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| Silicon nitride films prepared by helicon wave plasam—enhanced chemical vapour deposition | |
| 作者姓名： | YuWei LiuLi-Hui HouHai-Hong DingXue-Cheng HanLi FuGuang-Sheng |
| 作者单位： | CollegeofPhysicsScienceandTechnology,HebeiUniversity,Baoding071002,China |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 氮化硅薄膜 螺旋波等离子体增强化学气相沉积 SiN薄膜 HWP－CVD |
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