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自发形核生长的AlN单晶湿法腐蚀研究
引用本文:刘理想,曹凯,汪佳,任忠鸣,邓康,吴亮.自发形核生长的AlN单晶湿法腐蚀研究[J].人工晶体学报,2017,46(7):1239-1243.
作者姓名:刘理想  曹凯  汪佳  任忠鸣  邓康  吴亮
作者单位:省部共建高品质特殊钢冶金与制备国家重点实验室,上海市钢铁冶金新技术开发应用重点实验室,上海大学材料科学与工程学院,上海 200072
基金项目:国家自然科学基金(51401116;51404148),上海市科委基金(13DZ1108200
摘    要:采用湿法腐蚀工艺,使用熔融态KOH和NaOH作为腐蚀剂,对一种物理气相传输(PVT)自发形核新工艺在2100~2250 ℃条件下生长的AlN单晶进行了腐蚀实验.通过实验及扫描电子显微镜(SEM)结果分析,得到了典型的AlN单晶c面、r系列面及m面最佳的腐蚀工艺参数及腐蚀形貌.另外,基于腐蚀形貌分析,发现了采用该自发形核新工艺生长的AlN晶体某些独特习性并计算出AlN单晶腐蚀坑密度(EPD).

关 键 词:AlN单晶  自发形核  湿法腐蚀  

Research on Wet-etching of AlN Single Crystals Grown by Spontaneous Nucleation
LIU Li-xiang,CAO Kai,WANG Jia,REN Zhong-ming,DENG Kang,WU Liang.Research on Wet-etching of AlN Single Crystals Grown by Spontaneous Nucleation[J].Journal of Synthetic Crystals,2017,46(7):1239-1243.
Authors:LIU Li-xiang  CAO Kai  WANG Jia  REN Zhong-ming  DENG Kang  WU Liang
Abstract:AlN single crystals prepared by a novel spontaneous physical vapor transport (PVT) growth approach at 2100-2250 ℃ were etched in molten KOH/NaOH eutectic alloy.All samples were investigated by scanning electron microscope (SEM) after wet-etching, optimal parameters and morphologies for c-plane, r-planes and m-plane of AlN single crystals are obtained.The growth habits and etch pit densities (EPD) of crystals grown by proposed novel spontaneous approach are also revealed.
Keywords:AlN single crystal  spontaneous nucleation  wet-etching
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