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电化学沉积高c轴取向ZnO薄膜及其光学性能分析
引用本文:谷建峰,付伟佳,刘明,刘志文,马春雨,张庆瑜.电化学沉积高c轴取向ZnO薄膜及其光学性能分析[J].物理学报,2007,56(10).
作者姓名:谷建峰  付伟佳  刘明  刘志文  马春雨  张庆瑜
摘    要:采用阴极还原方法,在透明导电玻璃(ITO)上制备了高c轴择优取向的ZnO薄膜.通过X射线衍射、扫描电子显微镜等表征技术,研究了沉积电流对ZnO薄膜的结构、应力状态及表面形貌的影响;利用光致荧光光谱及透射光谱等分析方法,探讨了沉积电流变化对ZnO薄膜的光学性能的影响.研究结果显示:各沉积电流下均可制得高c轴取向的ZnO薄膜;薄膜表面形貌受电流的影响较大;从透射谱可以看出,薄膜在可见光波段有较高透射率,且薄膜厚度随沉积电流的增大而增大.光致荧光测量表明,电化学沉积的ZnO薄膜具有明显的带隙展宽.而且,随着沉积电流的增加,带隙发光强度逐渐减弱,缺陷发光逐渐增强.

关 键 词:ZnO薄膜  电沉积  表面形貌  光学性能

Highly c-axis textured ZnO thin films grown by electrochemical deposition and their optical properties
Gu Jian-Feng,Fu Wei-Jia,Liu Ming,Liu Zhi-Wen,Ma Chun-Yu,Zhang Qing-Yu.Highly c-axis textured ZnO thin films grown by electrochemical deposition and their optical properties[J].Acta Physica Sinica,2007,56(10).
Authors:Gu Jian-Feng  Fu Wei-Jia  Liu Ming  Liu Zhi-Wen  Ma Chun-Yu  Zhang Qing-Yu
Abstract:
Keywords:
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