物理学报,2022(3):249-255.
作者姓名:王甫  周毅  高士鑫  段振刚  孙志鹏  汪俊  邹宇  付宝勤
作者单位:四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室;中国核动力研究设计院核反应堆系统设计技术重点实验室
基金项目:国家自然科学基金(批准号:51501119);中央高校基本科研业务费专项资金资助的课题。
摘    要:碳化硅(SiC)由于性能优异,已广泛应用于核技术领域.在辐照环境下,载能入射粒子可使材料中的原子偏离晶体格点位置,进而产生过饱和的空位、间隙原子、错位原子等点缺陷,这些缺陷将改变材料的热物性能,劣化材料的服役性能.因此,本文利用平衡分子动力学方法(Green-Kubo方法)采用Tersoff型势函数研究了点缺陷对立方碳化硅(β-SiC或3C-SiC)热传导性能的影响规律.研究过程中考虑的点缺陷包括:Si间隙原子(Si)、Si空位(Si)、Si错位原子(SiC)、C间隙原子(C)、C空位(C)和C错位原子(CSi).研究结果表明,热导率(λ)随点缺陷浓度(c)的增加而减小.在研究的点缺陷浓度范围(点缺陷与格点的比例范围为0.2%—1.6%),额外热阻率(ΔR-Rdefect-Rperfect,R=1/λ,Rdefect为含缺陷材料的热阻率,Rperfec...

关 键 词:碳化硅  热导率  分子动力学  点缺陷

Molecular dynamics study of effects of point defects on thermal conductivity in cubic silicon carbide
Wang Fu,Zhou Yi,Gao Shi-Xin,Duan Zhen-Gang,Sun Zhi-Peng,Wang Jun,Zou Yu,Fu Bao-Qin.Molecular dynamics study of effects of point defects on thermal conductivity in cubic silicon carbide[J].Acta Physica Sinica,2022(3):249-255.
Authors:Wang Fu  Zhou Yi  Gao Shi-Xin  Duan Zhen-Gang  Sun Zhi-Peng  Wang Jun  Zou Yu  Fu Bao-Qin
Affiliation:(Key Laboratory for Radiation Physics and Technology,Ministry of Education,Institute of Nuclear Science and Technology,Sichuan University,Chengdu 610064,China;Science and Technology on Reactor System Design Technology Laboratory,Nuclear Power Institute of China,Chengdu 610200,China)
Abstract:
Keywords:silicon carbide  thermal conductivity  molecular dynamics  point defect
本文献已被 维普 等数据库收录!
点击此处可从《物理学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《物理学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司    京ICP备09084417号-23

京公网安备 11010802026262号