QF1基底上可见光区宽带增透膜研究 |
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引用本文: | 朱华新,刘桂林,高劲松,王彤彤,李帅,严慧敏,郭颖,李果华.QF1基底上可见光区宽带增透膜研究[J].人工晶体学报,2013,42(6):1104-1108. |
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作者姓名: | 朱华新 刘桂林 高劲松 王彤彤 李帅 严慧敏 郭颖 李果华 |
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作者单位: | 江南大学理学院,无锡,214122;江南大学物联网工程学院,无锡,214122;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室,长春130033 |
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摘 要: | 本文以QF1为基底设计了一种宽带可见光区增透膜,即:增透波长0.4~0.8 μm,工艺实现采用了电子束蒸发物理气相沉积的方法,薄膜材料仅含有TiO2和SiO2,并分别作为高低折射率材料.利用Edinburgh光谱仪对双面镀制该膜系样品的透过率进行测量,测试结果表明平均透过率达98.43;,通过SEM的膜层截面证实膜层比设计略偏厚,导致测试透过率与设计相比略有红移,但实际样品的光学特性与设计结果基本相符,具有宽带的增透特性.环境测试表明:薄膜具有良好的稳定性和牢固度.该增透膜可以应用于可靠性要求较高的环境中.
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关 键 词: | 光学薄膜 电子束蒸发物理气相沉积 透过率 |
Study on Wideband Anti-reflection Coatings of QF1 Substrate in the Visible Light Spectrum |
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