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射频磁控溅射法生长MgxZn1-xO薄膜的结构和光学特性
引用本文:张锡健,马洪磊,王卿璞,马瑾,宗福建,肖洪地,计峰. 射频磁控溅射法生长MgxZn1-xO薄膜的结构和光学特性[J]. 物理学报, 2005, 54(9)
作者姓名:张锡健  马洪磊  王卿璞  马瑾  宗福建  肖洪地  计峰
基金项目:高等学校博士学科点专项科研项目
摘    要:用射频磁控溅射法在80℃的衬底温度下制备出MgxZn1-xO(0≤x≤0.30)薄膜.x射线衍射(XRD)结果表明,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,没有形成任何显著的MgO分离相,MgxZn1-xO薄膜的择优取向平行于与衬底垂直的c轴;c轴晶格常数随着Mg含量的增加逐渐减小.在MgxZn1-xO薄膜的光透射谱中出现锐利的吸收边,由透射谱估算出MgxZn1-xO薄膜的带隙宽度由3.32eV(x=0)线性地增加到3.96eV(x=0.30).

关 键 词:MgxZn1-xO薄膜  射频磁控溅射  Mg含量

Structural and optical properties of MgxZn1-xO thin films deposited by radio frequency magnetron sputtering
ZHANG Xi-jian,MA Hong-lei,WANG Qing-pu,Ma Jin Zong,Fu-Jian,XIAO Hong-di,Ji Feng. Structural and optical properties of MgxZn1-xO thin films deposited by radio frequency magnetron sputtering[J]. Acta Physica Sinica, 2005, 54(9)
Authors:ZHANG Xi-jian  MA Hong-lei  WANG Qing-pu  Ma Jin Zong  Fu-Jian  XIAO Hong-di  Ji Feng
Abstract:
Keywords:
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